「deposition control」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

PM DEPOSITION QUANTITY ESTIMATION CONTROL DEVICE例文帳に追加

ＰＭ堆積量推定制御装置 - 特許庁

DEPOSITION APPARATUS, DEPOSITION APPARATUS CONTROL APPARATUS, DEPOSITION APPARATUS CONTROL METHOD, DEPOSITION APPARATUS USING METHOD AND OUTLET MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

蒸着装置、蒸着装置の制御装置、蒸着装置の制御方法、蒸着装置の使用方法および吹き出し口の製造方法 - 特許庁

FILM DEPOSITION APPARATUS AND PARTICLE CONTROL METHOD THEREOF例文帳に追加

成膜装置と成膜装置のパーティクル制御方法 - 特許庁

BIAS SPATTER FILM DEPOSITION PROCESS AND FILM THICKNESS CONTROL METHOD例文帳に追加

バイアススパッタ成膜方法及び膜厚制御方法 - 特許庁

It is also possible to control the deposition of calcium carbonate by using electrophoresis during the deposition.例文帳に追加

そのさい電気泳動法を利用して炭酸カルシウムの析出をコントロールすることもできる。 - 特許庁

DOUBLE SHUTTER CONTROL METHOD FOR MULTITARGET SPUTTERING DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加

多元スパッタ成膜装置の二重シャッタ制御方法 - 特許庁

SYSTEM FOR FORMING PATTERN VAPOR DEPOSITION LAYER FROM COMPRESSED FLUID AT DUAL CONTROL VAPOR DEPOSITION CHAMBER例文帳に追加

二重制御蒸着室において圧縮流体からパターン蒸着を形成するためのシステム - 特許庁

MARINE ORGANISM DEPOSITION CONTROL METHOD, SYSTEM, AND RECORDING MEDIUM例文帳に追加

海生生物付着制御方法とシステムおよび記録媒体 - 特許庁

DEPOSITION SYSTEM USING NOISE CANCELLER AND ITS CONTROL METHOD例文帳に追加

ノイズ除去機を利用した蒸着システム及びその制御方法 - 特許庁

TEMPERATURE CONTROL DEVICE IN VACUUM VESSEL, AND THIN FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加

真空容器内の温度制御装置および薄膜形成方法 - 特許庁

FLOW RATE CONTROL DEVICE FOR EVAPORATION MATERIAL, AND VAPOR DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

蒸発材料の流量制御装置および蒸着装置 - 特許庁

IN-LINE VACUUM FILM DEPOSITION APPARATUS, AND COOLING CONTROL METHOD THEREOF例文帳に追加

インライン式真空成膜装置およびその冷却制御方法 - 特許庁

To provide a vacuum deposition apparatus which, even for vapor deposition materials having different evaporation quantities and evaporation temperatures, exhibits satisfactory control performance of the heating temperature of the vapor deposition materials, and consequently can highly accurately control the vapor quantity of the vapor deposition materials.例文帳に追加

蒸発量、蒸発温度が異なる蒸着材料であっても、蒸着材料の加熱温度の制御性が良く、蒸着材料の蒸気量を高精度に制御できる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition control method, a film deposition control device, and a film deposition apparatus capable of performing the consistent film deposition by correctly detecting and controlling the state of a covering material.例文帳に追加

被覆材料の状態をより正確に検出して制御することで、安定した成膜を行うことができる成膜制御方法、成膜制御装置、この制御装置を具える成膜装置を提供する。 - 特許庁

To control the deposition of a spray liquid on an electrode.例文帳に追加

電極における噴霧液の付着量を抑制することである。 - 特許庁

IMPURITY CONTROL IN HDP-CVD DEPOSITION/ETCHING/DEPOSITING PROCESSES例文帳に追加

ＨＤＰ−ＣＶＤ堆積／エッチング／堆積プロセスの不純物コントロール - 特許庁

NANO-STRUCTURE MAKING CONTROL METHOD USING ELECTRON BEAM-INDUCTIVE VAPOR DEPOSITION METHOD例文帳に追加

電子ビーム誘起蒸着法を用いたナノ構造作成制御方法 - 特許庁

FILM DEPOSITION OPERATING METHOD BY VACUUM FLOW RATE CONTROL VALVE DEALING WITH ALD例文帳に追加

ＡＬＤ対応真空流量調整バルブによる成膜操作方法 - 特許庁

FLOW RATE CONTROL DEVICE AND METHOD, AND THIN FILM DEPOSITION DEVICE例文帳に追加

流量制御装置、薄膜堆積装置および流量制御方法 - 特許庁

To provide a vacuum deposition system capable of correctly performing the control of a vapor deposition rate to the body to be vapor-deposited.例文帳に追加

被蒸着体への蒸着速度の制御を正確に行なうことができる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

To improve the adhesion of the film to be deposited, to efficiently control film deposition conditions, and to improve a film deposition rate in an aerosol gas deposition process.例文帳に追加

エアロゾルガスデポジション法において、形成される膜の密着力の向上、及び成膜条件の効率的な制御、及び成膜レートの向上を目的とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a crucible, a deposition device and an organic EL device, capable of avoiding enlarging of the deposition device, and easy to control a deposition volume.例文帳に追加

蒸着装置の大型化を回避することができ、かつ、蒸着量の調節が容易な坩堝、蒸着装置及び有機ＥＬ装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an epoch-making vapor deposition system which can stably control a vapor deposition rate for a long period of time and has extremely excellent practicality, and to provide a vapor deposition method.例文帳に追加

長時間安定して蒸着レート制御することができる極めて実用性に秀れた画期的な蒸着装置並びに蒸着方法を提供するものである。 - 特許庁

Based on the detected evaporation speed, speed control of the linear movement of each deposition source is individually executed to set the deposition speed of the deposition film to the substrate constant.例文帳に追加

そして検知された蒸発速度に基いて、基板への蒸着膜の堆積速度が一定になるように各蒸着源の直線移動の速度制御を個別に行う。 - 特許庁

SOURCE GAS FLOW PATH CONTROL IN PECVD SYSTEM TO CONTROL BY-PRODUCT FILM DEPOSITION ON INSIDE CHAMBER例文帳に追加

ＰＥＣＶＤシステムにおけるソースガス流路の制御によるチャンバ内部での副生成物の膜堆積制御 - 特許庁

Further, the electron gun 4 is connected to a vapor deposition rate control section 11 for controlling the vapor deposition rate to a prescribed range.例文帳に追加

さらに、電子銃４は、蒸着レートを所定範囲に制御するための蒸着レート制御部１１に接続されている。 - 特許庁

With this, enlargement of the deposition device can be avoided, and a crucible easy to control a deposition volume with can be obtained.例文帳に追加

これにより、蒸着装置の大型化を回避することができ、かつ、蒸着量の調節が容易な坩堝を得ることができる。 - 特許庁

METHOD FOR SURFACE CONTROL FOR ABSORPTION OF LIGHT AND POLYANILINE DEPOSITION例文帳に追加

光の吸収のための表面調製及びポリアニリン堆積に関する方法 - 特許庁

To provide a film deposition system by which deposition of a multilayered film can be performed with high precision and deposition control for a thin film having a thickness of ≤λ/4 of measuring wavelength which is difficult to control by the conventional optical monitor is made possible.例文帳に追加

多層膜の成膜制御を高精度で行え、従来の光学モニタでは制御が困難な測定波長のλ/4以下の厚さの薄膜の成膜制御を可能とする成膜装置を提供する。 - 特許庁

In the method and system for vacuum deposition by which the vapor deposition material is evaporated in a vacuum chamber 10 to form a deposit film of the vapor deposition material on a substrate 40 for vapor deposition, pressure in the vacuum chamber 10 is controlled to control the deposition rate of the vapor deposition material.例文帳に追加

真空槽１０内部において蒸着物質を蒸発させて被蒸着物４０に蒸着物質の蒸着膜を成膜する真空蒸着法及び真空蒸着装置において、真空槽１０内部の圧力を制御することによって、蒸着物質の蒸着速度を制御することを特徴とする。 - 特許庁

The cold and hot gases from the vortex tube are adapted to control the temperature of the deposition device.例文帳に追加

渦巻管からの低温ガス及び高温ガスは、塗布装置の温度を制御する。 - 特許庁

To manufacture a synthetic gas while reaction at high temperature and carbon deposition are kept under control.例文帳に追加

高温での反応および炭素析出を抑制しつつ、合成ガスを製造する。 - 特許庁

The device includes an ink supply mechanism, a discharge control mechanism, an ink deposition mechanism, and a camera unit.例文帳に追加

インク供給機構、吐出制御機構、インク被着機構、カメラユニットを具備する。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition system where the control of a vapor deposition rate to the body to be vapor-deposited can be swiftly and correctly performed.例文帳に追加

被蒸着体への蒸着速度の制御を迅速に且つ正確に行なうことができる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition system and a film deposition method which achieve more precise control of film thickness when a multilayer film is formed on a substrate.例文帳に追加

基材上に多層膜を形成する際に、より高精度な膜厚制御が可能な成膜装置および成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrochromic element having high coloring efficiency at a low cost by a film-deposition technique by which high speed film-deposition is made possible and control of a film-deposition condition for forming a gap can be easily performed.例文帳に追加

高速成膜が可能であり、また空隙形成のための成膜条件制御も容易な成膜技術により、発色効率の高いエレクトロクロミック素子を低コストに提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition device and a film deposition method where the control of a film deposition rate can be performed at high precision, and a film is deposited with high reproducibility allowing a mass-production of elements.例文帳に追加

成膜速度の制御を精度良く行うことが可能であると共に、素子の量産が可能な高い再現性の成膜を可能とする成膜装置および成膜方法を実現する。 - 特許庁

To provide an inline-type vapor deposition apparatus which can control a film thickness with high accuracy and also requires only few sheets of masks for vapor deposition even when continuously conducting the vapor deposition onto articles each having a different vapor deposition pattern; a vapor deposition method using a mask; and a method for manufacturing an organic-electroluminescence device.例文帳に追加

膜厚を高い精度で制御できるとともに、蒸着パターンが異なる蒸着を連続して行なう場合でも蒸着用マスクの枚数が少なく済むインライン式蒸着装置、マスク蒸着方法、および有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

An oxygen concentration in the sputtering atmosphere is controlled by plasma emission control to perform film-deposition.例文帳に追加

プラズマエミッションコントロールによりスパッタ雰囲気の酸素濃度が制御されて成膜される。 - 特許庁

Furthermore, the control unit 100 controls the loading temperature to be set higher than the film deposition temperature.例文帳に追加

また、制御部１００は、ロード温度を成膜温度よりも高い温度に設定する。 - 特許庁

To selectively control a deposition of materials to a semiconductor wafer 16 and an etching of the materials.例文帳に追加

半導体ウエハ（１６）への材料の堆積およびエッチングを選択的に制御すること。 - 特許庁

The thin film is formed by vacuum vapor deposition or sputtering to roughly control its thickness.例文帳に追加

薄膜は真空蒸着やスパッタリングで作製し、その厚さを大まかに設定する。 - 特許庁

In a vapor deposition method, by performing a movement control of a slit plate 22 having a slit 22a and an incident angle control of the deposition substance by a rotation angle control of a substance support base 17 at the same time, the deposition angle within the surface of the substrate W is uniformized.例文帳に追加

本発明では、スリット２２ａを有するスリット板２２の移動制御と、基板支持台１７の回転角度制御による蒸着物質の入射角制御とを同時に行うことによって、基板Ｗ面内における蒸着角度の均一化を図る。 - 特許庁

Core wires, the deposition control cylinder, etc. are removed from the positioning plate 12 and the columnar metal.例文帳に追加

位置決め板１２及び柱状金属から芯線、メッキ規制筒等を除去する。 - 特許庁

This device is equipped with a laser light source for irradiating a deposition substrate with laser light, and a control device for performing output control of the laser light source, to thereby change the irradiation intensity of the laser light during a deposition process.例文帳に追加

成膜基板にレーザ光を照射するレーザ光源と、レーザ光源の出力制御を行う制御装置とを備え、成膜工程中にレーザ光の照射強度を可変する。 - 特許庁