「correction process」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

On the other hand, in a process for switching the regeneration braking force to the hydraulic braking force, the brake ECU 100 adds a correction value ΔF to a target value of the hydraulic braking force Fo corresponding to reduction of the carry-out value of the regeneration braking force to renew the target value.例文帳に追加

一方、回生制動力が油圧制動力に切り替わる過程においては、ブレーキＥＣＵ１００は、回生制動力の実行値が減少した分に相当する油圧制動力Ｆｏの目標値に対し、補正値ΔＦを加算し、目標値を更新する。 - 特許庁

To enable the omission of a substantially unnecessary retry process when a C2 correction code of a product code system is processed, and also to attain the reduction of the data reproducing time and the minimization of a possibility of failure in the reproduction demand from an information processor.例文帳に追加

積符号形式のＣ２訂正符号を処理する場合に、実質的に不要なリトライ処理を省略できるようにすると共に、データ再生時間の短縮化及び、情報処理装置からの再生要求の失敗確率を最小化できるようにする。 - 特許庁

To provide a paste applicator where the position of a nozzle can be constituted even without using a dummy substrate, the shortening of a process delayed time and the reduction of the production cost are made possible, and the correctness in the correction of the nozzle position can be improved, and to provide a control method therefor.例文帳に追加

ダミー基板を使用せずともノズルの位置を構成することができ、工程遅延時間の短縮及び生産原価の節減が可能であると共に、ノズル位置補正の正確性を向上させることのできるペースト塗布器及びその制御方法を提供する。 - 特許庁

To execute ion beam machining by allowing a reference object to be always recognized in process of the machining to carry out accurate drift correction even when a minute hole or a minute pattern is used as the reference object in correcting the drift of an irradiation position of an ion beam using the reference object.例文帳に追加

参照対象を用いてイオンビームの照射位置のドリフトを補正する際に、参照対象として微細穴や微細パターンを用いた場合でも、加工途中で参照対象を常に認識できるようにし、高精度のドリフト補正をし、イオンビーム加工を行なう。 - 特許庁

The wafer identification information is acquired by detecting the displacement amount in the reference layer when the correction amount is determined through wafer alignment treatment in the exposure process for forming the patterns of the first hierarchy and the subsequent on the wafer, and by being based on the detected result.例文帳に追加

ウエハ識別情報は、ウエハ上に形成される第一階層以降のパターンを形成する露光工程において、前記ウエハの位置合わせ処理で補正量を求める際に、基準層でのずらし量を検出し、検出結果に基づいて取得する。 - 特許庁

It calculates the differences of the image data mean values between the regions under test, and, if a maximum value of the calculated differences is greater than a predetermined criterion value G, decides that the image data after the shading correction process has a read density nonuniformity.例文帳に追加

そして、各測定対象領域間でのイメージデータ平均値の差を算出し、その算出した差の最大値が予め定める判定基準値Ｇよりも大きければ、シェーディング補正処理後のイメージデータは読取り濃度むらを有していると判定する。 - 特許庁

To provide a method for inspecting a mask defect by which delay caused by pseudo-error occurrence can be prevented and decrease in the accuracy of defect inspection can be prevented in the process of inspecting a mask defect carried out for the pattern obtained by optical proximity effect correction of a designed pattern.例文帳に追加

設計パタンを光近接効果補正して得たパタンに対して実施されるマスクの欠陥検査工程において、擬似的なエラー発生による遅延を防止出来ると共に、欠陥検査精度の低下をも防止出来るマスク欠陥検査方法の提供。 - 特許庁

An adjustment instruction generating device 14 calculates parameter correction quantity concerning a process to be adjusted based on normal data stored in the normal data storage device 13 and the qualitative or quantitative changing amounts calculated by the sensitivity calculating device 12.例文帳に追加

調節指示生成装置１４は規準データ記憶装置１３に記憶されている規準データおよび感度算出装置１２により算出された定性的又は定量的変化分に基づいて、調節すべき工程に関してパラメータ修正量を算出する。 - 特許庁

To provide a landing pattern adjusting apparatus and a cathode-ray tube manufacturing method, which can eliminate correcting magnets in the rear side of the cathode-ray tube, at the same time, can correct landing with excellent accuracy and can simplify the landing correction process when manufacturing the cathode-ray tube.例文帳に追加

陰極線管の裏面側に貼着する補正用磁石を削除すると共に、ランディングを精度よく補正でき、陰極線管の製造時のランディング補正工程が容易なランディングパターン調整装置及びそれを用いた陰極線管製造方法とする。 - 特許庁

To provide an image processing method, an image recording method, an image processing apparatus and an image recording apparatus by which a correction process is immediately performed when a plurality of recording elements being close to each other become abnormal, and a visual sense effect by the approaching of abnormal recording elements is suppressed.例文帳に追加

近接する複数の記録素子が異常となった場合に直ちに補正処理が実行され、異常記録素子の近接による視覚効果が抑制される画像処理方法、画像記録方法及び画像処理装置並びに画像記録装置を提供する。 - 特許庁

The signal waveform 31 is wavingly formed at a limiter 10 and BPF 11 and corrected at a peak level correction 12 such that the watyingly formed signal waveform is a sinusoidal wave with a constant vibration width for multiplying frequency of a carrier wave by a multiplication process 13 to provide a multiplication waveform 33.例文帳に追加

信号波形３１をリミッタ１０とＢＰＦ１１で波形成形し、波形成形した信号波形が定振幅の正弦波になるようにピークレベル補正１２で補正し、逓倍処理１３により搬送波周波数を逓倍して逓倍信号波形３３とする。 - 特許庁

A camera process section 30 makes nonlinear correction of imaging signals output from image sensors 13B, 13G, and 13R converting imaging light into the imaging signals, and a synchronous adding circuit 14 adds a predetermined number of frames of nonlinearly corrected imaging signals, frame by frame.例文帳に追加

撮像光を撮像信号に変換するイメージセンサ１３Ｂ，１３Ｇ，１３Ｒから取り出した撮像信号に、カメラプロセス部３０で非線形補正を施し、非線形補正が施された撮像信号を、同期加算回路１４でフレーム単位で所定フレーム数加算する。 - 特許庁

A camera process section 14 makes nonlinear correction of imaging signals output from image sensors 13B, 13G, and 13R converting imaging light into the imaging signals, and a synchronous adding circuit 15 adds a predetermined number of frames of nonlinearly corrected imaging signals, frame by frame.例文帳に追加

撮像光を撮像信号に変換するイメージセンサ１３Ｂ，１３Ｇ，１３Ｒから取り出した撮像信号に、カメラプロセス部１４で非線形補正を施し、非線形補正が施された撮像信号を、同期加算回路１５でフレーム単位で所定フレーム数加算する。 - 特許庁

By performing a recycle process 115 considering the delay of wiring by using the cell 111, the cell 112 and arrangement information 114, the final gate level net list 116 which realizes a changed logic by only wiring correction can be prepared.例文帳に追加

再利用セル１１１と新規セル１１２と配置情報１１４を用いて配線遅延を考慮した再利用工程１１５を行うことで、配線修正のみで変更後の論理を実現できる最終ゲートレベルネットリスト１１６を作成することが可能となる。 - 特許庁

A positional recognition and a positional correction are made by an image processing in a lamination process by making at least one end parts of an area in width direction, where the porous heat resistant layer arranged between the cathode and/or the anode contacts, and the separator, and the separator abut on each other, different in color tone from each other.例文帳に追加

正極または／および負極とセパレータとの間に配した多孔質耐熱層とセパレータとが、接する領域の少なくとも幅方向の一端部が互いに異なる色調とし、積層工程時に画像処理による位置認識と位置補正を行う。 - 特許庁

To provide a correction method for color filters for a liquid crystal display, which corrects the width of a branch rib to a larger size during a manufacturing process, and to provide a manufacturing method and a manufacturing apparatus which manufacture other items having difference in a direction of the larger width of the branch rib without separately producing a photomask.例文帳に追加

枝リブの幅を大きなものへ製造工程内にて修正する液晶表示装置用カラーフィルタの修正方法、枝リブの幅に大きな方向への相違がある他品目をフォトマスクを別途に作製せず製造する方法、製造装置を提供する。 - 特許庁

In an image processing process, a masking image area is selected using a simple operation, in which a user marks the defective area of an original digital image, and an image correction can be completed quickly by an automatic calculation function at the inside of a computer.例文帳に追加

本発明の影像処理過程においては、使用者は元デジタル影像の不具合エリアに対してマークする、と言う簡単な作業のみで、マスキング影像エリアを選択後、コンピューター内部の自動計算機能により、迅速に影像修正を完了することができる。 - 特許庁

When pixels with abnormal pixel values are determined to be included, the computer system 10 corrects the sensitivity distribution data so that sensitivity differences between respective channels at positions of the pixels become larger and performs again the unfolding process using the sensitivity distribution data after the correction.例文帳に追加

そして、計算機システム１０は、画素値が異常な画素が含まれていると判定した場合に、その画素の位置における各チャンネル間の感度差が大きくなるように感度分布データを修正し、修正後の感度分布データを用いて展開処理を再実行する。 - 特許庁

The integrated verification and manufacturability tool includes a hierarchical database to store design data accessed by a plurality of verification tool components (e.g., layout versus schematic [440], design rule check [450], optical process correction [430], and phase mask shift assignment [420]).例文帳に追加

集積化検証および製造適応ツールは、複数の検証ツールコンポーネント（例えば、レイアウト対回路図［４４０]、設計ルールチェック[４５０]、光学プロセス修正[４３０]、位相マスクシフト割り当て[４２０]）によってアクセスされる設計データを格納する階層型データベースを含む。 - 特許庁

The integrated verification and manufacturability tool includes a hierarchical database to store design data accessed by a plurality of verification tool components (e.g., layout versus schematic 440, design rule check 450, optical process correction 430, and phase shift mask assignment 420).例文帳に追加

集積化検証および製造適応ツールは、複数の検証ツールコンポーネント（例えば、レイアウト対回路図４４０、設計ルールチェック４５０、光学プロセス修正４３０、位相マスクシフト割り当て４２０）によってアクセスされる設計データを格納する階層型データベースを含む。 - 特許庁

The injection quantity correction device for the internal combustion engine executes a process for correcting variation of fuel injection quantities among cylinders in regard to the internal combustion engine provided with a first EGR device (LPL-EGR device) and a second EGR device (HPL-EGR device).例文帳に追加

内燃機関の噴射量補正装置は、第１のＥＧＲ装置（ＬＰＬ−ＥＧＲ装置）及び第２のＥＧＲ装置（ＨＰＬ−ＥＧＲ装置）が設けられた内燃機関に対して、気筒間の燃料噴射量のばらつきを補正するための処理を行う。 - 特許庁

In a process of forming the source electrode and the drain electrode, first correction data is created by correcting exposure data based on warp of the substrate and a ratio of expansion and contraction of the substrate in a condition where a channel length of the thin film transistor is fixed by using scaling processing.例文帳に追加

ソース電極およびドレイン電極を形成する工程において、基板の歪み、または基板の伸縮率に基づいて、露光データを、スケーリング処理を用いて薄膜トランジスタのチャネル長を固定した状態で補正して第１の補正データを作成する。 - 特許庁

Position correction as a stage whose processing time is short and outward shape inspection are combined as a stage process group, and two stages are performed for the semiconductor device S at one stop position of the conveying mechanism 1 to decrease stop positions of the conveying mechanism 1.例文帳に追加

処理時間の短い工程である位置補正と外観検査を工程処理群として組み合わせて構成し、搬送機構１の一つの停止位置において、半導体素子Ｓに２つの工程を施すことによって、搬送機構１の停止位置を減らす。 - 特許庁

To provide: a warpage prevention structure of an aluminum die-cast molding capable of reducing a manufacturing time and reducing manufacturing cost by preventing warpage after die-casting an aluminum die-cast product to eliminate a warpage correction process; and a power converter using the same.例文帳に追加

アルミニウムダイキャスト品の成型後の反りを防止して、反り矯正処理を省略し、製造時間を短縮するとともに、製造コストを低減することができるアルミニウムダイキャスト成型品の反り防止構造及びこれを使用した電力変換装置を提供する。 - 特許庁

In the image processing method for acquiring a satisfactory edge enhance image using the image scanner, a multivalued image scanned by the image scanner is processed in the edge enhancement process through a differential filter, and also an edge enhanced image is formed by conducting amplification and correction by using a sealing function.例文帳に追加

イメージスキャナを用いて良好なエッジ強調画像を取得する画像処理方法において、イメージスキャナで読み取った多値画像を微分フィルタによってエッジを強調するとともに、シーリング関数による増幅・補正をしてエッジ強調画像を生成する。 - 特許庁

To provide an image reading apparatus and an image extension/contraction correction method capable of improving the quality of a read image by suppressing the extension/contraction of the read image caused by revising a combination carrying means associated with original carrying in an original carrying process.例文帳に追加

原稿の搬送過程で、原稿搬送に携わる搬送手段の組み合わせが変更されることに起因する読取画像の伸縮を抑制することで、読取画像の品質の向上を図った画像読取装置及び画像伸縮補正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mask data creation method by which what kind of OPC (optical proximity correction) process is performed can be easily read out and removal of an OPC pattern in an inhibited region can be easily checked, and to provide a mask manufacturing apparatus, a mask, a program and a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

どの種類のＯＰＣ処理が行われているかを容易に読み取れ、かつ禁止領域でＯＰＣパターンが除去されていることが容易に確認できるマスクデータ作成方法、マスク製造装置、マスク、プログラム及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

When the true angle of depression of the transducer 12 is obtained, error correction process on the basis of a reference value stored in the storage region 38 is performed to a voltage value Va outputted from a potentiometer 26, corresponding to the angle of depression of the transducer 12.例文帳に追加

送受波器１２の真の俯角を求める際には、ポテンショメータ２６から前記送受波器１２の俯角に応じて出力される電圧値Ｖａに対して、前記俯角記憶領域３８に記憶されている基準値に基づく誤差補正処理が施される。 - 特許庁

To obtain a process for producing a semiconductor product in which pattern dimensions are brought close to the target dimensions when a resist pattern is formed by a double exposure method, and light exposure is corrected individually for two sheets of masks by correcting the light exposure while relating respective correction quantities with each other.例文帳に追加

半導体製品の製造方法に関し、二重露光法でレジスト・パターンを形成する場合、２枚のマスクに対する露光量を別個に補正する際、それぞれの露光量に於ける補正量を関連させて補正し、パターン寸法を目標に近付ける。 - 特許庁

The image correction program performs a decoding process corresponding to the requested information on the image data specified by the file number and stores the data of the image data body and the attached information attached to the image data in the shared memory.例文帳に追加

これにより、画像補正プログラムは、通知されたファイル番号で特定される画像データに対して要求情報に応じたデコード処理を行った場合に、デコード処理後の画像データ本体のデータおよび画像データに付属する付属情報を共有メモリに格納する。 - 特許庁

Color-corrected output image data are stored from the RAM 15 to the RAM 6 (step 54) and of all the pixels of the image of an inputted frame are corrected, color correcting process is performed upon the next frame and if no correction is performed, processing is returned to the step 52 (step 55).例文帳に追加

色補正された出力画像データを、ＲＡＭ１５からＲＡＭ６へ格納し（ステップ５４）、入力した駒の画像の全ての画素について補正が行われると、次の駒の色補正処理を行い、補正が行われていなければ、ステップ５２へ戻る（ステップ５５）。 - 特許庁

Further, this image processor is able to perform more natural color reproduction since a process for putting the chromaticity of the target white point closer to the real chromaticity of white is carried out by making the value D smaller with the elapsed time after the start of color correction.例文帳に追加

さらに、本発明による画像処理装置は、色補正開始後、時間の経過とともにＤの値を小さくすることによって目標の白色点の色度を真の白の色度に近づける処理を行っているので、より自然な色再現が可能である。 - 特許庁

In the method for manufacturing the hologram color filter by using an interference exposure method using a master hologram, the master hologram is preliminarily subjected to correction that the deviation and turned deviation of the transfer pattern caused in the manufacturing process is added to the design pattern of the master hologram.例文帳に追加

また、マスタホログラムを利用する干渉露光法を用いたホログラムカラーフィルタの製造方法において、製造工程中に発生する転写パターンのずれと逆向きのずれを、予めマスタホログラム上の設計パターンに加える補正を行ったマスタホログラムを用いる。 - 特許庁

To provide a method for making an exposure mask which enables transfer formation of a real pattern with high dimensional accuracy with respect to the design pattern onto a wafer by proximity effect correction considering the loading effect arisen in a dry etching process for making an exposure mask.例文帳に追加

露光マスク作製のドライエッチング工程で発生するローディング効果も考慮した近接効果補正により、設計パターンに対する寸法精度の良好な実パターンをウェハ上に転写形成することが可能な露光マスクの作製方法を提供する。 - 特許庁

The priority correction means 12 calculates the priorities again by substituting the time corresponding to the residence time of the remaining work time used for calculation of the priority with an updated residence time in consideration of the standard work time and scheduled order of the work in a bottleneck process, for each of the plurality of workpieces in the bottleneck process in a plurality of work processes.例文帳に追加

優先度補正手段１２は、複数の作業工程のうちボトルネックとなるボトルネック工程に存在する複数のワークについて、ワーク毎に、優先度の算出に用いた残作業時間のうちの滞留時間に相当する部分を、ボトルネック工程におけるワークの予定作業順位と標準作業時間を加味した更新滞留時間に置き換えて、優先度を再計算する。 - 特許庁

The method for controlling the XY table includes: an actual coordinate obtaining process of moving each point in a virtual matrix as a target coordinate point, and obtaining actual coordinate data having each actual movement coordinate point of the set table 2; and a coordinate correction process of correcting the target coordinate point in a movement instruction to an X-axis movement mechanism 3 and a Y-axis movement mechanism 5 based on the obtained actual coordinate data.例文帳に追加

仮想マトリクスにおける各点を目標座標点として移動させて、セットテーブル２の各実移動座標点を有する実座標データを取得する実座標取得工程と、取得した実座標データに基づいて、Ｘ軸移動機構３およびＹ軸移動機構５に対する移動指令における目標座標点を補正する座標補正工程と、を有する。 - 特許庁

When the detection means 701 detects the unbalance of the drum 630 in the spin-drying rotation of the drum 630 performed after supplying the metal ion-added water supplied from the ion elution unit to the drum 630, the unbalance correction means 702 corrects the unbalance by performing a process different from the process performed in detecting the unbalance when the metal ion-added water is not supplied.例文帳に追加

アンバランス修正手段７０２は、イオン溶出ユニットからドラム６３０に供給される金属イオン添加水の供給後に実行されるドラム６３０の脱水回転時に検知手段７０１がドラム６３０のアンバランスを検知した場合に、上記金属イオン添加水の非供給時におけるアンバランス検知時とは異なる処理を実行することにより、上記アンバランスを修正する。 - 特許庁

The digital sound reproducing device has an inputting section which reads audio data that have an intrinsic field frequency and are made compatible with a fundamental format, from a recording medium and a processing section 5' which is designed to process audio data that have fundamental field frequency and are based on the fundamental format, and includes a decoding means that conducts a coding process for error correction.例文帳に追加

デジタル音声再生装置は、固有フィールド周波数を有すると共に基本フォーマットに適合されたオーディオデータを記録媒体から読込む入力部と、基本フィールド周波数を有すると共に基本フォーマットに基づいたオーディオデータを処理するように設計されており、そのエラー訂正用の符号化処理を行う復号化手段を含む処理部５’とを有する。 - 特許庁

A code identifying means 5 repeats operation from a process for setting a combination of code parameters to a process for calculating a statistic amount, calculates the statistic amount for all combinations of code parameters being estimated, extracts statistic amounts satisfying specified conditions and then estimates the parameters of an error correction code from the code parameters statistic amounts of which are determined.例文帳に追加

符号識別手段５が、符号パラメータの組み合わせを設定する処理過程から統計量を算出する処理過程までを繰り返し、想定される全ての符号パラメータの組み合わせについて統計量をそれぞれ算出し、その中から所定の条件を満たすものを抽出して、その統計量が求められた符号パラメータから誤り訂正符号のパラメータを推定する。 - 特許庁

The method of correcting the recessed defects on the overcoat layer 4 formed on the colored layer 3 of the color filter 5 includes a defect correction ink applying process to apply defect correction ink 7 to the recessed defects 6 found on the overcoat layer in the defect check carried out in advance and to correct them.例文帳に追加

カラーフィルタ５の着色層３上に形成されたオーバーコート層４に存在する凹部欠陥を修正するカラーフィルタの修正方法であって、予め実施された欠陥検出検査において検出された、上記オーバーコート層に存在する上記凹部欠陥６に欠陥修正用インキ７を塗布し、上記凹部欠陥を修正する欠陥修正用インキ塗布工程を有することを特徴とするカラーフィルタの修正方法。 - 特許庁

A code error correction device using parallel concatenated codes consisting of a plurality of (N, K) system block codes is composed of a coder that outputs coded words obtained by coding and interleaving inputted information blocks of M×K units, and a decoder that carries out decoding and deinterleaving the above coded words in M×K units and repeats a decoding process for a specified number of times based on the correction flag information.例文帳に追加

複数の（Ｎ，Ｋ）組織ブロック符号からなる並列連接符号を用いた符号誤り訂正装置は、入力されたＭ×Ｋ単位の情報ブロックからその符号化とインターリーブとを行った符号語を出力する符号器と、前記符号語に対してＭ×Ｋ単位で復号化とデインターリーブとを行い、その訂正フラグ情報に基づいて所定回数の復号処理を繰り返す復号器と、で構成される。 - 特許庁

Specifically, it defines risks by classifying them into strategic risk ("risk associated with business opportunities") and operational risk ("risk associated with the execution of business activities") and presents risk management through the following process: (i) Risk Detection and Identification; (ii) Risk Measurement; (iii) Risk Evaluation; (iv) Choosing Risk Treatment; (v) Evaluation of Remaining Risks; (vi) Policies Addressing Risks and Monitoring and Correction of Risk Treatment; and (vii) Evaluation and Correction of Effectiveness of Risk Management.例文帳に追加

具体的には、リスクを戦略リスク（「事業機会に関連するリスク」）とオペレーション・リスク（「事業活動の遂行に関連するリスク」）の２つに分類して定義した上で、①リスクの発見及び特定、②リスクの定量的算定、③リスクの定性的評価、④リスク対策の選択、⑤残留リスクの評価、⑥リスクへの対応方針及び対策のモニタリングと是正、⑦リスクマネジメントの有効性評価と是正、というプロセスによるリスク管理を提示している。 - 経済産業省

A main step of an automation process to be used for auto-focus, namely, automatic focusing and astigmatism correction matches a column after the initial setup.例文帳に追加

本発明によれば、自動焦点、自動コントラスト、ｘ及びｙの両方の方向における非点収差の自動補正は、フォーカス誘起型イメージ回転、サンプル特徴部オリエンテーション及びイメージ変形、フォーカス誘起型イメージ倍率変化と独立的なものであり、且つ種々の種類のノイズに影響を受けることはない。 - 特許庁

In the process, a lower limit guard value efgafxgd for limiting reflection of a learning value is set when catalyst quick warming up control is executed with using the learning value corresponding to light load zone out of learning values of correction value of injection quantity learned for each load zone beforehand.例文帳に追加

当該処理では、予め負荷領域毎に学習される噴射量の補正値の学習値のうち軽負荷領域に対応する学習値を使用して触媒急速暖機制御が行われる場合に、学習値の反映を制限するための下限ガード値ｅｆｇａｆｘｇｄが設定される。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus for suppressing vibration and deviation in a position of a process cartridge relative to an apparatus body even when a developer carrier is separated from a photoreceptor, thereby preventing degradation in image formation accuracy and shortening correction time during image formation.例文帳に追加

現像剤担持体を感光体に対して離間させても、プロセスカートリッジの装置本体に対する位置ずれや振動を抑制することができ、画像形成精度の低下を防止し、画像形成時の補正時間の短縮を図ることのできる、画像形成装置を提供すること。 - 特許庁