「c-concentration」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

Gaseous ozone of 10-50 vol.% gaseous ozone concentration is allowed to act on a metal surface at 60-150°C to apply passivation treatment to the metal surface.例文帳に追加

オゾンガス濃度が１０〜５０vol％のオゾンガスを６０〜１５０℃の温度範囲で金属表面に作用させて、金属表面を不動態化処理するように構成した。 - 特許庁

If the carbonate ion concentration of the slurry 3 is ≥1000 ppm, the slurry is heated to 120 to 350°C in the solubilization tank to slubilize the organic waste 1.例文帳に追加

スラリー３の炭酸イオン濃度が１０００ppm以上であれば可溶化処理槽内で１２０乃至３５０℃に加熱処理して、有機性廃棄物１を可溶化する。 - 特許庁

The cleaning method is characterised by being provided with a process (step S23) for processing a substrate with the aqueous oxalic acid solution with a concentration of 1 to 10 % at a temperature of 30 to 50 °C.例文帳に追加

基板を濃度が１〜１０％で、温度が３０〜５０℃の蓚酸水溶液によって処理する工程（ステップＳ２３）を具備したことを特徴とする。 - 特許庁

The gel is produced by mixing a composition represented by chemical formula (1) with a solvent kept at a temperature of 0-60°C so that the concentration of the resultant composition becomes 5-15 wt%.例文帳に追加

下記の化学式（１）で示される組成物を、０℃から６０℃の温度にした溶剤に、５重量％から１５重量％となるように混合した。 - 特許庁

The dopant concentration measuring method, which computes the dopant concentration by measuring the C-V characteristics of the wafer by the C-V method, adjusts the depletion layer capacitive reactance Xc of the main surface of the wafer to 15 or more times of the series resistance Rs, and measures the C-V characteristics of the wafer on the adjusted conditions.例文帳に追加

Ｃ−Ｖ法によりウェーハのＣ−Ｖ特性を測定することによりドーパント濃度を算出するドーパント濃度測定方法であって、ウェーハ主表面の空乏層容量リアクタンスＸｃが直列抵抗Ｒｓの１５倍以上になる条件に調整して、調整した条件でウェーハのＣ−Ｖ特性を測定することを特徴とするドーパント濃度測定方法。 - 特許庁

To search concrete requirement and optimization of an antioxidant composition bringing about overcoming of these defect and pharmacodynamic effects in order to solve problems in which a conventional provitamin C-containing composition was not excellent in pharmacodynamic effects for immediately retaining vitamin C concentration in human body in a high level.例文帳に追加

従来のプロビタミンＣ含有組成物は、人体内部でのビタミンCの濃度を速効的に高レベルかつ持続的に保持する薬効に優れていなかったころから、これらの欠点克服と薬効をもたらす具体的な抗酸化剤組成物の構成要件と最適化を探索することを課題とする。 - 特許庁

To provide a method for efficiently producing purified silicon from silicon of any quality so that aluminum concentration (C) attains to target aluminum concentration (C_T) after purification in targeted vacuum retention time (T) without many trials and errors.例文帳に追加

様々な品質のシリコンを、数多くの試行錯誤を経ることなく、目標とする減圧保持時間（Ｔ）で、アルミニウム濃度（Ｃ）が精製後の目標アルミニウム濃度（Ｃ_T）になる精製シリコンを、効率良く製造しうる方法を提供すること。 - 特許庁

The calcium carbonate having a macaroni-like shape is manufactured by adding a surfactant at a concentration over its critical micelle concentration and reacting in dripping a soluble calcium salt aqueous solution and a soluble carbonate aqueous solution at a temperature of ≥20°C.例文帳に追加

可溶性カルシウム塩水溶液と可溶性炭酸塩水溶液を２０℃以上で、界面活性剤を臨界ミセル濃度を超える濃度で添加し滴下反応させることにより、マカロニ状形態をした炭酸カルシウムを製造する。 - 特許庁

Aragonite type calcium carbonate with the hexagonal plate form is produced by the method that the surfactant is dropped into the soluble calcium salt aqueous solution and the soluble carbonate aqueous solution so as to have a concentration above the micelle concentration and reacted at 40°C or higher.例文帳に追加

可溶性カルシウム塩水溶液と可溶性炭酸塩水溶液に界面活性剤をミセル濃度以上滴下添加し４０℃以上で反応させることにより、六角板状形態をしたアラゴナイト系炭酸カルシウムを製造する。 - 特許庁

To provide a method capable of inexpensively producing a low-sulfur steel even when a cold iron source of a high sulfur content is added and to provide a method for inexpensively producing a high-quality high-[Mn]-concentration molten steel by efficiently heightening the [C] concentration in dephosphorized iron.例文帳に追加

硫黄含有量の多い冷鉄源を添加しても低硫鋼を安価に溶製できる方法、また、脱りん銑中［Ｃ］濃度を効率よく高めて、高品質の、［Ｍｎ］濃度の高い溶鋼を安価に溶製できる方法を提供する。 - 特許庁

A TiO_2-containing quartz glass substrate has the thermal expansion coefficient at 15-35°C within ±200 ppb/°C, the TiO_2 concentration of 4-9 wt.%, and the TiO_2 concentration distribution, in the surface vicinity region within 50 μm of depth from the substrate surface on the side where transfer patterns are formed, within ±1 wt.%.例文帳に追加

１５〜３５℃における熱膨張係数が±２００ｐｐｂ／℃以内であり、ＴｉＯ_2濃度が４〜９ｗｔ％であり、転写パターンを形成する側の基板表面から深さ５０μｍまでの表面近傍領域におけるＴｉＯ_2濃度分布が、±１ｗｔ％以内であることを特徴とするＴｉＯ_2含有石英ガラス基板。 - 特許庁

In the stoker type waste incinerator, air having a temperature higher than the conventional temperature of 200-300°C or high temperature low oxygen concentration gas having a temperature of 800°C or higher and oxygen concentration of 5-10% is used as air, supplied to a drying part or the drying part and a thermal decomposition part, of primary air fed from below a fire grate.例文帳に追加

ストーカ式廃棄物焼却炉において、火格子下側から供給される１次空気のうち、乾燥部、或は乾燥部と熱分解部に供給される空気を従来の２００〜３００℃よりも高温の空気とするか、或は温度８００℃以上、酸素濃度５〜１０％の高温低酸素濃度ガスとする。 - 特許庁

The carbon fiber having surface oxygen concentration (O/C)≤0.1 measured by X-ray photoelectron spectroscopy, is heated for 0.2 to 1.0 minutes at 550 to 750°C in an oxidative atmosphere having oxygen concentration of 21 to 25% by volume to afford the surface processed carbon fiber having 0 to 0.04% of a weight loss rate.例文帳に追加

Ｘ線光電子分光法で測定した表面酸素濃度（Ｏ／Ｃ）が０．１未満の炭素繊維を、５５０〜７５０℃に加熱した酸素濃度２１〜２５容量％の酸化性雰囲気にて０．２〜１．０分間加熱することにより、重量減少率が０〜０．０４％の表面処理した炭素繊維を得る炭素繊維の処理方法。 - 特許庁

After determining remaining amount abnormality (Femp= 1:time t2), remaining amount abnormality determination is maintained during a predetermined period PRD from detection of abnormality when detecting abnormality related to concentration (time t3) by direct shifting of concentration Dn from an abnormal region A related to remaining amount to an abnormal region C related to concentration.例文帳に追加

残量異常判定（Ｆｅｍｐ＝１：時刻ｔ２）後、濃度Ｄｎが残量に関する異常領域Ａから濃度に関する異常領域Ｃに直接移行することにより、濃度に関する異常を検出したとき（時刻ｔ３）は、この異常の検出から所定の期間ＰＲＤに亘り残量異常判定を維持する。 - 特許庁

An environmental load concentration variation determination section C determines that the environmental load concentration varies in the increasing direction when the fractal dimension output in time series from the fractal dimension estimation section B is apt to increase, and that the environmental load concentration varies in the decreasing direction when the fractal dimension is apt to decrease.例文帳に追加

環境負荷濃度変化判定部Ｃは、フラクタル次元推定部Ｂから時系列で出力されるフラクタル次元が増加傾向にあるときに環境負荷濃度が増加方向に変化しており、フラクタル次元が減少傾向にあるときに環境負荷濃度が減少方向に変化していると判定する。 - 特許庁

The erbium-doped glass includes: (a) host glass; (b) an effective amount of erbium dopant; (c) a concentration of 10-40 mol% network modifying metal fluoride; and (d) further ingredients, wherein the amounts of (a), (b), (c) and (d) are totally 100%.例文帳に追加

（ａ）ホストガラス、（ｂ）有効量のエルビウム不純物、（ｃ）濃度１０〜４０モル％のネットワーク改変性金属フッ化物、ならびに（ｄ）さらなる別の成分、を含み、（ａ）、（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）の量は合計で１００％であるエルビウム添加ガラス。 - 特許庁

After having cleaned the roughcasted aluminum alloy with alkaline solution having pH not lower than 10 and temperature from 60 to 80°C, it is cleaned with acidic solution having concentration of 170 to 800 g/l and temperature from 65 to 90°C.例文帳に追加

粗面化処理されたアルミニウム合金材を、ｐＨが１０以上で、液温が６０〜８０℃とされたアルカリ溶液により洗浄した後、濃度が１７０〜８００ｇ／ｌで、液温が６５〜９０℃とされた酸性溶液により洗浄する。 - 特許庁

In the step of forming the silicon oxide film, it is desirable to set the temperature of the silicon substrate to be 100°C or higher, 350°C or lower, to set a total pressure to 10 Pa or higher, 10,000 Pa or lower, and to set the ozone concentration to 50 g/Nm^3 or higher.例文帳に追加

シリコン酸化膜を形成する工程は、シリコン基板の温度を１００℃以上３５０℃以下とし、全圧を１０Ｐａ以上１０，０００Ｐａ以下とし、オゾンの濃度を５０ｇ／Ｎｍ^３以上として行うことが好ましい。 - 特許庁

In the film formation step, anodizing is performed to an aluminum sheet, in an electrolyte in which concentration of phosphoric acid is 3 to 20 mass%, and bath temperature is not lower than 25°C and less than 40°C, thereby an anodization film is formed on at least one surface.例文帳に追加

皮膜形成工程においては、アルミニウム板に対し、リン酸濃度３〜２０質量％、浴温２５℃以上４０℃未満の電解液中で陽極酸化処理を施して、少なくとも片面に陽極酸化皮膜を形成する。 - 特許庁

In the method, mold flux is used, which is basically composed of CaO, SiO_2, alkaline metal oxide, and fluorine, while basicity (CaO/SiO_2) as the mass-concentration ratio of CaO to SiO_2 is ≥1.6, the solidification point is ≥1,250°C, and the viscosity at 1,300°C is ≤1 poise.例文帳に追加

CaO，SiO_2，アルカリ金属酸化物，および弗素を基本成分とし、CaOのSiO_2に対する質量濃度比としての塩基度（CaO／SiO_2）が１．６以上、凝固点が１２５０℃以上、１３００℃における粘度が１poise以下であるモールドフラックスを使用する。 - 特許庁

Therein, a hydrogen concentration in an environment from the annealing process to the retention process is 2 to 40 volume% and a dew point DM of the environment in the annealing process and a dew point DL of the environment in the retention process satisfy the following relation: DL≤-30°C and DM-DL≥10°C.例文帳に追加

ここで、焼鈍処理から保持処理における雰囲気中水素濃度は2〜40体積％、かつ焼鈍処理における雰囲気の露点DMと保持処理における雰囲気の露点DLとは次の関係を満たす： DL≦-30℃、かつDM-DL≧10℃。 - 特許庁

In this manufacturing method of the α quartz powder, SiO_2 is hydrothermally treated using a sodium hydroxide aqueous solution with a concentration range of not lower than 0.2 M but not higher than 0.5 M at a temperature range of not lower than 240°C but not higher than 350°C.例文帳に追加

ＳｉＯ_2を、濃度が０．２Ｍ以上０．５Ｍ以下の範囲である水酸化ナトリウムの水溶液を用いて、２４０℃以上３５０℃以下の温度範囲で水熱処理することを特徴とするα石英粉末の製造方法。 - 特許庁

The penetration-type high viscous ink composition has a pigment concentration of 6 wt.% or higher and contains a penetrant having a solubility in water at 25°C of from 0.1 wt.% to not more than 4.5 wt.% and also has an ink composition viscosity of 8 cPs or more (25°C).例文帳に追加

顔料濃度が６ｗｔ％以上で、２５℃の水中において０．１〜４．５ｗｔ％未満の溶解度を有する浸透剤を含み、インク組成物粘度が８ｃｐｓ（２５℃）以上の浸透系高粘度インク組成物。 - 特許庁

The feather in an amount of 1 g is fed to a flask of 300 mL, mixed with 50 mL of a thioglycolic acid solution having 0.2 mol/L concentration adjusted to pH 11.0 with sodium hydroxide, stirred and shaken at 30°C for 48 hours, the solution is adjusted to 30°C and adjusted to pH 7 with acetic acid.例文帳に追加

この羽毛1gを300mlのフラスコに投入し、これに水酸化ナトリウムでpH11.0に調整した0.2mol/l濃度のチオグリコール酸溶液50mlを加え、30℃で48時間攪拌・振とうした後、その溶液の温度を30℃に調整してから酢酸でpH7に調整した。 - 特許庁

This method is to produce N,N-dimethylaminobenzoic acid by reductively alkylating m-aminobenzoic acid in an organic solvent e.g. methanol by using an aldehyde compound, wherein, in the step of distilling the solvent from the resultant reaction liquid for concentration, the temperature of concentration is set at 30 to 65°C.例文帳に追加

ｍ−アミノ安息香酸を有機溶媒中アルデヒド化合物を用い還元アルキル化し、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸を製造する方法において、得られた反応液より溶媒を留去して濃縮する際、濃縮温度を３０〜６５℃とする。 - 特許庁

Particularly, in the case the die is preheated to 200 to 400°C, a casting composed of hypoeutectic cast iron having a carbon concentration of 2.87 wt.% and an Si concentration of 1.95 wt.% [carbon equivalent of 3.55], and having tensile strength of 800 MPa and an elongation of 4% is obtained.例文帳に追加

特に金型を２００〜４００°Ｃに予熱しておくと、炭素濃度を２．８７重量％、Ｓｉ濃度を１．９５重量％[炭素当量３．５５]とした亜共晶鋳鉄で、引張強度８００ＭＰａ、伸び４％の鋳物が得られた。 - 特許庁

To provide a hydrogen purification apparatus that reduces a CO concentration effectively by selectively oxidizing CO among relatively high concentration of CO under low O_2/CO conditions at 200-350°C in a CO removing apparatus from the reformed gas containing hydrogen as a main ingredient and CO.例文帳に追加

水素を主成分としＣＯを含有する改質ガス中のＣＯ除去装置において、比較的高濃度のＣＯを２００〜３５０℃、低Ｏ_２／ＣＯの条件で選択的にＣＯを酸化して、ＣＯ濃度を効果的に低減できるようにする。 - 特許庁

The agent contains an acrylic resin and a specific glycol-based solvent having a vapor pressure at 20°C of 200 Pa or less, with a concentration of the glycol-based solvent being adjusted to be 0.5-3.0 wt.% and a concentration of a nonvolatile matter to be 3-8 wt.%.例文帳に追加

アクリル系樹脂および２０℃における蒸気圧が２００Ｐａ以下の特定のグリコール系溶剤を含有し、該グリコール系溶剤の濃度を０．５〜３．０重量％とし、不揮発分濃度を３〜８重量％に調整した床用処理剤。 - 特許庁

To provide a catalyst for reforming ethanol at a temperature in a range of not higher than 400°C capable of obtaining a reformed gas of a high hydrogen (H_2) and carbon monoxide (CO) concentration and a low methane (CH_4) concentration, and a method for supplying a hydrogen containing gas using the catalyst.例文帳に追加

４００℃以下の低温域からエタノールを改質して、Ｈ_２、ＣＯ濃度が高く、ＣＨ_４濃度が低い改質ガスを得ることができるエタノール改質触媒及びこれを用いた水素含有ガス供給方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a neutron shielding material made out of a high molecular material and seldom or never lowering its concentration of hydrogen even when it is used under high temperature environment of approximately 150-200°C for a long time.例文帳に追加

約１５０〜２００℃の高温環境下で長期間使用しても、水素密度の低下がほとんどない高分子材料による中性子遮蔽材を提供する。 - 特許庁

The carrier concentration of a III-V compound semiconductor wafer on which an n-type buffer layer is formed is measured through C-V measurement and, in addition, the photoluminescence of the wafer is also measured.例文帳に追加

ｎ型バッファ層形成済みのIII−Ｖ族化合物半導体ウェーハで、Ｃ−Ｖ測定によりキャリア濃度を測定する一方、フォトルミネッセンス測定も行う。 - 特許庁

To provide a method of measuring a specimen containing high- concentration C-reactive protein without diluting it while avoiding a prozone phenomenon and to provide a reagent used therein.例文帳に追加

プロゾーン現象を回避して高濃度のＣ−反応性蛋白質を含む検体を希釈せずに測定する方法およびそれに用いる試薬を提供すること。 - 特許庁

In the first degreasing stage, the concentration of the ozone in the atmosphere is preferably 50 to 10,000 ppm, and the temperature of the atmosphere is preferably 50 to 180°C.例文帳に追加

前記第１の脱脂工程において、雰囲気中のオゾン濃度は、５０〜１００００ｐｐｍであるのが好ましく、雰囲気の温度は、５０〜１８０℃であるのが好ましい。 - 特許庁

In the first degreasing stage, the concentration of the ozone in the atmosphere is preferably 50 to 10,000 ppm, and the temperature of the atmosphere is preferably 20 to 180°C.例文帳に追加

前記第１の脱脂工程において、雰囲気中のオゾン濃度は、５０〜１００００ｐｐｍであるのが好ましく、雰囲気の温度は、２０〜１８０℃であるのが好ましい。 - 特許庁

The starch is characterized by a G' of 600 Pa or greater at a frequency of 0.1 rad/sec at 25 °C prepared at a solid concentration of 10 wt.例文帳に追加

澱粉は10質量％の固体濃度において調製したとき、25 ℃、0.1ラド／秒の周波数において600 Paまたはそれより大きいG’を特徴とすることが好ましい。 - 特許庁

Further, when the high-concentration impurity layer 2 is formed of an impurity of phosphorus, the heat treatment is performed at a temperature over 1150°C for the period of time from 20 minutes to 60 minutes.例文帳に追加

また、高不純物濃度層２がリンを不純物として形成されているときには、１１５０℃以上の温度で２０分以上６０分以下の熱処理を行う。 - 特許庁

A soil conditioner for preventing nitrogen starvation can be efficiently produced in a short time by heat-treating a part of the plant body in an environment with a limited oxygen concentration at 250-500°C.例文帳に追加

酸素濃度を制限した環境下２５０〜５００℃の温度で加熱処理することで、短時間で、効率よく窒素飢餓を防止した土壌改良材が製造できる。 - 特許庁

The electret is constituted so as to be a coating film containing cycloolefin polymer having solubility dissolving at a concentration higher than 5 mass% to xylene (25°C).例文帳に追加

キシレン（２５℃）に対して５質量％以上の濃度で溶解する溶解度を有するシクロオレフィンポリマーを含有するコーティング膜であることを特徴とするエレクトレット。 - 特許庁

When the pH of the sodium carbonate solution is adjusted to 8-9, the concentration of the slurry is adjusted to 100-200 g/L and the temperature is adjusted to 60-80°C, the grade of sodium in a carbonated lead residue can be lowered to around 0.2-1.5 mass%.例文帳に追加

さらに、溶液のｐHを8〜9、スラリー濃度を100〜200g/L、温度を60〜80℃にすることで炭酸化残渣中のナトリウム品位が0.2〜1.5mass％程度に抑えることができる。 - 特許庁

The zinc oxide-based substrate 2 is characterized in that the impurity concentration of Si, C, Ge, Sn, and Pb as group IV elements satisfies a condition of ≤1×10^17 cm^-3.例文帳に追加

酸化亜鉛系基板２は、ＩＶ族元素であるＳｉ、Ｃ、Ｇｅ、Ｓｎ及びＰｂの不純物濃度が、１×１０^１７ｃｍ^−３以下の条件を満たす。 - 特許庁

The polyamide resin (a) may contain a polyamide resin having a melting point of not less than 165°C with a prescribed concentration (e.g., 30 wt% or more) with respect to the entire polyamide resin (a).例文帳に追加

ポリアミド樹脂（ａ）は、融点１６５℃以上のポリアミド樹脂を、ポリアミド樹脂（ａ）全体に対して所定の濃度（例えば、３０重量％以上）含んでいてもよい。 - 特許庁

Since obtained TMR sensor film includes amorphous Co-Fe-B alloy film containing B of low concentration, a large MR ratio is obtained even by heat treatment of comparatively low temperature (200°C).例文帳に追加

得られたＴＭＲセンサ膜は低濃度のＢを含むアモルファス状のCo-Fe-B合金膜を含むために、比較的低温(200℃)の熱処理でも大きなＭＲ比が得られる。 - 特許庁

It is preferable that the ambient temperature is room temperature to 60°C, the concentration of the ozone gas is 15 to 30 vol%, and the chemical surface modification is performed at normal atmospheric pressure.例文帳に追加

好ましいものとしては、雰囲気温度が常温〜６０℃であり、オゾンガス濃度が１５〜３０vol％であり、常圧下で化学的表面修飾を行わせることである。 - 特許庁

Since the arrangement of the partial files is determined, based on the load information of each server computer A, B, and C, the concentration of loads to a specific server computer can be avoided.例文帳に追加

各サーバ計算機Ａ、Ｂ、Ｃの負荷情報に基づいて部分ファイルの配置を決定するため、特定のサーバ計算機への負荷の集中を回避することができる - 特許庁

The active carbon is obtained by bringing an activated raw active carbon into contact with halogen gas under an atmosphere of ≤10 v/v% oxygen concentration and 400-1,200°C.例文帳に追加

賦活された原料活性炭を、酸素濃度１０ｖ／ｖ％以下の雰囲気下、４００〜１２００℃でハロゲンガスに接触させた得られた活性炭が前記課題を解決した。 - 特許庁