例文 (598件) |
defect generationの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 598件
To provide a friction/agitation joining method by which the generation of a tunnel-shaped joining defect accompanied by a shortage of a plastic flow is controlled in the friction/agitation joining method wherein two joining members having different high-temperature deforming resistances are butt-joined.例文帳に追加
高温変形抵抗が相異する2個の接合部材を突合せ接合する摩擦撹拌接合法であって、塑性流動不足に伴うトンネル状接合欠陥の発生を抑制することのできる摩擦撹拌接合法を提供すること。 - 特許庁
To provide a molding stock transferring device and a molding stock transferring method where, when an optical glass preform in a softened state is arranged on a die for molding, and is molded, an optical glass preform is arranged at the desired position of the die for molding, and further, the generation of a molding defect is surely suppressed.例文帳に追加
軟化状態の光学ガラス予備成形体を成形用金型上に配置して成形を行う際に、成形用金型の所望の位置に光学ガラス予備成形体を配置するとともに、成形不良の発生を確実に抑えること。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a semiconductor device which eliminates the need for tapering a connection hole by wet etching to reduce the aspect ratio of the connection hole and can reduce the generation rate of a connection hole formation defect.例文帳に追加
本発明は、接続孔のアスペクト比を低減するために、ウェットエッチングにより接続孔にテ−パを施す必要がなく、接続孔形成不良の発生率を低減することができる半導体装置の製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁
The pattern inspection device 1 is equipped with an ideal pattern generation part 30 which automatically generates an ideal pattern PR and a comparison decision part 50 which decides a defect of an inspected pattern by using the result of a comparison between the ideal pattern PR and inspected pattern PS.例文帳に追加
パターン検査装置1は、理想パターンPRを自動生成する理想パターン生成部30と、理想パターンPRおよび被検査パターンPSとの比較結果を用いて被検査パターンの欠陥を判定する比較判定部50とを備えている。 - 特許庁
To provide a semiconductor device manufacturing method which includes an etch-back process that prevents the generation of the etching residue of a tungsten film or a titanium nitride film at the time of forming a tungsten plug having a small plug loss and hence can make stable etching possible with less wiring defect.例文帳に追加
プラグロスの小さいタングステンプラグを形成する際に、タングステン膜または窒化チタン膜のエッチング残渣の発生を防止し、配線不良が少なく安定したエッチングを可能にするエッチバック工程を備えた半導体装置の製造方法の提供。 - 特許庁
To provide a method and an apparatus for plastic working of a metal-made member with which the metal-made member having good shape of the tip-edge part of a cylinder part 19 is stably obtained by preventing the generation of a defect, such as under-fill in the tip-edge part of the cylindrical part 19.例文帳に追加
円筒部19の先端縁部に欠肉等の欠陥が生じる事を防止して、この円筒部19の先端縁部の形状が良好な金属製部品を安定して得られる塑性加工方法及び塑性加工装置を実現する。 - 特許庁
To provide a coating head in which bubbles existing in a coating liquid caused by generation of pin hole defect or the like are easily eliminated and a flow rate of the coating liquid becomes approximately uniform in a width direction of a web W, a coating device and a coating method.例文帳に追加
ピンホール欠点等を生じさせることとなる塗布液に存在する気泡を排除しやすくするとともに、塗布液の流量が、ウェブWの幅方向において略均一になるような塗布ヘッド、塗布装置及び塗布方法を提供する。 - 特許庁
To propose technique for preventing the generation of the defect of oblique striking by detecting the "obliquely-gripping" of a workpiece conveyed in a transfer device for the workpiece which is provided on a multistage press device and a method of detecting the defective grip in the transfer device.例文帳に追加
多段式プレス装置に備えられるワークのトランスファ装置及び該トランスファ装置の把持不良検出方法であって、搬送されるワークの「斜め掴み」現象をも検出して、斜め打ち不良の発生の防止を図る技術を提案する。 - 特許庁
To provide an image pickup device not to generate degradation of image quality due to unlimited defect compensation by evaluating pixel distribution when defective pixel information is acquired and suppressing generation of a defective pixel in the case of image pickup within a fixed allowable standard.例文帳に追加
欠陥画素情報の取得に際して画素分布を評価して、撮像時の欠陥画素の発生を一定の許容基準以内にとどめるようにして、無制限な欠陥補償による画質劣化を生じさせない撮像装置を提供する。 - 特許庁
To provide a control technology which can actualize excellent joining quality with a suitable precision according to a joining condition, and at the same time, can prevent or suppress the generation of an internal cavity defect, particularly in a double acting type friction stir spot welding method.例文帳に追加
特に、複動式の摩擦攪拌点接合法において、接合条件に応じて好適な精度で良好な接合品質を実現し得るとともに、内部空洞欠陥の発生を防止または抑制することができる制御技術を提供する。 - 特許庁
To prevent the generation of malfunction such as increase in error in recording parameter to be obtained or the obtainment of erroneous values, when the property of a recording track (sector) to be used is deteriorated due to defect or expiration of its life at test recording or reproducing operation to obtain recording pulse condition.例文帳に追加
記録パルス条件を求めるテスト記録再生時に、使用する記録トラック(セクタ)が、ディフェクトや寿命などで特性劣化していると、求まる記録パラメータの誤差が大きくなったり、誤った値を求めてしまう不具合が起こる。 - 特許庁
To obtain a semiconductor device of a structure, where a ratio C' of a minimum value Cmin of capacitance to a maximum value Cmax of capacitance is increased, generation of a balled defect in the formation of semipheric grains is suppressed and the device has an electrically high-reliability capacitor, and a manufacturing method of the device.例文帳に追加
キャパシタンスの最小値C_min と最大値C_max との比C´を増加させ、半球状のグレインの形成におけるボールドディフェクトの発生を抑制し、電気的に信頼性の高いキャパシタを有する半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an excellent-electroconductivity electroconductive paste composition having required excellent electrical conductivity, preventing generation of corrosion defect, and especially suitable for surface covering of a separator for a fuel cell, and to provide an electroconductive separator covered with the electroconductive paste composition.例文帳に追加
要求される良好な導電率を有し、腐食不良の発生を防止し、導電性に優れ、特に燃料電池用セパレータの表面被覆に好適する導電性ペースト組成物及び導電性ペースト組成物を被覆した導電性セパレータを提供する。 - 特許庁
To provide a method and a system for fabricating a semiconductor device in which scattering of particles to an etching object can be suppressed when an insulating film and an antireflection film on a metal film are etched in the same reaction chamber and generation of pattern defect can be suppressed.例文帳に追加
金属膜上の絶縁膜と反射防止膜とを同一の反応室内でエッチングする際におけるエッチング対象物へのパーティクルの散布を抑制でき、パターン欠陥の発生を抑制し得る半導体装置の製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁
To provide an optical film formed from an acrylic resin composition, which is capable of realizing large phase difference due to an unconventional composition and also suppressing generation of a seeming or optical defect in production and use.例文帳に追加
アクリル樹脂組成物から形成される光学フィルムであって、従来にない組成により、大きな位相差を実現できるとともに、製造時および使用時における外観上あるいは光学的な欠点の発生が抑制された光学フィルムの提供すること。 - 特許庁
To provide a method for reducing generation of an insulating property defect by preventing a foreign substance from mixing into a film in forming an insulating layer without degrading an insulating property of the insulating layer nor impairing productivity, in sputtering by an insulator target formed of a plurality of oxides.例文帳に追加
複数酸化物からなる絶縁体ターゲットによるスパッタにおいて、絶縁層の絶縁性の低下や生産性を損なうことなく、絶縁層成膜時の膜中への異物混入を防止し、絶縁性不良の発生を低減しうる方法を提供する。 - 特許庁
To rationalize visual inspection, to provide an electronic photographic member of high quality, and to provide an image of high quality, by concurrently detecting automatically generation of an interference fringe and an appearance defect in the electronic photographic member, without depending on visual observation.例文帳に追加
電子写真感光体の干渉縞の発生と外観欠陥とを同時に目視に依らず自動で検知することにより、目視検査を合理化し、高品質な電子写真感光体を提供し、更には高画質の画像を提供することを目的とする。 - 特許庁
In a semiconductor substrate where an SiGe layer 2 is formed on an Si substrate 1, a crystal defect region 6 or a structure region 6a for facilitating generation or concentration of dislocation is formed on the interface of the Si substrate 1 and the SiGe layer 2.例文帳に追加
Si基板1上に、SiGe層2が積層された半導体基板において、Si基板1とSiGe層2との界面に、転位を発生あるいは集中し易くするための結晶欠陥領域6あるいは構造領域6aが形成されている。 - 特許庁
To provide a corner joining method by friction stir welding capable of preventing generation of a joining defect at a joining part in the corner joining method by friction stir joining to join butt ends of two joining members assembled to form a corner part.例文帳に追加
すみ部が形成されるように合わされた2個の接合部材の合わせ部をすみ部から接合する、摩擦撹拌接合によるすみ接合法であって、接合部に接合欠陥が発生することを防止できる、摩擦撹拌接合によるすみ接合法を提供すること。 - 特許庁
Because the white defect part has greater influence, the adhesion strengths of the first and second close contact surfaces are set such that the generation of cavities with the time degradation of the adhesion member progresses in the second close contact surface more than in the first close contact surface.例文帳に追加
白欠陥の方が影響が大きいため、密着部材の経時劣化に伴う空隙の発生が第1の密着面内よりも第2の密着面内で進行するように、第1の密着面の密着力及び第2の密着面の密着力を設定する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method for a solar cell using conductor wire capable of significantly reducing occurrence of defect of an electronic component, and avoiding deterioration of power generation efficiency by using the wire as inner lead wire that connects a plurality of solar cell elements.例文帳に追加
電子部品の不良の発生を大幅に軽減することができるとともに、複数の太陽電池素子を接続するインナーリード線として用いることにより、発電効率の低下を回避することができる導体線を用いた太陽電池の製造方法を提供する。 - 特許庁
To prevent the formation of a step cut and to sufficiently prevent the generation of a defect caused by the step cut in the case of a thin-film transistor or other semiconductor devices in which multilayer films are patterned collectively by using one mask pattern.例文帳に追加
一つのマスクパターンを用いて、多層膜を一括してパターニングする工程を含む、薄膜トランジスタその他の半導体装置の製造方法において、段切れの形成、及びこれに起因する不良の発生を充分に防止することができるものを提供する。 - 特許庁
According to this manufacturing method, generation of three kinds of defects at the internal portion of the laminated material 11, interlayer peeling, crack, and air hole can be prevented completely and a sintered material not including any defect at the internal part of the laminated material can be manufactured.例文帳に追加
この製造方法によれば、積層体11の内部に発生する層間剥離、クラック、気孔の3種類の欠陥の全てについて発生の防止が可能であり、これによって積層体の内部に欠陥を含まない焼結体を作製することができる。 - 特許庁
To provide a defect inspection apparatus for easily and quickly discriminating whether a crack detected on a surface of an equipment structure under reactor water in a reactor of an atomic power generation plant, is a fatigue crack, or a stress corrosion crack.例文帳に追加
原子力発電プラントなどにおいて、炉水中の炉内機器構造物の表面に検出された亀裂が疲労亀裂であるか、あるいは応力腐食割れであるかを短時間の内に、容易に判別することのできる欠陥検査装置が求められている。 - 特許庁
To enable a liquid crystal display device to cope with both of the display signals of a sequential scanning and an interlaced scanning and also to dissolve the generation of the connection defect of up-and-down scanning in the sequential scanning in a liquid crystal display device in which two blocks of row scanning electrode driving circuits are arranged.例文帳に追加
行走査電極駆動回路を2ブロック配置した液晶表示装置において、順次走査と飛び越し走査の双方の表示信号に対応することができるようにし、かつ順次走査における上下の連結欠陥の発生を解消する。 - 特許庁
Consequently, propagation of the defect to a P^+ diamond semiconductor layer 11 and a P^- diamond semiconductor layer 12 is suppressed, so hillock density and abnormal particle density can be made low and generation of a leakage current can be deterred at a level lower than the level of a Schottky barrier.例文帳に追加
これにより、P^+ダイヤモンド半導体層11及びP^−ダイヤモンド半導体層12への欠陥の伝播が抑制されるので、ヒロック密度や異常粒子密度を低くでき、ショットキー障壁のレベルよりも低いレベルでのリーク電流の発生を抑止できる。 - 特許庁
To provide an edge cutting device which realizes elimination of a useless trial cutting work for determining edge cutting amount when cutting an edge of a booklet, prevention of generation of a useless booklet due to a cutting defect, a quick determination of proper edge cutting amount, and the like.例文帳に追加
冊子の小口を断裁する際の小口断裁量を決定するための無駄な試し切り作業の排除、断裁不良による無駄な冊子の発生防止、適正な小口断裁量の迅速な決定等を実現可能にする小口断裁装置を提供する。 - 特許庁
To eliminate problems of incapability of controlling the top and bottom of a seal impression correctly, generation of variation in a seal impression as well as the defect of lacked rim of seal surface or the like upon impressing a round seal and eliminate the troublesome inconvenience of handling upon stamping the seal.例文帳に追加
丸形印鑑による押印時、印影の天地を正しく制御できない問題、印影に捺印むらを生じてしまう問題、印面の縁に欠け等の欠陥を生じる問題、及び押印時の取扱いの煩わしさ不都合を解消することである。 - 特許庁
To provide a toner free from staining, the deterioration of image density, the generation of void due to transfer defect and transfer dust and stable in image reproducibility and the producing method.例文帳に追加
本発明は、上記従来技術の実状に鑑みてなされたものであって、添加剤の適性混合を可能とすることで、地汚れ、画像濃度低下、転写不良による白抜け、転写ちりなどが無い、画像再現性の安定したトナーとその製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide an injection mold reducing the inflow of gas into the resin flow passage of a hot runner without extending a molding cycle even in a gas injecting mold having the hot runner and reducing the generation of appearance defect in an obtained molded article.例文帳に追加
ホットランナーを有するガス注入用の金型であっても、成形サイクルを長くすることなく、ホットランナーの樹脂流路内にガスが流入することが少なくなり、得られる成形品に外観不良が生じることが少なくなる射出成形用金型を提供する。 - 特許庁
Thus, the generation of a Ga defect can be controlled in the sub-emitter layer 45, and the semiconductor wafer 1 can be manufactured so that a bipolar semiconductor element with a hetero joint can be manufactured without reducing a current amplification factor of β.例文帳に追加
これによりサブエミッタ層45におけるGa欠陥の発生を制御することができ、この結果、電流増幅率βを低下させることのないヘテロ接合バイポーラ半導体素子の製作を可能とするように半導体ウェーハ1を製造することができる。 - 特許庁
To provide a semiconductor device, capable of preventing generation of the shifting defect that a semiconductor element chip is locally lifted due to the thermal expansion of air inside a void part of a diamond chip part at the housing of the semiconductor element chip inside a package.例文帳に追加
パッケージ内に半導体素子チップを収納する際、ダイアチップ部の空洞部内の空気の熱膨張に起因して半導体素子チップが局所的に浮き上がるアオリ不良の発生を防止することが可能な半導体装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a process for the production of a glass substrate for a flat panel display, causing little deformation of the substrate after division even in the case of a large-sized glass and giving a display free from the problem of the generation of displaying defect caused by the deviation of the pattern from desired design.例文帳に追加
本発明の目的は、大板ガラスであっても、分割切断後の変形が少なく、パターンが所期の設計からずれてディスプレイの表示不良が発生するということがないフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法を提供することである。 - 特許庁
To enable selecting an illumination angle for enlarging an effective inspection range and excellently detecting defects by suppressing generation of reflection, and to improve irregularity detection ability with improved image contrast between irregularity defect and a normal part by reducing limitations of illumination angle in an irregularity inspection device and method for detecting irregularity defect of an inspected object having a periodic pattern.例文帳に追加
周期性のあるパターンをもつ被検査体のムラ欠陥を検出するためのムラ検査装置および方法において、映り込みの発生を抑制して、有効な検査範囲の拡大、良好な欠陥の検出が可能な照明角度を選択できるようにすること、また照明角度の制限を減らすことによって、ムラ欠陥と正常部との画像コントラストの向上が期待でき、結果的にムラ検出能力を向上すること - 特許庁
To provide a manufacturing method of an organic electroluminescent element forming a base material; a first electrode, an organic light emitting media layer including an organic light emitting layer, and a second electrode formed on the base material; and an inorganic sealing layer formed on the second electrode; prevented from generation and spread of defect for a long period by providing the inorganic sealing layer excellent in a barrier property and free from defect.例文帳に追加
基材と、この基材上に、第一電極と、有機発光層を含む有機発光媒体層と、該有機発光媒体層、第二電極を形成し、第二電極上に無機封止層を形成する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、バリア性に優れた欠陥のない無機封止膜を提供することにより、長期にわたり欠陥の発生、拡大のない有機エレクトロルミネセンス素子を製造することにある。 - 特許庁
To provide an electrostatic charging member which can perform uniform electrostatic charging with high efficiency and can prevent the generation of harmful ozone and the generation of a NOx giving rise to an image defect and has high reliability and performance maintenance characteristic by controlling the supply of water, etc., in an electrostatic charging method by injection of water and an electrostatic charging device and electrostatic charging method.例文帳に追加
水による注入帯電方法における水の供給等を制御することにより、高効率でしかも均一な帯電を行なうことが可能であり、有害なオゾンの発生と画質欠陥を引き起こす窒素酸化物の発生を防止でき、しかも、信頼性と性能維持性の高い帯電部材、帯電装置及び帯電方法を提供することである。 - 特許庁
The defect and a metallic silicide on the surface of the semiconductor substrate are detected by immersing the polished semiconductor substrate in a mixed solution of the water of a hydrogen peroxide (3 to 6 mass%), a hydrofluoric acid (5 to 10 mass%), and a hydrochloric acid (3 to 6 mass%) to visually detect bubble generation on the surface of the semiconductor substrate, and to photograph the bubble generation status by a camera.例文帳に追加
ポリッシュ後等の半導体基板を過酸化水素(3〜6質量%)、フッ化水素酸(5〜10質量%)と塩酸(3〜6質量%)の混合水溶液に浸漬して、前記半導体基板の表面における気泡発生を視覚的に検出し、かつ、その気泡発生状況をカメラを用いて撮影することによって半導体基板表面の欠陥や金属シリサイドを検出する。 - 特許庁
To completely prevent fire caused by abnormal heat generation and defect generation of tracking phenomena at an early timing even when the abnormal heat is generated in a conductive passage due to a short-circuit by avoiding increase in size and manufacturing cost of an electric appliance and forming the conductive passage between adjacent conductive connecting members by graphite.例文帳に追加
電気機器の大型化、製造コストの高騰化を回避しながら、隣接する導電接続部材間に亘ってグラファイトによる導電性通路が形成され、更に、ショートによる導電性通路での異常発熱が発生したときでも、その異常発熱に起因する出火を確実に防止することができ、しかも、トラッキング現象が発生したことを早期に発見させる。 - 特許庁
To provide an electrostatic charging member which can perform uniform electrostatic charging with high efficiency and can prevent the generation of harmful ozone and the generation of a NOx giving rise to an image defect and has high reliability and performance maintenance characteristic by controlling the supply of water, etc., in an electrostatic charging method by injection with water and an electrostatic charging device and electrostatic charging method.例文帳に追加
水による注入帯電方法における水の供給等を制御することにより、高効率でしかも均一な帯電を行なうことが可能であり、有害なオゾンの発生と画質欠陥を引き起こす窒素酸化物の発生を防止でき、しかも、信頼性と性能維持性の高い帯電部材、帯電装置及び帯電方法を提供することである。 - 特許庁
To provide an information display panel hardly causing disconnection by providing a route wiring part avoiding electric corrosion therein, and capable preventing the generation of a defect in a pixel comprising an electrode present ahead of a wiring line which causes disconnection or is liable to cause disconnection.例文帳に追加
引き回し配線部で電蝕が発生しないように引き回し配線部を設けて、断線が起こりにくくし、断線を生じたか、もしくは、断線しやすくなった配線の先にある電極が構成する画素に欠陥が発生するのを防止することのできる情報表示用パネルを提供する。 - 特許庁
A suction instrument 1 is set on a surface part of the crack K of the concrete structure 1, and while a fluid in the crack K is forcibly sucked by a vacuum generation device 3, the change of the suction pressure is measured by a pressure gage, to thereby inspect a defect of the concrete structure 1.例文帳に追加
コンクリート構造物1のクラックKの表面部分に吸引器具1をセットして、真空発生装置3によりクラックK内の流体を強制的に吸引しながらその吸引圧の変化を圧力計により測定して、上記コンクリート構造物1の欠陥を検知する。 - 特許庁
Since a notch (k) is formed on the periphery of a part to be punched before the corrugated card board is supplied to a punching machine, even when the punching forming places are close to each other, the generation of a defect such as cracking in the surface layer (t) of the card board W can be prevented.例文帳に追加
段ボール紙Wを打抜き機へ供給する前に、その打抜き予定部の周辺へ切れ目kを形成させているので、打抜き形成箇所が近接しているような場合であっても、段ボール紙Wの表層tにひび割れ等の欠陥が発生するのを防止できる。 - 特許庁
To provide a heat treatment system for substrate in which processing gas is prevented from touching a substrate under temperature rise to accelerate generation of a defect in the substrate through heat shock or touching a temperature raised substrate to deteriorate temperature distribution in the plane of the substrate so that uniform heat treatment can be ensured.例文帳に追加
昇温中の基板に処理ガスが触れて熱衝撃により基板に欠陥が発生するのを助長したり昇温後の基板に処理ガスが触れて基板面内における温度分布が悪くなり均一な熱処理を行えなくなることを防止できる装置を提供する。 - 特許庁
Accordingly, because the transfer residual toner t which is aggregated in the upstream of the edge part A of the cleaning blade 22 due to the increase of the number of image forming times can be efficiently dropped, the generation of the image defect can be prevented by preventing the passing- through of the transfer residual toner t.例文帳に追加
従って、画像形成回数の増加によってクリーニングブレード22のエッジ部Aの上流側に凝集している転写残トナーtを効果的に落下させることができるので、転写残トナーtのすり抜けを防止して、画像不良の発生を防止することができる。 - 特許庁
To provide a method for a laser beam machining with which the machining is performed while generated swarf is effectively removed, a method for manufacturing a printed wiring board and a device for manufacturing the printed wiring board, in which method and device the method for the laser beam machining is adopted, by which method and device the generation of a defect originated from the swarf is suppressed.例文帳に追加
生じた加工屑を効率よく除去しつつ行えるレーザ加工方法、そのレーザ加工方法を採用し、加工屑に由来する不具合の発生を抑制できるプリント配線基板の製造方法及びプリント配線基板の製造装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor device by which a substrate floating problem and a hot carrier problem liable to occur in an SOI device can be sufficiently suppressed, and crystal defect generation in a neighboring structure of a partial separation insulating film hardly occurs even if the partial separation insulating film is widely distributed.例文帳に追加
SOIデバイスにおいて生じやすい基板浮遊問題やホットキャリアの問題を充分に抑制することが可能で、広く分布する部分分離絶縁膜であっても周囲の構造に対し結晶欠陥を生じさせにくい半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a production process of a tire mold, capable of abbreviating production steps, suppressing generation of a casting defect of the mold and improving dimensional accuracy of the mold obtained, in producing the tire mold by a casting production process using a transfer method.例文帳に追加
転写法を用いた鋳造製法によりタイヤ成形用金型を製造するに際し、製造工程を省略でき、金型の鋳造欠陥の発生を抑え、さらに得られる金型の寸法精度を高めることが可能なタイヤ成形用金型の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a backing metal for welding used in welding a base material to the other metal by arc welding and capable of securely eliminating generation of a welding defect such as a gap generated at a welding start place, specifically at a bottom area of a groove part adjacent to an end tab.例文帳に追加
アーク溶接によって母材をその他の母材に溶接する際に用いられる溶接用裏当て金であって、溶接開始個所、特にエンドタブに隣接した開先溝部の底部領域に発生する隙間等の溶接欠陥の発生を確実に排除し得る溶接用裏当て金を提供する。 - 特許庁
To stably form a high quality thick magnetic garnet single crystal film free from the generation of a crystal defect or warp, a crack, peeling, or the like, in a high yield by liquid phase epitaxial growth by forming a buffer layer of this invention on a commercially available substrate for forming the magnetic garnet single crystal film.例文帳に追加
市販の磁性ガーネット単結晶膜形成用基板に本発明のバッファ層を形成することで、結晶欠陥や反り、割れ、剥離などが発生しない厚膜状の磁性ガーネット単結晶膜を、高品質で歩留まり良く、液相エピタキシャル成長により安定して、低コストで形成すること。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a color filter, in which the flatness of a colored pixel layer can be made superior, a color blend can be prevented from occurring due to intermixture of coloring inks of different colors between the adjacent colored pixel layers, and the generation of a pixel defect such as a local white void can be prevented.例文帳に追加
色画素層の平坦性に優れるとともに、隣接する色画素層間における異色インクの混入により発生する混色を防止することができ、局部的な白抜けなどの画素欠陥が発生するのを防止することができるカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁
例文 (598件) |
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