「defect generation」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

A test circuit generation tool can then subsequently use this defect information to generate a test circuit that tests for the defect in the identified portions of a microcircuit.例文帳に追加

試験回路生成ツールは、次に続いて、この欠陥情報を用い、微小回路の同定された部分内の欠陥を試験する試験回路を生成する。 - 特許庁

Even when a defect occurs in the photoelectric conversion substrate 12, a radiation image fitting in a specification in relation to the defect can be acquired by cutting a part causing the generation of a defect signal.例文帳に追加

光電変換基板12で欠陥が発生した場合でも、欠陥信号を発生させる原因となっている箇所を切断することで、欠陥に関して規格内に収まる放射線画像を取得できる。 - 特許庁

To provide a discharge display device of high reliability capable of suppressing generation of outgas and an electrode defect.例文帳に追加

電極欠陥やアウト・ガスの発生を抑制して信頼性の高い放電表示装置を提供する。 - 特許庁

To prevent the generation of such a weld defect as a porosity, a blow hall, a crack, or the like in a keyhole welding with a laser beam.例文帳に追加

レーザによるキーホール溶接において、ポロシティ、ブローホール、割れ等の溶接欠陥の発生を防止する。 - 特許庁

To provide a resist composition capable of manufacturing patterns having a wide focus margin and less defect generation.例文帳に追加

フォーカスマージンが広く、さらに欠陥の発生数が少ないパターンを製造できるレジスト組成物の提供。 - 特許庁

The recess and/or protrusion is formed in the shape not allowing generation of any crystal defect to the semiconductor layers 11, 13.例文帳に追加

凹部及／又は凸部は半導体層１１、１３に結晶欠陥を発生させない形状とする。 - 特許庁

To prevent generation of any casting defect when casting a lower casing of a crank case to support a crankshaft.例文帳に追加

クランク軸を支承するクランクケースの下部ケースの鋳造時に、鋳物欠陥が生じないようにする。 - 特許庁

To suppress generation of processing defect at the time of supplying processing liquid onto a developed substrate.例文帳に追加

現像処理後の基板上に処理液を供給する際に、処理欠陥の発生を抑制すること。 - 特許庁

To prevent the generation of partial corrosion in a metal separator by performing the surface treatment for preventing occurrence of a defect.例文帳に追加

欠陥の生じない表面処理を施してメタルセパレータの部分的な腐食などを防止する。 - 特許庁

To enhance a soft recovery characteristic by reducing the possibility of generation of a defect in a Schottky junction interface.例文帳に追加

ショットキー接合界面に欠陥が生じてしまうおそれを低減し、ソフトリカバリー特性を向上させる。 - 特許庁

And since defect generation ratio can be minimized in each sheet, the yield in the stage can be enhanced.例文帳に追加

また、各シートで欠陥発生率を最小化できるために、工程収率を向上させることができる。 - 特許庁

To prevent the output of a bubble generation signal when there is a contact defect of an input switch.例文帳に追加

入力スイッチの接点不良があった場合には、バブル発生信号が出力しないようにする。 - 特許庁

Thus, the generation of any crystal defect at the corner parts of the gate trenches at the terminal parts can be prevented.例文帳に追加

これによって、終端部のゲートトレンチのコーナー部に結晶欠陥が発生するのを防止できる。 - 特許庁

The defect relief condition generation part 4 displays list of description errors present in the defect relief conditions at the display part 2 based on the reported verification result and makes the designer to correct the defect relief conditions.例文帳に追加

不良救済条件作成部４は通知された検証結果をもとに不良救済条件に存在する記述誤りの一覧を表示部２に表示して、不良救済条件の修正を設計者に行わせる。 - 特許庁

To provide a defect control system capable of preventing the generation of defect, outflow and expansion by giving a warning and other improving request by judging the corresponding necessity or a preferential degree from the content and generation quantity of defect generated in the whole of an extrusion molded product manufacturing line.例文帳に追加

押出成形品生産ライン全体の中で発生した不良の内容と発生量から、対応の必要度や優先度を判定し、警報その他の改善要求を報知することにより、不良の発生・流出・拡大を防止しうる不良管理システムを提供する。 - 特許庁

To provide a method for a correcting mask defect which can control the generation of so-called gallium stains by making it possible to rapidly correct the defect after mask inspection.例文帳に追加

マスク検査後の欠陥修正を短時間で行うことができるようにして、所謂ガリウムステインの発生を抑制するとができるマスク欠陥の修正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a solid-state imaging device capable of preventing a generation of a white dot-shaped defect on a reproduction screen which is caused by a leak current due to a crystal defect.例文帳に追加

結晶欠陥に起因するリーク電流に起因する再生画面上での白い点状欠陥の発生を抑制することができる固体撮像装置を提供する。 - 特許庁

To identify a step causing a surface defect of a glass substrate for a magnetic disk and to prevent further more generation of the surface defect by repairing the step.例文帳に追加

磁気ディスク用ガラス基板の表面欠陥の原因となっている工程を同定し、当該工程を修繕することで、それ以上の表面欠陥の発生を防止する。 - 特許庁

The generation state of a defect is statistically judged and the inspection region is restricted corresponding to a case getting out of an estimated distribution system to perform the inspection of a defect.例文帳に追加

欠陥の発生状況を統計的に判断し、予想される分布形式から外れた場合に応じて検査領域を制限して、欠陥の検査を行う。 - 特許庁

To realize high etching rate while suppressing generation of a defect in a protective film being formed in an etching portion.例文帳に追加

エッチング部に形成される保護膜における欠陥の発生を抑制するとともに、高いエッチングレートを実現する。 - 特許庁

To provide a generator control system which can prevent the occurrence of a generation defect accompanied by a slide of a clutch.例文帳に追加

クラッチ滑りに伴う発電不良の発生を防止することができる発電機制御システムを提供すること。 - 特許庁

Accordingly, in forming the protrusion part, generation of a defect part is prevented.例文帳に追加

従って、突出部の成形に際し、従来のようなダレや孔が生じないので、不良品の発生が防止される。 - 特許庁

Thus, socket cover can be omitted so that frequencies of defect generation can be reduced in an automatic assembling process.例文帳に追加

従って、ソケットカバーを省略でき自動組立工程における不良発生頻度を減らすことができる。 - 特許庁

To reduce the generation of a defect of a pattern in a coating development treatment system to form a pattern on a wafer.例文帳に追加

ウェハ上にパターンを形成する塗布現像処理システムにおいて，パターンに関する不具合の発生を低減する。 - 特許庁

To provide a semiconductor laser that can control the generation of a high-density crystal defect and surface roughness.例文帳に追加

高密度の結晶欠陥および表面ラフネスの発生を抑制することの可能な半導体レーザを提供する。 - 特許庁

To simultaneously prevent an adhesive layer coverage defect in groove wiring formation and generation of a void after liner etching.例文帳に追加

溝配線形成の際の密着層カバレッジ不良とライナーエッチング後にボイドが発生することを同時に防止する。 - 特許庁

To provide a bonding defect detector capable of accurately recognizing the possibility of generating a bonding defect by giving a large temperature difference to the bonding part of an electronic component and a substrate, and accurately reproducing the generation state of the bonding defect; and to provide a bonding defect detection method.例文帳に追加

電子部品と基板との接合部に大きな温度差を与えることにより接合不良が発生する可能性を正確に把握したり、接合不良の発生状態を的確に再現可能な接合不良検知装置、並びに、接合不良検知方法の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a single crystal which can reduce the generation of a crystal defect, and a method for manufacturing a semiconductor wafer which can remove a region of the generation of the crystal defect by efficiently detecting the region from the single crystal.例文帳に追加

結晶欠陥の発生を低減できる単結晶の製造方法、および単結晶から結晶欠陥が発生した部位を効率よく検知して除去することができる半導体ウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure device and a mask defect monitor method for detecting the defect of a mask in the early stage without deteriorating the throughput of exposure, and for preventing the generation of the failure of an object to be exposed due to the defect of the mask.例文帳に追加

露光のスループットを低下させることなく早期にマスクの欠陥を検出することができ、マスクの欠陥による被露光体の不良の発生を防止することができる露光装置およびマスク欠陥モニタ方法を提供する。 - 特許庁

To provide a bipolar semiconductor device that suppresses generation of a surface defect, and prevents a forward voltage from rising.例文帳に追加

表面欠陥の発生を抑制でき、順方向電圧の増大を防止できるバイポーラ半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a resist development method and a resist development apparatus that can stabilize pattern dimensions and can suppress the defect generation.例文帳に追加

パターン寸法を安定させ、かつ欠陥発生を抑制させるレジスト現像方法およびレジスト現像装置を提供する。 - 特許庁

To reduce a rate of defective article generation caused by a focusing defect by improving adjustment accuracy and enabling rework.例文帳に追加

調整精度を高めると共に、リワークを可能にして、フォーカス調整不良による不良品発生率を低減する。 - 特許庁

To reduce generation of epitaxial defect without addition of new heat treatment process and change in the condition of heat treatment.例文帳に追加

新たな熱処理プロセスの追加や熱処理条件の変更を行うことなく、エピタキシャル欠陥の発生を低減する。 - 特許庁

To make it possible to attain a fine pattern having an excellent shape by preventing the generation of pattern defect in double patterning.例文帳に追加

ダブルパターニングにおけるパターン不良の発生を防止して、良好な形状を有する微細パターンを得られるようにする。 - 特許庁

The defect generation place in the second inspection wafer is observed, thus detecting the margin of the lithography conditions (S7).例文帳に追加

第２検査ウエハにおける前記欠陥発生箇所を観察することで、リソグラフィー条件のマージンを検出する（Ｓ７）。 - 特許庁

To provide an imaging apparatus capable of preventing generation of wrong control information even if a V line defect exists in an image.例文帳に追加

Ｖライン傷が画像に存在する場合でも、誤った制御情報の生成を防止できる撮像装置を提供する。 - 特許庁

To provide a mandrel mill, capable of raising the elongation ratio of a pipe and further suppressing generation of a hole defect.例文帳に追加

管の延伸比を高めることができると同時に穴あき欠陥の発生を抑止可能なマンドレルミル等を提供する。 - 特許庁

To provide a method for deciding a weld condition by which the generation of a spatter and a weld defect are clearly decided.例文帳に追加

スパッタの発生と溶接不良の判定を明確に行うことのできる溶接状態判定方法を提供する。 - 特許庁

To manufacture a homogeneous foil by suppressing the generation of pin hole defect of the foil in the manufacture of the electrolytic metallic foil.例文帳に追加

電解金属箔の製造において、箔のピンホール欠陥の発生を抑え均質な箔を製造することができる。 - 特許庁

WIRING AND ELECTRODE ELECTRODE FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY FREE FROM GENERATION OF HEAT DEFECT AND SPUTTERING TARGET FOR FORMING THEM例文帳に追加

熱欠陥発生のない液晶表示装置用配線および電極並びにそれらを形成するためのスパッタリングターゲット - 特許庁

To provide one side spot welding equipment which can stably form a joint, and also, can prevent the generation of a hole opening defect.例文帳に追加

接合部を安定して形成し、且つ、穴明き不良の発生を防止できる片側スポット溶接装置を提供する。 - 特許庁

To prevent both generation of a side lobe and generation of a resist defect even when using a halftone phase shift mask having a plurality of apertures in different dimensions.例文帳に追加

異なる寸法を持つ複数の開口部が設けられたハーフトーン位相シフトマスクを用いる場合にも、サイドローブの発生及びレジスト欠陥の発生を同時に防止する。 - 特許庁

In a data analytical mechanism 21 inside an EWS for device analysis, a defect generation part 11 generates in a pseudo manner defect shape data assumed to be generated in the actual semiconductor device.例文帳に追加

データ解析用ＥＷＳ内のデータ解析機構２ａにおいて、不良発生部１１は、実際の半導体デバイスに発生すると想定される不良形状データを擬似的に発生する。 - 特許庁

To provide a semiconductor memory in which high speed defect relieving can be performed with low current consumption and without generation of excessive current when necessity of relieving a defect is tested.例文帳に追加

低消費電流で高速な欠陥救済を可能とし、しかも欠陥救済の要否を検査する際に過大な電流が発生することがない半導体記憶装置を提供すること。 - 特許庁

To prevent the generation of a defect in appearance such as unplating and plating unevenness and a defect in plating adhesion when a steel sheet comprising ≥0.2 mass% Si is subjected to hot-dip galvanizing plating.例文帳に追加

Ｓｉを０．２質量％以上含有する鋼板に溶融亜鉛めっきしたときに不めっき、めっきムラなどの外観不良やめっき密着性不良の発生を防止する。 - 特許庁