「antireflection」に関連した英語例文の一覧と使い方(72ページ目) - Weblio英語例文検索

The double layer structure antireflection film is used in exposing a resist layer in an exposure system having a wavelength of 190-195 nm and having a numerical aperture of 1.1-1.2, and is formed between the resist layer and a silicon nitride film formed on the surface of the silicon semiconductor substrate.例文帳に追加

２層構造反射防止膜は、１９０〜１９５nmの波長を有し、開口数が１．１を越え１．２以下である露光系にてレジスト層を露光する際に用いられる、レジスト層とシリコン半導体基板の表面に形成されたシリコン窒化膜との間に形成され、反射防止膜を構成する上層、下層の複素屈折率N_1,N_2を、N_1=n_1−k_1i,N_2=n_2−k_2iとし、上層、下層の膜厚をd_1,d_2とし、[n_10,k_10,d_10,n_20,k_20,d_20]の値の組合せとして所定の組合せを選択したとき、n_1,k_1,d_1,n_2,k_2,d_2が、以下の関係式を満足する。 - 特許庁

To provide a low moisture vapor transmissive hard coat film formed by laminating a hard coat layer on a transparent base material, preventing lowering of durability caused by deformation of a PVA layer due to water absorption in a high temperature and high humidity environment, deterioration of a polarizer and hydrolysis of a TAC film, retention of moisture in an antireflection film generated from the polarizing plate or the TAC film itself in a high temperature environment.例文帳に追加

透明基材上にハードコート層を積層したハードコートフィルムにおいて、高温高湿環境下におけるＰＶＡ層の吸水による変形、偏光子の劣化およびＴＡＣフィルムの加水分解、および高温環境下においての偏光板やＴＡＣフィルムそのものから発生した水分が反射防止フィルム中に滞ることにより、耐久性が低下を改善することができる低透湿度ハードコートフィルムを提供する。 - 特許庁

The multilayered antireflection film has an optical interference layer laminated on a transparent substrate and includes at least one layer formed by applying and drying a solution prepared by dissolving benzoyl substituted poly(p-phenylene) and/or benzoyl substituted poly(p/m-phenylene) in a solvent containing at least one solvent selected from the group comprising N-methylpyrrolidone, dimethylformamide and halogenated hydrocarbons as a high refractive index layer.例文帳に追加

透明基材上に光学干渉層が積層されてなる多層反射防止膜において、ベンゾイル置換ポリ（ｐ−フェニレン）、及び／又はベンゾイル置換ポリ（ｐ／ｍ−フェニレン）を、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド及びハロゲン化炭化水素からなる群から選ばれる少なくとも一種の溶剤を含有する溶剤に溶解させて得られる溶液を塗布、乾燥してなる層を、高屈折率層として少なくとも一層を含有することを特徴とする多層反射防止膜。 - 特許庁

In the antireflection film having a hard coat layer principally composed of active energy ray curing resin and the low refractive index layer provided by a coating system on the hard coat layer directly or through another layer on a transparent supporting body composed of polylactic acid resin, the low refractive index layer contains hollow silica particulates which have an outer shell layer and whose inside is porous or void, or fluororesin.例文帳に追加

ポリ乳酸系樹脂からなる透明支持体上に、活性エネルギー線硬化樹脂を主成分とするハードコート層及び該ハードコート層上に直接または他の層を介して、塗布方式により設けられた低屈折率層を有する反射防止フィルムにおいて、該低屈折率層が外殻層を有し内部が多孔質または空洞の中空シリカ系微粒子、またはフッ素系樹脂を含有することを特徴とする反射防止フィルム。 - 特許庁

The method of making the plasma display apparatus having the film filter formed by laminating the multiple functional films according to the present invention includes the steps of (a) blackening the entire surface of the electromagnetic interference shielding film by coating with a conductive material, (b) forming the black frame by laminating a color-dye film on the electromagnetic interference shielding film, and (c) laminating an antireflection film on the color-dye film.例文帳に追加

また、本発明は複数の機能性フィルム層が積層されて成り立ったフィルムフィルターが含まれたプラズマ表示装置製造方法において、前記フィルムフィルター製造工程は(ａ)電磁波遮蔽のためのフィルム層表面全体を導電性物質に鍍金して黒化させる段階、(ｂ)前記電磁波遮蔽フィルム層にカラーダイフィルム層を積層してブラックフレームを形成する段階、及び(ｃ)前記カラーダイフィルム層に反射防止フィルム層を積層する段階を含む。 - 特許庁

The antireflection film material to be used for lithography contains at least a polymer compound having a repeating unit by the copolymerization expressed by general formula (1), or a polymer compound having a repeating unit by the copolymerization expressed by general formula (2) and a polymer compound having a repeating unit by the copolymerization expressed by general formula (3).例文帳に追加

リソグラフィーで用いられる反射防止膜材料であって、少なくとも、下記一般式（１）で示される共重合による繰り返し単位を有する高分子化合物を含むもの、又は下記一般式（２）で示される共重合による繰り返し単位を有する高分子化合物と、下記一般式（３）で示される共重合による繰り返し単位を有する高分子化合物を含むものであることを特徴とする反射防止膜材料。 - 特許庁

This manufacturing method of a solar cell element which forms a region having an other conductivity on one main surface side of a semiconductor substrate 1 having one conductivity, and forms an antireglection film 2 and bakes electrode material together on the other main surface side of this semiconductor substrate 1 and the antireflection film 2 for forming an electrode.例文帳に追加

一導電型を呈する半導体基板の一主面側に他の導電型を呈する領域を形成すると共に、反射防止膜を形成し、この半導体基板の他の主面側と前記反射防止膜に電極材料を焼き付けて形成する太陽電池素子の製造方法において、前記反射防止膜と一主面側の電極材料との間に電極材料中のガラスフリットの成分と親和性の高い酸化膜を介在させて前記電極材料を焼き付けるようにした。 - 特許庁

The double layer structure antireflection film is used in exposing a resist layer in an exposure system having a wavelength of 190-195 nm and having a numerical aperture of 0.93-1.0, and is formed between the resist layer and a silicon nitride film formed on the surface of the silicon semiconductor substrate.例文帳に追加

２層構造反射防止膜は、１９０〜１９５nmの波長を有し、開口数が０．９３を越え１．０以下である露光系にてレジスト層を露光する際に用いられる、レジスト層とシリコン半導体基板の表面に形成されたシリコン窒化膜との間に形成され、反射防止膜を構成する上層、下層の複素屈折率N_1,N_2を、N_1=n_1−k_1i,N_2=n_2−k_2iとし、上層、下層の膜厚をd_1,d_2とし、[n_10,k_10,d_10,n_20,k_20,d_20]の値の組合せとして所定の組合せを選択したとき、n_1,k_1,d_1,n_2,k_2,d_2が、以下の関係式を満足する。 - 特許庁

An antireflection film laminated product 10 comprising as a high refractive index film 16 a cured product obtained by curing the photocurable composition is excellent in antistatic property, scratch resistance and the like.例文帳に追加

（Ａ）ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタニウム、亜鉛、ゲルマニウム、インジウム、スズ、アンチモン及びセリウムよりなる群から選ばれる少なくとも一つの元素の酸化物である針状粒子（Ｂ）（Ａ）以外の粒子であって、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタニウム、亜鉛、ゲルマニウム、インジウム、スズ、アンチモン及びセリウムよりなる群から選ばれる少なくとも一つの元素の酸化物である粒子（Ｃ）多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）光重合開始剤この光硬化性組成物を硬化させた硬化物を高屈折率膜１６として用いた反射防止膜積層耐１０は帯電防止性及び耐擦傷性等に優れる。 - 特許庁

The method of manufacturing the antireflection film manufacturing mold includes a fine hole forming process of forming the fine holes on the surface of the metal base body by anode oxidation, using the metal base body containing aluminum, and having an uneven layer with the uneven crystal state or surface shape, and in the fine hole forming process, a part of alumina film is etched.例文帳に追加

アルミニウムを含有し、表面に結晶状態あるいは表面形状が不均一となっている不均一層を有する金属基体を用い、陽極酸化によって上記金属基体の表面に微細孔を形成する微細孔形成工程を有する、反射防止フィルム製造用金型の作製方法であって、上記微細孔形成工程が上記アルミナ膜の一部をエッチングするものであることを特徴とする、反射防止フィルム製造用金型の作製方法を提供することにより上記課題を解決する。 - 特許庁

The antireflection structure is made by arraying a large number of fine protrusions (fine structures) A1 on a base surface with a pitch smaller than a wavelength of visible light ray, wherein the fine protrusion A1 has a circle or a polygonal planar shape which touches the circle internally and forms a multi-step structure in which the area of the planar shape decreases step by step toward the apex part.例文帳に追加

基礎面上に可視光線の波長よりも小さいピッチで多数の微細凸部（微細構造）Ａ１を配列させた反射防止構造体であって、微細凸部Ａ１が、円又はこの円に内接する多角形の平面形状を有し且つ頂部に向けて平面形状の面積が漸次減少する多段構造を成すものとすることで、当該反射防止構造体を成形するための成形型を容易に作製することを可能にし、微細凸部Ａ１を高精度に形成して反射防止機能のさらなる向上を実現する。 - 特許庁

The polarizing plate has a polarizer formed of a polyvinyl alcohol-based film, is set so that the transmittance of a single body is ≥44.0% and the degree of polarization is ≥99.60%, and is constituted by forming an antireflection layer on its surface.例文帳に追加

ポリビニルアルコール系フィルムから形成された偏光子を有する、単体透過率が４４．０％以上、偏光度９９．６０％以上の偏光板であって、その表面に反射防止層が形成されてなり、偏光板表面の鏡面反射率Ｙｍが０．８０％以下で、鏡面反射色相ｘ、ｙが０．１７≦ｘ≦０．２７、０．０７≦ｙ≦０．１７であり、波長４４０ｎｍにおける平行透過率Ｔｐ４４０［％］と、波長５５０ｎｍにおける平行透過率Ｔｐ５５０［％］ と、波長６１０ｎｍにおける平行透過率Ｔｐ６１０［％］と、直交透過率のＹｃ値［％］とが、下記式（１）〜（３）を同時に満足する偏光板。 - 特許庁

The antireflection film is formed by successively laminating at least 3 layers of a hard coat layer (A), a high refractive index layer (B) having a refractive index of ≤1.64 and a C layer having a refractive index lower than that of the B layer and of ≤1.37 in this order on at least one side of a base material film.例文帳に追加

本発明の反射防止フィルムは、基材フィルムの少なくとも片面に、ハードコート層（Ａ）、屈折率が１．６４以下である高屈折率層（Ｂ）および、屈折率がＢ層より低く、かつ１．３７以下であるＣ層の少なくとも３層が、この順に順次積層されている反射防止フィルムであって、該反射防止フィルムの該Ｃ層の表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．５μm〜１．５μmであり、該反射防止フィルム全体のヘイズが１．６〜３０．０％であり、かつ波長４００〜７００ｎｍにおける表面反射スペクトルが次の３条件を全て満たす。 - 特許庁

In addition, the polarizing plate having such antirefrection film as protective film and the image display device having such antireflection film or the polarizing plate are also disclosed.例文帳に追加

微細空孔を含む層を少なくとも１層有する反射防止フィルムであって、該反射防止フィルムの表面を水に１５分間接触させた後に拭き取った部分の、Ｄ６５標準光源下で測定したＣＩＥ１９７６Ｌ^*ａ^*ｂ^*色空間における色度変化△Ｅが０．４５以下であり、且つ微細空孔を含む層と同一層あるいは異なる層である帯電防止層を有することを特徴とする、反射防止フィルム、並びにこのような反射防止フィルムを保護フィルムとして有する偏光板、及びこのような反射防止フィルム又は偏光板を有する画像表示装置。 - 特許庁

The optical element has the antireflection function, and includes a substrate which has a first uneven structure of projections or recessed, arrayed at a pitch equal to or less than a half of a wavelength λ, formed on a surface, and a thin film layer having at least one thin film on the first uneven structure, and the thin film layer has a lower refractive index than the substrate.例文帳に追加

反射防止機能を有する光学素子であって、波長λの半分以下のピッチで並ぶ、凸または、凹の形状をした第１の凹凸構造が表面に形成された基板と、前記第１の凹凸構造の上に少なくとも１層以上の薄膜を有する薄膜層と、を有し、前記薄膜層は、前記基板の屈折率よりも屈折率が低く、また、２層以上の薄膜を有する場合は、前記基板側から空気側に向かって、屈折率が低くなる順に配置され、前記薄膜層の最上層には、前記第１の凹凸構造に対応する第２の凹凸構造があるとともに、下記条件式を満たすことを特徴とする光学素子。 - 特許庁