「antireflection」に関連した英語例文の一覧と使い方(53ページ目) - Weblio英語例文検索

A black antireflection layer 94a can be formed simultaneously with the formation of the barrier ribs, by superposing a black rib forming material layer on the barrier rib forming material layer and by pressing and rolling the roller.例文帳に追加

バリアリブ形成材層に黒色リブ形成材層を重ねてロールを転圧することにより、バリアリブの形成と同時にバリアリブ上面に黒色反射防止層を形成することができる。 - 特許庁

The composition for the formation of an antireflection film contains a polymer having a polycyclic alicyclic structure and a crosslinking agent, and is used for lithographic processes for the manufacture of a semiconductor device.例文帳に追加

多環式脂環式構造を有するポリマー及び架橋剤を含むことを特徴とする半導体装置製造のリソグラフィープロセスに用いられる反射防止膜形成組成物。 - 特許庁

The blocks are made up for each of varied liquid-processing, e.g., forming of an antireflection film, coating of a resist, and its development, and those plural blocks are located in line.例文帳に追加

そして異なる液処理ごとに、例えば反射防止膜の形成処理、レジストの塗布処理及び現像処理の各液処理毎にブロックを構成し、それら複数個のブロックを並設する。 - 特許庁

To provide an optical functional layer forming composition for obtaining an optical film having no fault by foreign substance and having sufficient abrasion resistance and optical characteristics and further to provide the optical film, an antireflection film and a polarizing plate.例文帳に追加

異物故障がなく、十分な耐擦性、光学特性を備えた光学フィルムを得るための光学機能層形成用組成物、光学フィルム、反射防止フィルム、偏光板を提供する。 - 特許庁

To provide an antireflection film which is to be applied on an interface between an optical adhesive and a laser element or on an interface between the optical adhesive and an optical element and moreover which is constituted of a monolayer optical thin film.例文帳に追加

光学接着剤とレーザ素子との界面および光学接着剤と光学素子との界面に施されかつ単層の光学薄膜で構成される反射防止膜を提供する。 - 特許庁

The antireflection film 10 is constituted of a four-layered structure which consists of, in order from a substrate 11 side, thin films of a first layer 12, a second layer 13, a third layer 14, and a fourth layer 15.例文帳に追加

反射防止膜１０は、４層構造で構成されており、基板１１側から順に第１層１２、第２層１３、第３層１４、第４層１５の薄膜が積層されている。 - 特許庁

Thus, a light source of a light emitting part 63 is formed with an organic EL light emitting element, and an antireflection layer 79c of stray light is provided on the projection surface side of the second negative electrode layer 79b.例文帳に追加

このように、発光部６３の光源は有機ＥＬ発光素子で形成されており、前記陰極第２層７９ｂの前記投射面側に迷光の反射防止層７９ｃを設ける。 - 特許庁

The composition for forming the antireflection coating comprises the inorganic fine particles having surfaces coated with a polysiloxane having a branched structure and a polyfunctional (meth)acrylic compound.例文帳に追加

本発明にかかる反射防止膜形成用組成物は、表面が、分岐構造を有するポリシロキサンで被覆されている無機微粒子、および多官能性（メタ）アクリル化合物を含有する。 - 特許庁

A low refractive index layer with the refractive index of 1.20 to 1.45 is formed on the near-infrared ray absorption layer of the near-infrared ray absorption hard coat film to obtain the antireflection film.例文帳に追加

この近赤外線吸収ハードコートフィルムの近赤外線吸収層上に屈折率が１．２０〜１．４５の低屈折率層を形成することにより反射防止フィルムが得られる。 - 特許庁

On the read-out surface 7, a plurality of antireflection structures 3 for reducing reflection of the recording and reproduction light are formed at a pitch smaller than a wavelength of the recording and reproduction light.例文帳に追加

ここで読み出し面７には、前記記録再生光の反射を低減する複数の反射防止構造体３が前記記録再生光の波長よりも小さいピッチで形成される。 - 特許庁

To provide an antireflection film material capable of preventing the deterioration of the accuracy of the form of a resist pattern due to the deactivation of an acid catalyst generated in exposure, and a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

露光時に発生した酸触媒の失活に起因するレジストパターンの形状精度の悪化を防止しうる反射防止膜材料及びレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

In manufacturing the plastic optical product, the hard coat layer is formed on the surface of a plastic optical base material and the antireflection films consisting of two film layers are formed by a wet process on the surface thereof.例文帳に追加

プラスチック光学製品を製造する際に、プラスチック製光学基材の表面にハードコート層を形成させ、その表面に湿式で２層の膜層からなる反射防止膜を形成する。 - 特許庁

To provide a curable resin composition which gives cured products having low refractive indexes and excellent scratch resistance, and to provide an antireflection film having a low refractive index layer comprising the same.例文帳に追加

硬化させた際に屈折率が低く、耐擦傷性に優れる硬化物を与える硬化性樹脂組成物及びそれからなる低屈折率層を有する反射防止膜を提供する。 - 特許庁

The antireflection film is made of a transparent base material film and a film which is provided on at least one surface of the transparent base material film and is made of silicon oxide that includes fluorine copolymer methacrylate.例文帳に追加

透明基材フィルムと、その少なくとも片面に設けられたフッ素系共重合メタクリレートを含有する酸化珪素からなる膜と、からなることを特徴とする反射防止フィルム。 - 特許庁

1) The optical film having at least the anitdazzle layer or antireflection layer on either one side of a base material and having an easily adhesive layer on the opposite side of the base material.例文帳に追加

１）基材のどちらか一方の側に少なくとも防眩層または反射防止層を有し、基材の反対側に易接着層を有することを特徴とする光学用フィルム。 - 特許庁

To provide an inspection method enabling accurate detection of a defect by a foreign substance and a defect by a minute change in film thickness around the defect in manufacturing an antireflection film.例文帳に追加

反射防止フィルムの製造において、異物などの欠陥とその周辺の膜厚の微小な変化による欠陥を正確に検出できる検査方法を提供するものである。 - 特許庁

To provide a method for forming a water-repellent film by a vapor deposition method by using a fluorine-containing organic silicon compound having a high boiling point continued from the formation of an antireflection film.例文帳に追加

反射防止膜の形成と連続して、沸点の高いフッ素含有有機ケイ素化合物を用い真空蒸着法により撥水膜を形成する方法を提供すること。 - 特許庁

The carbon black for an antireflection film has a crystalline state having ≥2.0 nm crystallite size Lc(002) and a grain aggregated state having 20-50 nm Stokes mode diameter Dst of aggregates.例文帳に追加

結晶子の大きさＬc(002)が２．０nm以上の結晶性状およびアグリゲートのストークスモード径Ｄstが２０〜５０nmの粒子凝集性状を備えることを特徴とする反射防止膜用カーボンブラック。 - 特許庁

WATER-REPELLENT, OIL-REPELLENT CONTAMINATION PREVENTIVE ANTIREFLECTION FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, LENS, GLASS SHEET AND GLASS FORMED WITH THE FILM, AND OPTICAL EQUIPMENT, DEVICE USING SOLAR ENERGY AND DISPLAY USING THEM例文帳に追加

撥水撥油防汚性反射防止膜とその製造方法およびそれを形成したレンズやガラス板、ガラス、およびそれらを用いた光学装置および太陽エネルギー利用装置、ディスプレイ - 特許庁

To provide a laminated polyester film for antireflection films that has highly reduced interference nonuniformity caused by outdoor light reflection and can be suitably utilized as a base material for various optical applications.例文帳に追加

外光反射による干渉ムラが高度に軽減され、各種の光学用途の基材として好適に利用することのできる反射防止フィルム用積層ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

An antireflection film (not shown) is provided on the entire surface of the substrate and first and second anode electrodes 20 and 22 are bonded, respectively, to the first and second diffusion areas 16 and 18.例文帳に追加

基板全面に反射防止膜（図示せず）を設け、第１および第２のそれぞれの拡散領域１６，１８に接合するように第１および第２のアノード電極２０，２２を設けた。 - 特許庁

To obtain an optical element which can easily be provided with a fine unevenness structure, having an antireflective function on an optical surface over the entire optical surface and has proper antireflection characteristics.例文帳に追加

光学面上に反射防止機能を有する微細凹凸構造体を光学面全体に容易に設けることができ、良好なる反射防止特性を有した光学素子を得ること。 - 特許庁

The antireflection material is obtained by irradiating an electron beam cured antireflecting layer coating on the transparent base with an electron beam at an accelerating voltage of 120 kV or lower and curing the layer by the beam.例文帳に追加

透明基材に被覆された電子線硬化型反射防止層を、加速電圧を１２０ｋＶ以下で電子線を照射して、電子線により硬化させてなる反射防止体である。 - 特許庁

Filling materials 13g, 16g are filled in crystalline grain boundaries of TiN films 13f, 16f which are used as antireflection films for an Al alloy wiring layer formed on a silicon substrate.例文帳に追加

シリコン基板上に形成されるＡｌ合金配線層の反射防止膜としてのＴｉＮ膜１３ｆ、１６ｆの結晶粒界に充填物質１３ｇ、１６ｇを充填する。 - 特許庁

The antireflection sheet 10 has a transparent substrate sheet 1, a first layer H provided on one surface of the transparent substrate sheet 1, and a second layer L provided on the first layer H.例文帳に追加

反射防止シート１０は、透明基材シート１と、透明基材シート１の片面に設けられた第一層Ｈと、第一層Ｈの上に設けられた第二層Ｌとを備える。 - 特許庁

To make the deterioration of the shape of a resist pattern reducible even when an antireflection film comprising an organic compound and having a large thickness is dry-etched with the resist pattern as a mask.例文帳に追加

有機化合物からなり大きい膜厚を有する反射防止膜に対してレジストパターンをマスクにしてドライエッチングを行なっても、レジストパターンの形状劣化を低減できるようにする。 - 特許庁

The silicon nitride film 404 is etched and the resist pattern 402 and the antireflection film pattern 403 are removed, and a silicon nitride film pattern 405 is formed on the processed film 400 (Fig. 10(d)).例文帳に追加

シリコン窒化膜４０４がエッチングされ、レジストパターン４０２及び反射防止膜パターン４０３が除去されて、被処理膜４００上にシリコン窒化膜パターン４０５が形成される（図１０（ｄ））。 - 特許庁

To provide a plastic lens and a method for manufacturing a plastic lens having excellent weather resistance while suppressing deterioration of an antireflection film comprising an organic thin film as much as possible.例文帳に追加

有機薄膜で構成される反射防止膜の劣化が可及的に抑制された耐候性に優れたプラスチックレンズ及びプラスチックレンズの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The composition for formation of an antireflection film contains a polymer compound having an alicyclic structure and an aromatic cyclic or hetero aromatic cyclic structure in the main chain of the unit structure.例文帳に追加

本発明は、単位構造の主鎖に脂環構造と、芳香環又はヘテロ芳香環構造とを有する高分子化合物を含むことを特徴とする反射防止膜形成組成物。 - 特許庁

THERMOPLASTIC FILM, METHOD AND APPARATUS FOR PRODUCING THERMOPLASTIC FILM, POLARIZING PLATE, OPTICAL COMPENSATION FILM FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL, ANTIREFLECTION FILM, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY例文帳に追加

熱可塑性フイルム、熱可塑性フイルムの製造方法及び熱可塑性フイルムの製造装置、並びに、偏光板、液晶表示板用光学補償フイルム、反射防止フイルム及び液晶表示装置 - 特許庁

The resist pattern is obtained by forming a base blocking antireflection film from the above composition on a resist coating film formed on a substrate, irradiating the resist with radiation, and developing.例文帳に追加

レジストパターンは、基板上に形成したレジスト被膜上に当該組成物から塩基遮断性反射防止膜を形成したのち、放射線を照射し、現像することによって形成される。 - 特許庁

To provide an antireflection film which suppresses deficiency or excessive supply of acid in a chemically amplified resist film and can properly adjust the acid quantity in the vicinity of the bottom of resist pattern.例文帳に追加

化学増幅型レジスト膜中における酸の欠乏や過剰な供給を抑制して、レジストパターンのボトム付近における酸量を適切に調整可能な反射防止膜を提供する。 - 特許庁

The flat display panel and the show window material are provided with the antireflection layer provided with a high refractive index layer and a low refractive index layer provided on the high refractive index layer, on the surface.例文帳に追加

表面に、高屈折率層と、該高屈折率層上に設けられた低屈折率層とを備えてなる反射防止層を設けてなるフラットディスプレイパネル及びショーウィンドウ窓材。 - 特許庁

Further, an optical film coating for antireflection, reflection or translucency is applied on a prescribed prism surface (S37) and the perform glass is cut (S38) to a prescribed length, by which the prism is manufactured.例文帳に追加

さらに、反射防止、反射、又は半透過のための光学膜被覆を所定のプリズム面に施して（Ｓ３７）、所定長さに切断する（Ｓ３８）ことによりプリズムを製造する。 - 特許庁

The solid state imaging device includes an antireflection film 106 which contains hydrogen and is arranged above a photodiode 102, and a hydrogen diffusion preventing film 107, arranged above the reflection preventing film 106.例文帳に追加

フォトダイオード１０２の上方に配置された、水素を含有する反射防止膜１０６と、反射防止膜１０６の上方に配置された水素拡散防止膜１０７とを備える。 - 特許庁

HARD COATING FOR PLASTIC SUBSTRATE FILM, HARD COATED FILM, COATING SOLUTION, METHOD FOR FORMING HARD COATING ON PLASTIC SUBSTRATE FILM, ANTIREFLECTION FILM, HEAT RAY REFLECTION FILM, AND ULTRAVIOLET-SCREENING FILM例文帳に追加

プラスチック基材フィルム用ハードコート膜、ハードコートフィルム、コーティング溶液、プラスチック基材フィルム用ハードコート膜の形成方法、反射防止フィルム、熱線反射フィルム、及び紫外線遮蔽フィルム - 特許庁

In this case, the formation conditions of the resist film and the antireflection film can be set so that the reflectivity on the substrate is low enough to prevent reflection from occurring twice.例文帳に追加

この場合、レジスト膜、反射防止膜の形成条件は、前述の２回反射が生じることがない程度に基板上での反射率を十分に低くするように設定することができる。 - 特許庁

Since a shot peening layer 12S improved in hardness exists on the uppermost surface of the antireflective layer 12, the translucent member excellent in scratch resistance can be provided without impairing its antireflection effect.例文帳に追加

反射防止層１２の最表面には硬度が向上したショットピーニング層１２Ｓが存在するので、反射防止効果を損なわずに耐傷性に優れた透光性部材を提供できる。 - 特許庁

The composition for forming the antireflection film contains a reaction product obtained by the reaction of an isocyanuric acid compound having two or three 2,3-epoxypropyl groups with a benzoic acid compound.例文帳に追加

２個または３個の２，３−エポキシプロピル基を有するイソシアヌル酸化合物と安息香酸化合物との反応によって得られる反応生成物を含む反射防止膜形成組成物。 - 特許庁

To provide a cleaning agent or a rinse agent for lithography having preferable dissolving and stripping properties on a resist, antireflection film or photospacer formed from an organic solvent solution.例文帳に追加

有機溶剤溶液から形成されるレジスト、反射防止膜あるいはフォトスペーサなどに対して良好な溶解性、剥離性を有するリソグラフィー用洗浄剤又はリンス剤を提供する。 - 特許庁

Based on the data for constitution design obtained at processing S2, an antireflection film is formed on the substrate and film-forming processing of laminating the multilayers which becomes the polarizer of a photonic crystal is performed (S3).例文帳に追加

処理Ｓ２で取得した構成設計のデータに基づき、基板上に反射防止膜を形成し、フォトニック結晶の偏光子となる多層膜を積層する成膜加工を行う（Ｓ３）。 - 特許庁

To provide a resist underlayer film forming composition excellent in embedding property, generating a small amount of sublimate, and capable of forming a resist underlayer film excellent in antireflection function and etching resistance.例文帳に追加

埋め込み性に優れており、且つ昇華物量が少なく、反射防止機能及びエッチング耐性に優れるレジスト下層膜を形成できるレジスト下層膜形成用組成物を提供する。 - 特許庁

Then, an antireflection film (silicon nitride film rich in silicon) is formed over the entire surface, and a silicon film 14 is patterned so that a capacitative lower electrode and the gate electrodes of a transistor can be formed.例文帳に追加

次いで、全面に反射防止膜（シリコンリッチなシリコン窒化膜）を形成し、フォトリソグラフィによりシリコン膜１４をパターニングして、容量下部電極及びトランジスタのゲート電極を形成する。 - 特許庁

Afterwards, an antireflection film 21 is formed over the entire surface about from 500 to 1,000 angstroms, and a groove 15 for second wiring layer is formed by etching the second wiring corresponding inter-layer insulating film 11.例文帳に追加

その後、全面に反射防止膜２１を５００〜１０００オングストローム程度形成し、第２配線対応層間絶縁膜１１をエッチングして、第２配線層用の溝１５を形成する。 - 特許庁

A copolymer having a specific acrylate monomer or methacrylate monomer as a principal structure is used as an antireflection film in the formation of an ultrafine pattern in the semiconductor production process.例文帳に追加

特定のアクリレート系又はメタアクリレート系単量体を基本構造とする共重合体を、半導体の製造工程中、超微細パターンの形成時に反射防止膜に使用する。 - 特許庁