「antireflection」に関連した英語例文の一覧と使い方(56ページ目) - Weblio英語例文検索

The optical multilayer film 10 comprises a base film 1 for transmitting light, a hard coat layer 2 on the base film 1, an antireflection film 3 constituted of a plurality of layers, and an antifouling layer 4.例文帳に追加

光学多層膜フィルム１０は、光を透過させるための基材フィルム１と、基材フィルム１の上面にハードコート層２と複数層からなる反射防止膜３と、防汚層４と、を備えて構成される。 - 特許庁

To obtain an optical element having a porous antireflection film whose refractive index is low and also having a large transmitted light quantity as the entire element, and to inexpensively manufacture the optical device.例文帳に追加

低屈折率の多孔質反射防止膜を有する光学素子であって、素子全体として大きな透過光量を有する光学素子、及びかかる光学素子を低コストで製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical article having heat resistance and satisfactory antireflection property using a plastic substrate having a refractive index lower than 1.67 used in the fields of lenses, etc., and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

レンズ等の分野で使用される屈折率が１．６７より低いプラスチック基材を用いて、耐熱性と十分な反射防止特性を備えた光学物品およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To obtain a composition for a film under a resist disposed between the resist and an antireflection film, having both adhesion to the resist and resistance to a resist developing solution and also having resistance to oxygen ashing in the removal of the resist.例文帳に追加

レジストと反射防止膜の間に設け、レジストとの密着性と耐レジスト現像液性を兼ね揃え、更にはレジスト除去時の酸素アッシングに対して耐性の有るレジスト下層用組成物を得る。 - 特許庁

To provide an optical filter which can be grounded without narrowing a visual field even when an antireflection layer consisting essentially of a fluorine monomer material is used, and to provide a plasma apparatus with the optical filter.例文帳に追加

視野を狭くすることなく、主成分がフッ素モノマー材料である反射防止層を用いた場合であってもアースを取ることができる光学フィルタ及びそれを備えたプラズマ装置を提供する。 - 特許庁

By making a difference in plastic deformation amount according to the difference of material between the particulates 12a and binder 12b in the layer 12, fine irregularities 14 is formed on the surface of the antireflection coating 13.例文帳に追加

ハードコート層１２内の微粒子１２ａとバインダ１２ｂとの材質差によって塑性変形量に差を持たせ、これにより反射防止膜１３の表面に微細な凹凸１４を形成する。 - 特許庁

A wafer 11 formed with the resist pattern 16 is charged in a dry etching apparatus, and an antireflection film 15 and a silicon nitride film 14 are dry etched with the pattern 16 used as an etching mask.例文帳に追加

レジストパターン１６が形成されたウエハ１１をドライエッチング装置に投入し、レジストパターン１６をエッチングマスクとして、反射防止膜１５及びシリコン窒化膜１４に対してドライエッチングを行なう。 - 特許庁

To obtain a composition for a resist underlayer film disposed between a resist and an antireflection film, having both of adhesion to the resist and resistance to a resist developing solution, and further having resistance to oxygen ashing in resist removal.例文帳に追加

レジストと反射防止膜の間に設け、レジストとの密着性と耐レジスト現像液性を兼ね備え、更にはレジスト除去時の酸素アッシングに対して耐性の有るレジスト下層用組成物を得る。 - 特許庁

The production efficiency of the optical element can be improved by molding the optical elements such as f θ lens having the antireflection effect by using the mold on which such the fine structure is engraved.例文帳に追加

このような微細構造を刻設した金型を用いて、反射防止効果をもつｆθレンズ等の光学素子をモールド成形することにより、光学素子の生産効率を向上させることができる。 - 特許庁

To provide a method for efficiently producing silica-based multiple oxide particles having high monodispersity and high circularity and extremely useful as an additive for an antireflection layer and a transparent high refractive index resin or film.例文帳に追加

反射防止層や透明な高屈折率樹脂やフィルムの添加剤として極めて有用な単分散性、円形度の高いシリカ系複合酸化物粒子を効率的に製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for a resist underlay film having excellent etching selectivity and preferable antireflection ability against short wavelengths and to provide a resist underlay film and a method for forming a pattern on a substrate both using the above composition.例文帳に追加

優れたエッチング選択性を有し、かつ、短波長に対する反射防止能が良好なレジスト下層膜用組成物、及びこれを用いたレジスト下層膜及び基板のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The antireflection layer with the minimum reflectance at 1300±50 nm as the first wavelength and at 1550±50 nm as the second wavelength according to the above conditions can be obtained from an optical multilayered film 20 having a four-layer structure.例文帳に追加

この条件により第１の波長が１３００±５０ｎｍ、第２の波長が１５５０±５０ｎｍで反射率が極小となる反射防止層が４層構成の光学多層膜２０で実現できる。 - 特許庁

To provide an optical laminated polyester film which has a high color purity, a high contrast and an excellent antireflection performance to be developed without lowering a luminance and can be continued for a long time.例文帳に追加

輝度を低下させることなく、高い色純度、高いコントラストおよび優れた反射防止性能を発現させ、これらを長期間持続させることができる光学用積層ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

With a resist 7 pattern-formed in advance on a synthetic resin layer 2 above an electrode pad 3, an antireflection film 8 is removed together with the resist 7 so that a surface of the synthetic resin layer 2 is exposed.例文帳に追加

電極パッド３の上方の合成樹脂層２上にレジスト７を予めパターン形成し、レジスト７とともに反射防止膜８を除去することにより、合成樹脂層２の表面を露出させる。 - 特許庁

To provide a silica layer having an excellent chemical resistance even when the silica layer is formed by a plasma enhanced CVD process and to provide an antireflection film utilizing this silica layer.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ法により形成した場合であっても耐薬品性に優れているシリカ層を提供すること、及び当該シリカ層を利用した反射防止フィルムを提供することを主目的とする。 - 特許庁

By keeping the above structural state, the antireflection coating giving high durability against the inner layer stress and thermal stress as well as permanent laser durability can be produced.例文帳に追加

これらの構成組織状態を固持することによって、内部層ストレスおよび熱ストレスに対する高い耐性と同様に、永久的なレーザー耐性をも供給する、反射防止コーティングが製造可能である。 - 特許庁

To provide an antireflection sheet capable of providing an excellent performance by displaying superior transparency through maintaining excellent transmittance and low reflectivity even under a severe environment including an outdoor environment.例文帳に追加

屋外を含む過酷な環境下においても、良好な透過率及び低反射率を有することにより、優れた透明性を発揮して良好な性能を期待できる反射防止シートを提供する。 - 特許庁

By controlling the nitrogen content to the aforementioned range and controlling the total content of nitrogen and oxygen to be 50 atom% or higher, chemical resistance of the surface of the antireflection film 14 is improved.例文帳に追加

そして、窒素の含有率を上記範囲とし、かつ窒素と酸素の含有率の合計を５０ａｔｏｍ％以上とすることで反射防止膜１４の表面の薬品耐性を向上させている。 - 特許庁

The moire dissolving filter 111 for re-photographed images including a low-pass film 103, an antireflection film 101 and a fixing plate 102 for fixing them is configured and mounted on an image monitor 202.例文帳に追加

低域通過フィルム１０３と反射防止フィルム１０１とそれらを固定する固定板１０２とを有する再撮影像用モアレ解消フィルタ１１１を構成し、画像モニタ２０２に装着した。 - 特許庁

The stoichiometric ratio of oxygen and chromium which is required for chromium oxide as the antireflection coating and the film thickness are regulated by optimizing probe height, humidity, scanning rate, and pulse voltage and time.例文帳に追加

反射防止膜としての酸化クロムに必要とされる酸素とクロムの化学量論比や膜厚は探針の高さ、湿度、走査速度、パルス電圧と時間を最適化することにより調整する。 - 特許庁

The transfer type antireflection laminated polyester film has the mold release layer containing a silicone compound on at least one side of a polyester film stretched at least in a uniaxial direction.例文帳に追加

少なくとも一軸方向に延伸されたポリエステルフィルムの少なくとも片面に、シリコーン化合物を含有する離型層を有することを特徴とする転写性反射防止用積層ポリエステルフィルム。 - 特許庁

The coating agent for antireflection comprises: fine particles whose average particle size is 50 to 200 nm and at least the surface is made of a polyorganosiloxane compound or a fluorine compound; and a binder component.例文帳に追加

平均粒子径が５０〜２００ｎｍであり、かつ、少なくとも表面がポリオルガノシロキサン化合物又はフッ素化合物からなる微粒子と、バインダー成分とを含有する反射防止用コーティング剤。 - 特許庁

To provide an antireflection body capable of obtaining high transmittance in a ≤450nm wavelength region and having high adhesion, high durability and high productivity, and a display device using the same.例文帳に追加

４５０ｎｍ以下の波長領域について高い透過率が得られると共に、高い密着性、高い耐久性、および高い生産性を備える反射防止体とこれを用いたディスプレイ装置を提供する。 - 特許庁

The plastic lens comprises a plastic base material, a hard coat layer formed on the plastic base material, and at least one organic antireflection film formed on the hard coat layer.例文帳に追加

プラスチック基材と、プラスチック基材上に形成されているハードコート層と、ハードコート層上に形成されている、少なくとも１層以上の有機反射防止膜とを備えているプラスチックレンズを構成する。 - 特許庁

To form a resist laminate having a satisfactory antireflection effect in a photolithography process using light in a vacuum ultraviolet region, and also having satisfactory development properties in a development process.例文帳に追加

真空紫外領域の光線を利用するフォトリソグラフイープロセスにおいて充分な反射防止効果を有し、かつ現像プロセスにおいても充分な現像特性を有するレジスト積層体を形成する。 - 特許庁

The light absorbing type antireflection film is set so that its minimum reflectance is ≤0.5%, its transmittance at 550 nm wavelength is ≥70% and its reflectance at 400 nm wavelength is ≤2%.例文帳に追加

この光吸収型反射防止フィルムは、最小反射率が０．５％以下、波長５５０ｎｍにおける透過率が７０％以上、波長４００ｎｍにおける反射率が２％以下である。 - 特許庁

To provide a near infrared ray shielding film having sufficient antireflection performance, antistatic performances and near infrared ray absorption power, and having excellent heat resistance, etc. even without laminating a hard coat layer.例文帳に追加

十分な反射防止性能、帯電防止性能、近赤外線吸収能を有しながら、ハードコート層を積層していなくても耐熱性等に優れる近赤外線遮蔽フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide an optical element having a configuration capable of maintaining an optical performance for a long term without accidentally injuring an antireflection film disposed on the optical element, and to provide optical equipment comprising the optical element.例文帳に追加

光学素子に設けられた反射防止膜を誤って傷つけてしまうようなことがなく、光学性能を長期的に維持することが可能な構成の光学素子及び光学機器を提供する。 - 特許庁

To provide a simple and robust light transmissive optical component which is bright without using an antireflection film, and keeps brightness for a long time, and to provide lighting equipment using the light transmissive optical component.例文帳に追加

反射防止膜を用いなくとも明るく、また長期間使用しても明るいまま維持でき、簡易な構造で丈夫な光透過性光学部品、及びそれを用いた照明器具を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an antireflection film capable of improving manufacturing efficiency by forming a multilayer structure with two or more layers in one application process; to provide an antireflection film that is obtained by the manufacturing method and excellent in reflectance, adhesion, scratch resistance, and improvement of planar failure; and to provide a coating composition used in forming the multilayer structure.例文帳に追加

本発明は、１度の塗布工程で２層以上の多層構造を形成することにより製造効率を向上させることができる反射防止フィルムの製造方法、該製造方法により得られる反射率、密着性、耐擦傷性、面状故障の改良の観点で優れた反射防止フィルム、並びに前記多層構造を形成するために用いられる塗布組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

The composition for forming the antireflection film which is disposed below a resist film and reduces reflected light from the lower layer side of the resist film in the production of a semiconductor device contains a light absorbing antireflection component containing at least a substituted calixarene derivative or an inclusion complex of a substituted calixarene derivative and a substituted fullerene derivative.例文帳に追加

半導体装置の製造において、レジスト膜よりも下層に設けられて、前記レジスト膜の下層側からの反射光を抑制する反射防止膜を形成する組成物であって、少なくとも置換型カリックスアレン誘導体を含む、あるいは、置換型カリックスアレン誘導体と置換型フラーレン誘導体の包接錯体を含む光吸収性反射防止成分を含有する反射防止膜形成用組成物とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the solid-state image sensor includes a barrier forming step of forming a barrier on a scribe line defining an element forming region including an imaging region having microlenses formed on the surface thereof with a predetermined gap provided between the sidewall of the element forming region and the barrier, an antireflection film forming step of forming an antireflection film on the surfaces of the microlenses and in the gap, and a barrier removing step of removing the barrier.例文帳に追加

表面にマイクロレンズが形成された撮像領域を含む素子形成領域を区画するスクライブライン上に、素子形成領域の側壁との間に所定の間隙設けて障壁部を形成する障壁部形成工程と、マイクロレンズ表面及び前記間隙内に反射防止膜を形成する反射防止膜形成工程と、障壁部を除去する障壁部除去工程とを有する。 - 特許庁

In the method for producing an optical article having an antireflection layer, a formed part having a three-dimensional shape is arranged on the space between a discharge electrode and a counter electrode arranged so as to be confronted, and discharge plasma is generated to form an antireflection layer on the surface of the formed part, the discharge electrode and the counter electrode have the shape to be screwed onto the formed part.例文帳に追加

対向して配置された放電電極及び対向電極の間に、三次元形状を有する成形品を配置し、放電プラズマを発生させて該成形品の表面に反射防止層を形成する光学物品の製造方法において、放電電極及び対向電極が該成形品と嵌合する形状を有していることを特徴とする反射防止層を有する光学物品の製造方法。 - 特許庁

The light absorbing antireflection body 10 comprises a light absorbing film 12 formed on a substrate 11 and containing fine pigment particles and fine particles having a high refractive index and an antireflection multilayer film 13 formed on the light absorbing film 12 as a multilayer structure 14, 15 including an electrically conductive thin film as at least the layer 14. and having function to attenuate reflected light to incident light by interference.例文帳に追加

基材１１上に形成された顔料微粒子及び高屈折率の微粒子を含む光吸収膜１２と、この光吸収膜１２上に多層構造１４，１５で形成され、かつその少なくとも１つの層１４が導電性薄膜から成り、光干渉によって入射光に対する反射光を減衰させる反射防止多層膜１３とから成る光吸収性反射防止体１０を構成する。 - 特許庁

To provide an antireflection structure which is constituted by forming an infinite number of conical minute projections having size of a light wavelength or less at a pitch of the light wavelength or less and which makes surface hardness of the minute projection and flexibility of the structure compatible and has both antireflectiveness and excellent durability, and to provide an automobile member equipped with the antireflection structure such as a meter panel and window glass.例文帳に追加

光の波長以下の大きさを有する無数の錐体状微細突起を光の波長以下のピッチに形成して成る反射防止構造において、微細突起の表面硬さと構造の柔軟性を両立させ、反射防止性に加えて、優れた耐久性を有する反射防止構造と、このような反射防止構造を備えた自動車用部材、例えばメーターパネルやウインドウガラスなどを提供する。 - 特許庁

In the antireflection film, in which an antireflection layer having at least one high refractive index region and at least one low refractive index region thereon are formed on a substrate film, the low refractive index region on the surface has 1.3 to 1.5 refractive index, contains silicon, and has a region where the carbon content increases stepwise or continuously toward the surface.例文帳に追加

基材フィルム上に、少なくとも１つの高屈折率領域とその上方に少なくとも１つの低屈折率領域とを有する反射防止層が形成されている反射防止フィルムにおいて、表面の低屈折率領域は屈折率１．３〜１．５であり、かつ珪素を含有し、表面に向かって段階的もしくは連続的に炭素含有量が増加する領域を有することを特徴とする反射防止フィルム。 - 特許庁

The antireflection film or image display device is obtained by using the antireflection coating having a low-refractive-index layer formed by applying and hardening a composition for coating formation containing a graft copolymer (GP) containing at least one kind among respective repetition units (component (A), component (B), and component (C)) expressed by formula (I) and at least one kind between a hardener and a hardening accelerator.例文帳に追加

式（Ｉ）で示される各繰り返し単位（成分（Ａ）、成分（Ｂ）及び成分（Ｃ））を、各々少なくとも一種含有するグラフト共重合体（ＧＰ）、並びに、硬化剤及び硬化促進剤のうちの少なくとも一種を含有する皮膜形成用組成物を塗設、硬化させることにより形成された低屈折率層を有する反射防止膜を用いて、反射防止フィルム又は画像表示装置とする。 - 特許庁

To provide a resist underlayer film material which shows an excellent antireflection effect on exposure light by using together with, if necessary, a resist intermediate layer film having an antireflection effect, which has excellent etching durability during etching a substrate rather than polyhydroxystyrene, cresol novolac or the like and a high poisoning resistant effect, and which is suitable to be used for a multilayer resist process such as a two-layer or three-layer resist process.例文帳に追加

レジスト下層膜材料であって、必要により反射防止効果のあるレジスト中間層膜と併せることで露光光に対して優れた反射防止効果を示し、かつ、ポリヒドロキシスチレン、クレゾールノボラックなどよりも基板エッチング時のエッチング耐性に優れ、耐ポイゾニング効果が高く、多層レジストプロセス、例えば２層又は３層レジストプロセスでの使用に好適なレジスト下層膜材料を提供する。 - 特許庁

When a photoresist relief image is formed on a substrate having a topography, (a) a layer of antireflection composition containing polymer having molecular weight of at most about 8,000 is applied on the substrate, (b) the layer of a photoresist composition is applied on the antireflection composition layer, and (c) the photoresist layer is exposed to activated radiant rays, and the exposed photoresist layer is developed.例文帳に追加

トポグラフィーを有する基体上にフォトレジストレリーフイメージを形成する方法であって、（ａ）約８、０００以下の分子量を有するポリマーを含む反射防止組成物の層を基体上に適用し、（ｂ）該反射防止組成物層の上にフォトレジスト組成物の層を適用し、および（ｃ）活性化放射線によりフォトレジスト層を露光し、露光したフォトレジスト層を現像する、ことを含む、フォトレジストレリーフイメージを形成する方法。 - 特許庁

In the manufacturing method of the anti-glaring antireflection film by imparting unevenness to the surface of a film having an antireflection layer by emboss processing using an embossing plate and a support member, the emboss processing is performed using the embossing plate on the back side opposite to the visual conforming side of the film and an elastic member on the side of the visual conforming side of the film as the support member.例文帳に追加

凹凸板、支持部材を用いたエンボス加工によって、反射防止層を有するフィルムの表面に凹凸を付与する防眩性反射防止フィルムの製造方法において、前記エンボス加工は、凹凸板を、前記フィルムの視認側と反対の裏面側に、また、前記フィルムの視認側に、前記支持部材として弾性部材を用いたエンボス加工であることを特徴とする防眩性反射防止フィルムの製造方法。 - 特許庁

In a light absorbing antireflection body 10 comprising a light absorbing film 11 formed on a substrate 22 and an antireflection multilayer film 12 formed on the film 11 as a multilayer structure, a fine powder having a high refractive index is contained in the light absorbing film 11 and the refractive index of the film 11 is made equal to that of the substrate 22 by adjusting the content of the fine powder.例文帳に追加

基材２２上に形成された光吸収膜１１と、その上に多層構造で形成された反射防止多層膜１２とからなる光吸収性反射防止体１０において、光吸収膜１１に高屈折率微粉末を含有するとともに、その高屈折率微粉末の含有率の調整によって当該光吸収膜１１の屈折率を前記基材２２の屈折率と略同等にする。 - 特許庁

To provide a curable resin composition giving a cured film, which has a low refractive index and is excellent in scratch resistance and excellently resistant to whitening on wiping-off, and an antireflection film having a low refractive index layer composed of the cured product.例文帳に追加

屈折率が低く、耐擦傷性及び耐拭き取り白化性に優れる硬化膜を与える硬化性樹脂組成物及びその硬化物からなる低屈折率層を有する反射防止膜を提供する。 - 特許庁

After the contact holes 15 are filled with an antireflection film 16b and the resist 17, the resist 17 is so patterned that it may be left over on the contact holes 15 in a larger area than that of an opening of each contact hole 15.例文帳に追加

コンタクトホール１５が反射防止膜１６ｂ及びレジスト１７で埋め込まれた後、コンタクトホール１５上にこのコンタクトホール形成部１５の開口より大きな面積が残るように、レジスト１７がパターニングされる。 - 特許庁

To provide an antireflection film excellent in producibility, capable of eliminating the problem of display characteristic irregularity in a display device, and especially excellent in long-term durability under high-temperature and high-humidity conditions that are needed by a TV panel and a monitor.例文帳に追加

生産性に優れ、表示装置の表示性能ムラを均一化することが可能で、テレビやモニタで必要とされる高温高湿下での長期耐久性に特に優れた反射防止フィルムを提供すること。 - 特許庁

To provide an antireflection film showing excellent characteristic in terms of all the items such as flatness, handleability, scratch resistance, pencil hardness, thermal cracks, antifouling property and solvent resistance, and to provide a polarizing plate and a display device using the film.例文帳に追加

平面性、取り扱い性、耐擦傷性、鉛筆硬度、熱クラック、防汚性、耐溶剤性の全ての項目において、優れた特性を示す反射防止フィルム、該フィルムを用いた偏光板及び表示装置を提供する。 - 特許庁