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「defect generation」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索
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defect generationの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 598



例文

To provide a technique for stably producing a hot dip metal coated steel strip of high quality by suppressing generation of a coated surface defect caused by a splash.例文帳に追加

スプラッシュに起因するめっき表面欠陥の発生を抑え、高品質の溶融金属めっき鋼帯をより安定して製造する技術を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming device which prevents the generation of an image defect and jamming, and executes an efficient maintenance work of a recording element conveying means.例文帳に追加

画像不良やジャムが発生することを防止し、且つ、効率よく記録体搬送手段の保守管理を行うことができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide an evaluation method for a solid-state image pickup device by which a noise component of a pixel signal causing an image defect separated by cause of generation can be extracted for the evaluation of the solid-state image pickup device.例文帳に追加

固体撮像装置の評価において、画像欠陥を引き起こす画素信号のノイズ成分を、発生原因別に分離して抽出する。 - 特許庁

To provide a merchandise label with which temperature management of merchandise can be exactly performed and a point of generation of a defect can be judged and a temperature management method.例文帳に追加

商品の温度管理を正確に行うことができるとともに、不良の発生箇所を判断できる商品ラベル及び温度管理方法を提供する。 - 特許庁

例文

Thus, generation of zinc hydroxide can be prevented, and the crystal defect density of a thin film can be minimized on the ZnO-based substrate.例文帳に追加

以上により、Znの水酸化物の発生を防ぐことができ、ZnO系基板上の薄膜の結晶欠陥密度を非常に小さくすることができる。 - 特許庁


例文

To provide a method of manufacturing a nitride semiconductor epitaxial wafer that can relieve a trapping phenomenon of electrons and can suppress generation of a hexagonal defect.例文帳に追加

電子のトラッピング現象を緩和すると共に、ヘキサゴナル欠陥の発生を抑制可能な窒化物半導体エピタキシャルウェハの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a deflection yoke with a lead-out wire which is not pinched between insulation ribs, easy to assemble, enabled to restrain the generation of defect.例文帳に追加

引き出し線がセパレータに設けた絶縁用のリブに挟まれることなく、組立作業が容易で、不良の発生を抑えることができる偏向ヨークを提供する。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of heat dissipation boards, which can prevent the generation of a defect in the heat dissipation boards due to a graphite generated accompanied by a laser irradiation.例文帳に追加

レーザ照射に伴い発生する黒鉛に起因する放熱基板の不良の発生を防止することが可能な放熱基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a nozzle for producing a honeycomb which improves rib strength and can prevent the generation of wrinkles in a peripheral part which is a serious defect in a thin wall honeycomb.例文帳に追加

リブ強度を向上し薄壁ハニカムの重大欠陥である外周部のメジワ発生を防止することができるハニカム製造用口金を提供する。 - 特許庁

例文

Thus, in the barcoater, coating defect due to generation of aggregate is prevented from causing, which is produced by absorption of atmosphere in the coating liquid.例文帳に追加

この結果、本発明のダイレクトバーコーターは、塗布液が大気を吸収して凝集体を発生させることにより生じる塗布不良の発生が抑えられる。 - 特許庁

例文

To provide a method of cladding by laser welding improving a material yield and also suppressing defect generation in a clad layer.例文帳に追加

材料歩留りを向上させるとともに肉盛層での欠陥の発生を抑制できるレーザ肉盛溶接方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a battery pack preventing the generation of a defect caused by a reverse flow through a supply passage of cooling air of gas emitted from a battery when abnormality occurs.例文帳に追加

電池異常により放出されたガスが冷却風の供給経路を逆流して不具合が生じるのを防止した組電池を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing device that can suppress or prevent the generation of crystal defect such as slip or the like of wafer or the like as a substrate, and can optimize the rotational frequency of the wafer.例文帳に追加

ウエハ等の基板のスリップ等の結晶欠陥の発生を抑制または防止でき、ウエハ回転数を最適化できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a thin-film transistor capable of reducing a defect generated in a film of the thin-film transistor and also reducing variations in a defect generation position in a substrate plane, and to provide a display device using the same.例文帳に追加

薄膜トランジスタの膜中に発生する欠陥を低減させると共に、基板面内における欠陥発生位置のバラつきを低減させることが可能な薄膜トランジスタ及びそれを用いた表示装置を提供することである。 - 特許庁

To quickly optimize a process by inspecting defects on a wafer in the process for manufacturing a semiconductor, speedily acquiring the composition information of the defect section, and specifying the generation process and factor of the defect according to the obtained composition information.例文帳に追加

半導体製造工程中のウェハ上の欠陥を検査し、上記欠陥部の組成情報を高速に取得し、得られた組成情報から上記欠陥の発生プロセスや要因の特定を行い、プロセスの最適化を短期間に行う。 - 特許庁

That is to say, the existence or absence of the generation of the defect to communicate with the machining portion is predicted and determining by calculating the distance between the defect and the machining portion and by determining whether or not the distance is within a preset required value.例文帳に追加

すなわち、欠陥と加工部との距離を算出し、その距離が予め設定された所定値以下であるかどうかを判断することで、両者の間で接続が生じる不良の発生の有無を予測・判定している。 - 特許庁

A concentration distribution generation method and a process simulator perform a defect amount calculation procedure to calculate a defect amount Q_I per unit area of defects introduced to a semiconductor substrate by ion implantation and a defect position calculation procedure to calculate a position d_I to position by condensing a defect concentration distribution in an ion implantation concentration distribution by the ion implantation with a computer and treat the defect concentration distribution like a delta function.例文帳に追加

上記課題は、コンピュータが、イオン注入によって半導体基板に導入される欠陥の単位面積当たりの欠陥量Q_Iを算出する欠陥量算出手順と、前記イオン注入によるイオン注入濃度分布において欠陥濃度分布を凝集させて位置付ける位置d_Iを算出する欠陥位置算出手順とを実行し、前記欠陥濃度分布をデルタ関数的に扱うことにより達成される。 - 特許庁

To provide a frictional agitation joining device capable of excellently controlling the generation of a joining defect and the generation of distortion in a formed body after joining even in the case of joining many materials to be joined by frictional agitation.例文帳に追加

多数の被接合材を摩擦撹拌接合する場合でも、接合不良の発生や接合後の成形体における歪みの発生を良好に抑制することのできる摩擦撹拌接合装置の提供。 - 特許庁

To provide a lithium film deposition method by vacuum deposition method which is capable of controlling generation of defect during deposition of an Li film, and to provide a power generation element manufactured by the lithium film deposition method.例文帳に追加

真空蒸着法によるLi膜の成膜時に当該Li膜に不具合が生じることを抑制できるLi膜の成膜方法、およびこの成膜方法により製造した発電要素を提供する。 - 特許庁

By dispersing a beam of laser induction plasma generated in welding, presence or absence of defect generation is discriminated based on an intensity ratio between the emission spectrum intensity of the specific element relating to welding defect generation and the emission spectrum intensity of the material to be welded having a wave length close to a wave length of the specific element.例文帳に追加

溶接時に発生するレーザ誘起プラズマの光を分光し、溶接欠陥の発生に関わる特定の元素の発光スペクトルの強度と、この元素の発光スペクトルの波長に近接する波長を持つ被溶接材の元素の発光スペクトルの強度との強度比に応じて欠陥発生の有無を判定する。 - 特許庁

To stabilize the quality of an annealed wafer by reliably decreasing SSDs (surface shallow defects which are recessed defects of an extremely wide and shallow shape on the surface), while ensuring generation of void defects other than the SSDs and generation of BMDs (bulk micro defects) indispensable as a gettering source in the bulk.例文帳に追加

アニールウェーハにとって必要不可欠なウェーハ表面におけるSSD(表面の非常に幅広く、浅い形状の凹状欠陥;Surface Shallow Defect)以外のボイド欠陥の低減や、バルク内のゲッタリング源としてのBMD(バルク微細欠陥;Bulk micro defect)の生成を保証しつつ、SSDを確実に低減させるようにして、アニールウェーハの品質を安定させる。 - 特許庁

To provide a power-supply current measuring method for a semiconductor device capable of detecting the defect generation state of a semiconductor device to be tested by a test system, and measuring stably the change of the power-supply current flowing in the semiconductor device to be tested by another testing device, while maintaining the defect generation state.例文帳に追加

テストシステムにより被試験半導体デバイスの不良発生状態を検出し、その不良発生状態を維持したまま、他の試験装置が被試験半導体デバイスに流れる電源電流の変化を安定に測定することができる半導体デバイスの電源電流測定方法を提案する。 - 特許庁

This defect inspection system for inspecting defects of an inspection object comprises a data generation means for generating inspection information for specifying an inspection and inspection result information containing defect information showing the details of the defect detected by inspection in a predetermined united format, and registering the generated inspection result information in a database.例文帳に追加

検査対象の欠陥を検査する欠陥検査システムにおいて、検査を特定する検査情報と、検査で検出した欠陥の詳細を示す欠陥情報を含む検査結果情報を所定の統一フォーマットで生成し、生成した検査結果情報をデータベースに登録するデータ生成手段とを有する。 - 特許庁

To prevent generation of a defect on a layer formed on a layer caused by a level difference and a defect of a grain boundary in the surface of the layer formed in a multi-layer structure and reduction of a hydrogen permeation performance of the hydrogen permeable membrane by the generated defect in the hydrogen permeable membrane having the multi-layer structure.例文帳に追加

多層構造を有する水素透過膜において、多層構造内に形成される層の表面における粒界段差や欠陥に起因して、この層上に形成される層に欠陥が発生すること、および、発生した欠陥により水素透過膜の水素透過性能が低下すること、を防止する。 - 特許庁

To effectively remove the generation in the defect of unplating caused by the generation in the floating of a product in a barrel after the charging of the barrel into a plating tank, and the generation in the storing of gas in the barrel as a cause for making the amount of ions in the barrel unstable and giving influence on the quality of the plating itself.例文帳に追加

めっき槽内へのバレル投入後、バレル内での製品の浮きの発生による「めっき無し」不良の発生や、バレル内イオン量が不安定となってめっき品質そのものへの影響を与えてしまう原因となるバレル内ガス溜まりの発生を効果的に除去可能とする。 - 特許庁

Since the organic materials are removed before the forming process of the base dielectric of the rear panel, generation of bubbles in the base dielectric can be prevented, and a failure such as a breakdown voltage defect and a partition wall forming defect can be prevented.例文帳に追加

背面板の下地誘電体形成工程前に有機物を除去することで、下地誘電体中への気泡の発生を防止することができ、絶縁耐圧不良や隔壁形成不良等の欠陥を防止することが可能となる。 - 特許庁

To estimate influence affected to another component or process by generation of a defect in a certain component or process in a stage (a product design stage or a design stage of a production process) before production, and to estimate an importance level of the defect to support a design of the production process.例文帳に追加

製造前の段階(製品設計段階や製造工程の設計段階)で、ある部品や工程における不良の発生が他の部品や工程に及ぼす影響を推定し、不良の重要度を評価して製造工程の設計を支援する。 - 特許庁

Thereafter, absolute values of each value of each variation image are integrated, and an integrated variation image is generated (integrated variation image generation process S6), and a stain defect is detected based on the integrated variation image (stain defect detection process S7-S11).例文帳に追加

そして、各変化量画像の値の絶対値を積算して積算変化量画像を作成し(積算変化量画像作成工程S6)、この積算変化量画像に基づいてシミ欠陥を検出する(シミ欠陥検出工程S7〜S11)。 - 特許庁

As a result, in the wafer treatment processing 100, the Si+ ions introduced at the ion implantation processing 120 are bonded to a vacant lattice defects, produced in the ion implantation process 110, thereby crystal defect generation caused by the vacant lattice defect is prevented.例文帳に追加

結果として,ウェハ処理工程100では,イオン注入工程120で導入されたSi+イオンが,イオン注入工程110で生じる空格子欠陥と結合し,空格子欠陥に起因する結晶欠陥の発生が抑制される。 - 特許庁

To prevent formation of cracks or the like in a bent part of a resin-made intermediate plate, and formation of power generation defect due to disturbance or the like of gas distribution flow in power generation operation in a fuel cell having three-layered flat separator.例文帳に追加

3層構造のフラットセパレータを備えた燃料電池において、樹脂製中間プレートの屈曲部における割れ等の発生を防止し、発電動作時のガス配流の乱れ等による発電不良の発生を防止する。 - 特許庁

To provide a method for heating a steel slab, which can prevent surface defects on the steel slab, to solve such problems as crack generation on the steel slab and defect generation on the product surface.例文帳に追加

本発明は、鋼片の表面割れを起こし、製品表面に欠陥を生じるという問題を解決するためになされたもので、鋼片の表面の欠陥を防止できる鋼片の加熱方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device capable of suppressing generation of local peeling of colored film resulting from development processes and thus, generation rate of failures such as point defect is reduced and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

現像工程に起因して着色膜の局所的な剥がれが発生するのを抑制し、これにより、点欠陥等の不良の発生率を低減することができる液晶表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Thereby, defect conditions such as generation of scratches caused by pinch rollers 25, 25 when the tensile force of the metallic belt plate W becomes excessive, or generation of a braking flaw because the tensile force becomes too small, can be avoided.例文帳に追加

これにより、金属帯板Wの張力が過大になってデコイラ12のピンチローラ25,25により擦り傷が発生したり、金属帯板Wの張力が過小になって折り傷が発生したりする不具合が未然に回避される。 - 特許庁

The wiring layers are removed and reconstructed immediately after finding the generation of defect whereby a manufacturing yield is improved and the feedback time is shortened.例文帳に追加

不良の発生した配線層の直後に当該配線層を除去して再構築することで、製造歩留りを向上し、フィードバック時間を短縮することができる。 - 特許庁

To suppress the enlargement of a pixel defect by irradiation of radiation, in a radiation image detector having a charge generation layer for generating charge by irradiation of radiation.例文帳に追加

放射線の照射によって電荷を発生する電荷発生層を備えた放射線画像検出器において、放射線の照射による画素欠陥の拡大を抑制する。 - 特許庁

To prevent generation of a defect just after starting bring up monocrystal by making an adjusting operation of FZ monitoring operation and a device main body easy, in the monocrystal bring up device of FZ method.例文帳に追加

FZ法の単結晶育成装置において、FZの監視作業及び装置本体の調整作業を容易にし、育成開始直後の不具合の発生を防止する。 - 特許庁

To provide a silicon wafer, wherein a void defect existing in a wafer bulk portion is prevented from functioning as a contamination source in a device process or a source of slip generation.例文帳に追加

ウェーハバルク部に存在するボイド欠陥が、デバイスプロセスにおいて汚染源となることが抑制され、さらに、スリップの発生源となることも抑制されたシリコンウェーハの提供。 - 特許庁

Since the auxiliary capacitance semiconductor layer 37 of the auxiliary capacitance 24 contains the impurities at a high concentration, a leakage current is lowered to suppress the rate of dot defect generation.例文帳に追加

補助容量24の補助容量半導体層37の不純物が高濃度であるためリーク電流を低く抑え、点欠不良の点欠陥の発生率を抑制する。 - 特許庁

The feedforward control of an image formation parameter is carried out from the developer time constant and the toner electrostatic charge capability, and the generation of TED or an image defect called STV is prevented.例文帳に追加

現像剤時定数及びトナー帯電能力から作像パラメータをフィードフォワード制御して、TEDやSTVといった画像ディフェクトの発生を防止する。 - 特許庁

In this way, the device condition can be monitored without respect to the degree of skill of the user, and generation of the measurement error due to a defect in the device condition can be prevented.例文帳に追加

このように、装置状態の監視をユーザの技術力に関係なく行なうことができ、装置状態の不具合による測定誤差の発生を防止することができる。 - 特許庁

ORGANIC OPTICAL CRYSTAL, DIFFERENTIAL FREQUENCY GENERATING ELEMENT, TERAHERTZ WAVE GENERATING APPARATUS, LINEAR DEFECT GENERATION PREVENTING METHOD OF ORGANIC OPTICAL CRYSTAL AND MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC OPTICAL CRYSTAL例文帳に追加

有機光学結晶、差周波発生素子、テラヘルツ波発生装置、有機光学結晶の直線状欠陥発生防止方法および有機光学結晶の製造方法 - 特許庁

To provide a method for producing a thermoplastic resin sheet in which in a static electricity applying cast method using tape electrodes, the generation of the defect of electricity application nonuniformity in the sheet is prevented stably for a long time.例文帳に追加

テープ電極を用いた静電印加キャスト法において、長時間安定して、印加ムラ欠点のない熱可塑性樹脂シートの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To prevent the generation of the short circuit, defect or the like of an electronic circuit caused by the contamination of a plating soln. and undesirable influences on a coating film without causing the contamination of the plating soln. or the like.例文帳に追加

メッキ液の汚染などを起こさず、メッキ液の汚染により発生する電子回路の短絡や不良などの発生、塗膜への悪影響を防止すること。 - 特許庁

Thus, the generation of the shifting defect that the semiconductor element chip 20 is lifted locally, due to the thermal expansion of the air inside the void part 16 of the diamond chip part 14 is prevented.例文帳に追加

従って、ダイアチップ部14の空洞部16内の空気の熱膨張に起因して半導体素子チップ20が局所的に浮き上がるアオリ不良の発生が防止される。 - 特許庁

The influence of the parameter of the gradation conversion is reduced from the extraction result of the feature quantity and the generation of the defect on the image is controlled, thereby.例文帳に追加

これにより、特徴量の抽出結果から階調変換のパラメーターの影響を低減させることができ、画像上の不具合の発生を抑制することができる。 - 特許庁

To provide a toner set including toners in a plurality of colors capable of forming an excellent image by suppressing the generation of the unevenness of transfer, an image defect or the like.例文帳に追加

転写むらや画像欠陥等の発生が抑制され、良好な画像を形成できる、複数色のトナーからなるトナーセットを提供することを目的とする。 - 特許庁

To prevent the generation of a surface defect due to hydrogen upon casting using a mold with temperature close to ambient temperature even in the case weather conditions upon the casting are inferior.例文帳に追加

外気温に近い温度の鋳型を用いて鋳造を行う場合、鋳造時の天候状態が良くない場合であっても、水素性表面欠陥の発生を防止する。 - 特許庁

To provide a wire drawing method of a coated metal wire effectively suppressing generation of a surface defect and hardly causing wire breaking.例文帳に追加

特に最終伸線工程において、表面欠陥の発生を有効に抑制して断線が生じにくい被覆金属線材の伸線方法を提供することにある。 - 特許庁

When there is an omission in the detection of the SYNC codes in the detection means 8 by a disk defect, etc., the generation means 13 interpolates addresses in this omission period.例文帳に追加

ディスク欠陥等により検出手段8でSYNCコードの検出に欠落があると、生成手段13は、この欠落期間、書込み用アドレスを補間する。 - 特許庁

例文

To prevent deterioration in reliability due to generation of a defect at the interface between the side surface of capacitor and glass ceramics when the capacitor is formed like a block within the glass ceramic multilayer wiring substrate.例文帳に追加

ガラスセラミック多層配線基板内に形成したコンデンサ部がブロック形状の場合、コンデンサ部の側面とガラスセラミックスとの界面の欠陥が生じ、信頼性を損なう。 - 特許庁




  
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