「c-concentration」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

The dissolving concentration of carbon dioxide in the hemolyzing specimen at 2-35°C is 8 mmol/L or above.例文帳に追加

２〜３５℃における前記溶血試料中の二酸化炭素の溶存濃度は８ｍｍｏｌ／Ｌ以上である。 - 特許庁

2-Hydroxynaphthoic acid is sulfonated using sulfuric acid having concentration of 70-90% at 110-140°C.例文帳に追加

２−ヒドロキシナフトイック酸を、１１０〜１４０℃において、硫酸濃度７０〜９０％により、スルホン化する。 - 特許庁

This producing method is to make the wet gas (B) into contact with the concentrated sulfuric acid (C) of a sulfur dioxide concentration of 30 ppm or lower and dry the wet gas.例文帳に追加

本発明の製造方法は、湿潤ガス(B)を二酸化硫黄濃度３０ｐｐｍ以下の濃硫酸(C)と接触させて乾燥させることを特徴とする。 - 特許庁

An increase rate V=A-B+C of the impurity concentration on the anode side is calculated from the increase rate (A), the decrease rate (B), and the increase rate (C) (S6).例文帳に追加

前記増加速度Ａと前記減少速度Ｂと前記増加速度Ｃとから、アノード側不純物濃度の増加速度Ｖ＝Ａ−Ｂ＋Ｃを算出する（Ｓ６）。 - 特許庁

It is preferred that the alkali concentration of the aqueous alkali solution is kept at a level of 3.6 N or more and the heating temperature is higher than 100°C and not higher than 200°C.例文帳に追加

アルカリ水溶液のアルカリ濃度を３．６規定以上に保ち、加熱温度は１００℃を超え、かつ２００℃以下の温度範囲で行なうことが好ましい。 - 特許庁

(5) On either one of (1) to (4), The concentration of the polymeric electrolyte C (wt.%) is made 1≤C≤50.例文帳に追加

［５］前記高分子電解質の溶液の濃度Ｃ（ｗｔ％）が１≦Ｃ≦５０であることを特徴とする上記［１］〜［４］いずれかに記載の製造方法。 - 特許庁

[3] In the continuously manufacturing method explained in [1] or [2], concentration C (wt%) of the polymer electrolyte solution is present in a range of 5≤C≤50.例文帳に追加

［３］前記高分子電解質の溶液の濃度Ｃ（ｗｔ％）が１≦Ｃ≦５０であることを特徴とする上記［１］〜［２］いずれかの連続的製造方法。 - 特許庁

The C concentration of the Si-C solution in the vicinity of the solution surface contacted with the grown SiC single crystal is reduced desirably to ≤7 at%.例文帳に追加

成長したＳｉＣ単結晶が接触している上記溶液面の近傍のＳｉ−Ｃ溶液のＣ濃度を７at％以下に低下させることが望ましい。 - 特許庁

The siloxane polymer insulation film has a dielectric constant of 3.1 or lower, and has a -SiR_2O- repeated structural unit having a concentration of C atoms of 20% of lower.例文帳に追加

シロキサン重合体絶縁膜は3.1若しくはそれ以下の誘電率を有し、20％若しくはそれ以下のC原子濃度を有する-SiR_2O-繰り返し構造単位を有する。 - 特許庁

This pack cosmetic comprises 0.001-20 mass % of a liquid oil component which is dissolved in water at 25°C in a concentration of 1-15 wt.% and in glyceryl 2-ethylhexanoate at 25°C in a concentration of ≥5 wt.%.例文帳に追加

２５℃で水に１〜１５重量％溶解し、かつトリ２−エチルヘキサン酸グリセリルに５重量％以上溶解する２５℃で液状の油分を、０．００１〜２０質量％含有するパック化粧料である。 - 特許庁

There is provided the polylactic acid-based film wherein at least one surface has a surface nitrogen concentration N/C of ≥1.0×10^-3 (hereinafter, the surface having the surface nitrogen concentration N/C of ≥1.0×10^-3 is referred to as surface A).例文帳に追加

フィルムの少なくとも一方の表面の表面窒素濃度Ｎ／Ｃが、１．０×１０^−３以上であるポリ乳酸系フィルム（以下、表面窒素濃度Ｎ／Ｃが１．０×１０^−３以上の表面を、面Ａとする。）。 - 特許庁

The urethane resin (D) contained in (C) has a urea group concentration of 0.5-10 wt.%, a total concentration of a urethane group and the urea group of 4-20 wt.%, a melting point of 160-260°C, and a glass transition temperature of -65 to 0°C.例文帳に追加

（Ｃ）は、ウレタン樹脂（Ｄ）を含有してなり、該ウレタン樹脂（Ｄ）のウレア基濃度が０．５〜１０重量％であり、かつウレタン基濃度とウレア基濃度の合計が４〜２０重量％であり、かつ融点が１６０〜２６０℃であり、かつガラス転移点温度が−６５〜０℃である。 - 特許庁

In the method for cleaning the electronic material using ozone- containing water with an ozone concentration of 5-50 mg/L, cleaning is made under the conditions where c+t≥45 is satisfied, when the ozone concentration of the ozone-containing water and temperature are set to c mg/L and t°C, respectively.例文帳に追加

オゾン濃度５〜５０mg／Ｌのオゾン含有水を用いて電子材料を洗浄する方法であって、オゾン含有水のオゾン濃度ｃmg／Ｌ、温度ｔ℃としたとき、ｃ＋ｔ≧４５を満たす条件で洗浄することを特徴とする電子材料の洗浄方法。 - 特許庁

This skin care preparation contains an alkyl-modified carboxyvinyl polymer and an oil which can be dissolved in water in a concentration of 1 to 15 wt.% at 25°C, can be dissolved in glyceryl tri 2-ethylhexanoate in a concentration of ≥5 wt.% at 25°C, and is liquid at 25°C.例文帳に追加

アルキル変性カルボキシビニルポリマーを含有する皮膚外用剤において、２５℃で水に１〜１５重量％溶解し、かつトリ２−エチルヘキサン酸グリセリルに５重量％以上溶解する２５℃で液状の油分を含有することを特徴とする皮膚外用剤。 - 特許庁

The distribution of carbon C and boron B within the base layer is controlled so that the concentration of the B is higher than the concentration of the C in the side bordering the emitter layer, and upon the formation of the emitter layer, both the B and C are diffused into a portion of the emitter layer bordering the base layer.例文帳に追加

ベース層中におけるＣとＢの分布を、エミッタ層に接する側においてＢ濃度がＣ濃度よりも大きくなるように制御し、エミッタ層を形成する際に、ＢとＣを共に、エミッタ層のうち、ベース層に接する部分に拡散させる。 - 特許庁

The silica glass containing TiO_2 has a fluorine concentration of ≥100 ppm, a fictive temperature of ≤1, 200°C and a coefficient of thermal expansion of 0±200 ppb/°C at a temperature ranging from 0 to 100°C.例文帳に追加

フッ素を１００ｐｐｍ以上含有し、仮想温度が１２００℃以下であり、０〜１００℃での熱膨張係数が０±２００ｐｐｂ／℃であることを特徴とするＴｉＯ_２を含有するシリカガラス。 - 特許庁

The concentration of carbon monoxide in the low pressure off-gas is maintained according to formula: Y>mX+C wherein Y is the molar concentration of carbon monoxide in the low pressure off-gas, X is the concentration (ppm by weight) of ruthenium in the liquid reaction composition, m is about 0.012 and C is about -8.7.例文帳に追加

低圧オフガスにおける一酸化炭素の濃度を式：Ｙ＞ｍＸ＋Ｃ［ここでＹは低圧オフガスにおける一酸化炭素のモル濃度であり、Ｘは液体反応組成物におけるルテニウムの濃度（重量ｐｐｍ）であり、ｍは約０．０１２であり、Ｃは約−８．７である］に従って維持する。 - 特許庁

The nitrogen concentration N% in the surface layer part of the pinion shaft 5 is 0.05 to 0.6 mass%, and the total of the nitrogen concentration N% and the carbon concentration C% is 0.7 to 1.4 mass%.例文帳に追加

ピニオンシャフト５の表層部の窒素濃度Ｎ％は０．０５質量％以上０．６質量％以下であり、窒素濃度Ｎ％と炭素濃度Ｃ％の和は０．７質量％以上１．４質量％以下である。 - 特許庁

A first solution having the solute concentration and the temperature of the point A and a second solution having the solute concentration and the temperature of the point B are mixed to give a third solution having the solute concentration and the temperature of the point C.例文帳に追加

点Ａの溶質濃度及び温度を有する第１溶液と、点Ｂの溶質濃度及び温度を有する第２溶液とを混合して得られる第３溶液は、点Ｃの溶質濃度及び温度を有する。 - 特許庁

This method for storing a glycerol solution containing ascorbic acid in concentration of ≥13 mass% at a low temperature of 0 to -30°C.例文帳に追加

アスコルビン酸濃度が１３質量％以上のグリセリン溶液を０℃〜−３０℃で保管する低温保存方法 - 特許庁

The pH of the nitrification tank is set to 6-8, DO(dissolved oxygen) concentration is set to 0.5-4 mg/l and water temperature is set to 10-40°C.例文帳に追加

硝化槽のｐＨを６〜８とし、ＤＯ濃度を０．５〜４ｍｇ／Ｌとし、水温を１０〜４０℃とする。 - 特許庁

The method is characterized by measuring a cytochrome c concentration in a body fluid such as a blood serum, and using it as an index of the cancer invasion and metastasis.例文帳に追加

血清などの体液中のチトクロムｃ濃度を測定し、癌の浸潤と転移の指標として用いる。 - 特許庁

The inert gas atmosphere is preferred to have an oxygen gas concentration of ≤1,000 ppm and a dew-point temperature of ≤-10°C.例文帳に追加

不活性ガス雰囲気は、酸素ガス濃度が１０００ｐｐｍ以下、露天温度が‐１０℃以下であることが望ましい。 - 特許庁

The E-ALA concentration (c) in the solution is less than 1% and ranges between 0.01 to 0.5%.例文帳に追加

上記溶液中のＥ−ＡＬＡの濃度Ｃは、１％よりも低く、０．０１％〜０．５％の範囲にある。 - 特許庁

In consequence, it is difficult to measure a correct particle concentration for particle components C distributing wide in terms of the particle size.例文帳に追加

このため、粒子サイズが広く分布する粒子成分Ｃは正確な粒子濃度が測定困難であった。 - 特許庁

Therefore, monitoring trace gas concentration (C) by a concentration analyzer CONC verifies whether the gas flowrate ratio is being controlled accurately or not.例文帳に追加

したがって、トレースガス濃度（Ｃ）を、濃度分析計ＣＯＮＣによって、モニタすることにより、ガス流量比制御が正確に行われているかどうかを検証することができる。 - 特許庁

Silicon film is grown in high single crystal or polycrystalline state with higher concentration of percentage content of C or Ge than prescribed concentration.例文帳に追加

ＣやＧｅの含有率を所定濃度以上とすることによりシリコン膜成長時に、転位密度の高い単結晶もしくは多結晶状態での成長するようになる。 - 特許庁

Regarding the production method, using a galvanizing bath in which bath temperature is 400 to 450°C, the concentration of Al is 1.0 to 10 mass%, and the concentration of Mg is 0.10 to 10 mass%, hot dip galvanizing treatment and austempering treatment are simultaneously performed.例文帳に追加

浴温が400〜450℃、浴中Al濃度が1.0〜10mass%、浴中Mg濃度が0.10〜10mass%の亜鉛めっき浴を用いて、溶融亜鉛めっき処理とオーステンパー処理を同時に行う。 - 特許庁

[wherein CRpre is a pre-AJC set cooling rate (°C/sec); LS is a line speed (mpm); Si% is the Si concentration (mass%) in a plating bath; and Ca% is the Ca concentration (mass%) in the plating bath].例文帳に追加

0.9×CRpre≦CR≦1.1×CRpre・・・（A）ここに、CRpre=ｆ(Si%、Ca%）＝4.9×10^-3×LS×（659.05e−0.0096Si%＋500Ca%-577）CRpre：プレAJC設定冷却速度（℃/sec）LS：ラインスピード（mpm）Si%：めっき浴中Si濃度（質量%）Ca%：めっき浴中Ca濃度（質量%） - 特許庁

Further, the ferritic stainless steel sheet is subjected to heating treatment at 800 to 1,000°C, is thereafter cooled in the temperature range from 800 to 400°C at a cooling rate of at least, ≥10°C/sec and is descaled with sulfuric acid to control the concentration of P in the grain boundaries to ≤5 at.% by atomic concentration.例文帳に追加

また、フェライト系ステンレス鋼板を８００℃以上１０００℃以下で加熱処理後、８００℃から４００℃の温度範囲で少なくとも１０℃／sec 以上の冷却速度で冷却し、硫酸によりデスケールすることにより、結晶粒界のＰ濃度が原子濃度にて５ａｔ％以下とする。 - 特許庁

Among an arrangement process, a heating process and a forming process, at least the heating process is carried out in keeping the oxygen concentration in the chamber 10 lower than the atmospheric oxygen concentration, the oxygen concentration in the cavity C lower than the oxygen concentration in the chamber 10, and the cavity C at a positive pressure against the chamber 10.例文帳に追加

配置工程、加熱工程、及び成形工程のうち少なくとも加熱工程を、チャンバ１０内の雰囲気の酸素濃度を大気の酸素濃度よりも低く保ち、且つキャビティＣ内の雰囲気の酸素濃度をチャンバ１０内の雰囲気の酸素濃度よりも低く保つと共にキャビティＣをチャンバ１０に対して陽圧とした状態で行う。 - 特許庁

The typical alkali concentration and temperature condition in the 1st zone are <10 g/L in terms of NaOH and about 80-130°C, e.g. about 80-110°C.例文帳に追加

第一ゾーンにおける典型的なアルカリおよび温度条件はそれぞれ、ＮａＯＨとして表すと１０ｇ／ｌ未満で、約８０〜１３０℃、例えば、約８０〜１１０℃である。 - 特許庁

Under the condition 2, a simulation value C(t)_2 of the formaldehyde concentration is similarly calculated; and if the simulation value C(t)_2 reaches near 0, the operation is switched into the condition 3 of air-conditioning.例文帳に追加

空調条件２でも同様にしてホルムアルデヒドの濃度のシミュレーション値Ｃ（ｔ）_2を算出し、Ｃ（ｔ）_2が０付近となった場合、空調条件３に切り替える。 - 特許庁

A=B-C×1.87 (wherein B is a nitric acid conversion value [gram/liter] of an amount of alkali consumption of the ruthenium nitrate solution and C is a ruthenium concentration [gram/liter] of the ruthenium nitrate solution).例文帳に追加

Ａ＝Ｂ−Ｃ×１．８７（ここで、Ｂは硝酸ルテニウム溶液のアルカリ消費量硝酸換算値［グラム／リットル］、Ｃは硝酸ルテニウム溶液のルテニウム濃度［グラム／リットル］である。） - 特許庁

The copper concentration of solder in the tank is controlled to be lower than 0.85 wt.% when the temperature of solder in the tank is about 255°C.例文帳に追加

槽中はんだの銅濃度は、槽中はんだ温度が２５５℃前後において０．８５重量％未満に制御する。 - 特許庁

The heat treatment is performed in the temperature range of 100 to 300°C in an oxidizing atmosphere having an oxygen concentration of ≥100 ppm.例文帳に追加

熱処理は酸素濃度が１００ｐｐｍ以上である酸化性雰囲気中で１００℃〜３００℃の温度範囲で行う。 - 特許庁

A concentrated liquid C is fed to a concentration chamber 5 disposed between a cation exchange membrane K and the first anion exchange membrane A_1.例文帳に追加

陽イオン交換膜Ｋと第１の陰イオン交換膜Ａ_１との間の濃縮室５に濃縮液Ｃを供給する。 - 特許庁

In Fig. 2 (c), a high-concentration impurity diffusion area 7 is formed as an upper electrode on a diaphragm section 10.例文帳に追加

次に、図２の（ｃ）でダイアフラム部１０上に上部電極となる高濃度不純物拡散領域７を形成する。 - 特許庁

By mixing the liquid with a sugar liquid (20-40% sugar concentration) and culturing at 15-30°C for 48-72 hr, pure cultured liquid is obtained.例文帳に追加

これを糖液（糖濃度20〜40％）に混合し、１５〜３０℃にて４８〜７２時間培養して純粋培養液を得る。 - 特許庁

To provide a low-cost composition containing ubidecarenone in high concentration, and easily liquefied at a temperature (37°C) at the vicinity of the body heat.例文帳に追加

ユビデカレノンを高濃度に含有し、体温付近の温度（３７℃）で容易に液化する、低コストの組成物を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing manganese dioxide is characterized in that manganese dioxide is treated in an acid aqueous solution of 1 N or more concentration at 60°C or higher.例文帳に追加

１規定以上の濃度の酸水溶液中にて６０℃以上の温度で処理した二酸化マンガンを製造する。 - 特許庁

In the high concentration powder transportation, compressed nonoxidizing gas is used as carrier gas, and its temperature is controlled to ≤25°C.例文帳に追加

高濃度粉体輸送においては、圧縮した非酸化性ガスを搬送ガスとして用い、その温度を２５℃以下とする。 - 特許庁

A concentration ratio F/C of fluorine atoms to carbon atoms on the surface of the graphite fluoride is 1.0 or more, and less than 1.8.例文帳に追加

前記フッ化黒鉛の表面におけるフッ素原子と炭素原子との濃度比（[Ｆ]／[Ｃ]）は、１．０以上、１．８未満である。 - 特許庁

Electrocast liquid A used has specifications of nickel ion concentration 650 g/l, boric acid 40 g/l, pH3.9 with a liquid temperature of 55°C.例文帳に追加

電鋳液Ａとして、Ｎｉイオン濃度６５０ｇ／ｌ、硼酸４０ｇ／ｌ、ｐＨ３．９、液温度５５℃のものを使用した。 - 特許庁

What is provided is a skin care preparation containing (a) a mugwort extract, (b) a yeast extract containing zinc in high concentration, and (c) lactoferrin.例文帳に追加

（ａ）ヨモギエキスと（ｂ）高濃度亜鉛含有酵母エキスと（ｃ）ラクトフェリンとを含むことを特徴とする皮膚外用剤。 - 特許庁