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「evaporation source」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索
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evaporation sourceの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 488



例文

In this vacuum arc evaporation system 10c, a cylindrical or annular magnetic member 46 is attached to the outside peripheral part of a cylindrical or annular anode 36 surrounding the front of a cathode 30 of the vacuum arc evaporation source 20, and the electric potential of the anode 36 is made identical with that of the magnetic member 46.例文帳に追加

この真空アーク蒸発装置10cでは、真空アーク蒸発源20の陰極30の前方を取り囲む円筒状または円環状の陽極36の外周部に、円筒状または円環状の磁性部材46を取り付け、両者36、46を同電位にしている。 - 特許庁

In a vacuum deposition device in which an element substrate is arranged on a vapor deposition mask, and evaporation sources 41, 42 are arranged at a lower part of the vapor deposition mask, a sheet shutter 60 is arranged to cover the evaporation source 41, 42, and vacuum deposition is carried out to the element substrate through an opening 61 of the sheet shutter 60.例文帳に追加

蒸着マスクの上に素子基板が配置され、蒸着マスクの下方に蒸発源41、42が配置された真空蒸着装置において、蒸発源41、42を覆って、シートシャッター60を配置し、シートシャッター60の開口部61を通して素子基板に真空蒸着する。 - 特許庁

By applying a direct-current bias voltage of a positive potential between the part with insufficient heating and the electrode 22, the evaporation rate of the sublimable vapor source material 17 in the width direction can be made uniform.例文帳に追加

加熱が不十分な部分と電極22との間に正電位の直流のバイアス電圧を印加することで、昇華性蒸発原料17の幅方向の蒸発速度が均一化する。 - 特許庁

First reflection/scattering plates 5 and second reflection/scattering plates 6 are arranged so as to pinch an evaporant emitted from the evaporation source 3 between a pair of their respective plates from the left and right sides at the exits of nozzles 4.例文帳に追加

ノズル4の出口において、蒸発源3から放射される蒸発物質を左右から挟む形で第1の反射散乱板5と第2の反射散乱板6を配置する。 - 特許庁

例文

In the case the particles of a metallic material are generated, the release quantity of the particle from the arc evaporation source is large, thus an inexpensive thin film pigment can be deposited at a high film deposition rate.例文帳に追加

金属材料の粒子を発生させる場合、アーク蒸発源の粒子放出量が多いので、成膜速度が速く、安価な薄膜顔料を形成することができる。 - 特許庁


例文

The waste liquid containing the fixing solution or the bleaching fixing solution is subjected to evaporation thickening by using heat of a processing part or a drying part as a heating source to a solidified state.例文帳に追加

定着液または漂白定着液を含む廃液を、処理部または乾燥部熱を加熱源として使用して蒸発濃縮し、蒸発濃縮は、固形化状態まで濃縮する。 - 特許庁

To prevent a crucible from being broken when an abnormal state in which a heater cannot perform heating by the power failure, an emergency stop, or the like, is caused while melting a vapor-deposited material in the crucible of an evaporation source.例文帳に追加

蒸発源のるつぼ内で蒸着材を溶融中に停電、非常停止等でヒータが加熱不能となる異常事態が発生したときに、るつぼが破損するのを防止する。 - 特許庁

A blowing device 110 accommodated in the first treatment container 100 is connected with an evaporation source 210 accommodated in the second treatment container 200 through a connecting pipe 220.例文帳に追加

第1の処理容器100に内蔵された吹き出し器110と第2の処理容器200に内蔵された蒸着源210とは、連結管220を介して互いに連結される。 - 特許庁

To provide a liquefied-gas evaporation apparatus which uses sea water or the like as a heat source, can efficiently recover cold heat, and can stably evaporate a liquefied gas even when the cold heat load varies.例文帳に追加

海水などを熱源として液体ガスを気化する設備で、冷熱を効率よく回収し、冷熱負荷が変動しても液化ガスを安定して気化させることができるようにする。 - 特許庁

例文

To consistently maintain arc discharge in a vacuum arc evaporation source even in the case of low-arc current operation or in the case of a cathode formed of a material of high melting point.例文帳に追加

低アーク電流運転の場合や陰極が高融点材料から成る場合でも、真空アーク蒸発源においてアーク放電を安定に維持することができるようにする。 - 特許庁

例文

A wear resistant ion plating film having manganese nitride as the main composition is formed on a substrate by performing HCD ion plating in an nitrogen atmosphere with metallic manganese as an evaporation source.例文帳に追加

窒化マンガンを主成分とする耐摩耗性イオンプレーティング皮膜を、金属マンガンを蒸発源とし窒素雰囲気中でHCDイオンプレーティングを行うことにより基板上形成する。 - 特許庁

A heat-absorbing water heat exchanger 3 is installed in the first heat exchanger in a heat source side (evaporation process), in the present invention, and a ventilating air heat exchanger 4 is connected in series to the second heat exchanger.例文帳に追加

本発明は熱源側(蒸発過程)の第1の熱交換器に吸熱用水熱交換器3を設置し、第2の熱交換器に換気用空気熱交換器4を直列に連結する。 - 特許庁

The vacuum deposition is of proximity vapor deposition with a distance between a top end of an evaporation source (crucible) 51 and a surface of a base material (laminated body 9) formed with the Li film of 5080 mm.例文帳に追加

真空蒸着法は、蒸発源(坩堝)51の上端からLi膜を形成する基材(積層体9)表面までの距離を50〜80mmとした近接蒸着である。 - 特許庁

An evaporation source houses a vapor deposition material 17 therein, and is constituted of a crucible 14 having a nozzle 16 to discharge vapor 15 to the outside and a heater 13 to heat the crucible 14.例文帳に追加

蒸発源は蒸着材料17を収容し、蒸気16を外部に放出するノズル16を有する坩堝14と、坩堝14を加熱するヒーター13で構成されている。 - 特許庁

An evaporation source 2 packed with a thin film forming material is disposed within a vacuum chamber 1 consisting of a conductive material and a cylindrical substrate holder 5 consisting of the conductive material is disposed therein.例文帳に追加

導電性部材からなる真空チャンバ1内に、薄膜形成材料を充填した蒸発源2を配設するとともに、導電性部材からなる円筒状の基板ホルダ5を配設する。 - 特許庁

The organic film 22 is used as the evaporation source 2, and the organic layer 16 with an uniformed thickness and quality can be readily deposited irrespective of the size of a substrate 11.例文帳に追加

この有機膜22を蒸発源2とすることより、基板11の大きさにかかわらず、均一な膜厚および膜質の有機層16を容易に形成することが可能となる。 - 特許庁

To reduce a fear that a vapor deposition material evaporated in an evaporation source sticks to a shielding plate or a jetting plate when it passes through the shielding plate and the jetting plate.例文帳に追加

蒸発源において蒸発せしめられた蒸着材料が、遮蔽板および噴出板を通過する時に遮蔽板または噴出板に付着してしまうおそれを低減する。 - 特許庁

The electron beam bombardment type evaporation source has a crucible 1 which accommodates an vaporizing material 2, and a heating means for heating and evaporating the vaporizing material 2 in the crucible 1.例文帳に追加

電子線衝撃型蒸着源は、蒸発材料2を収納した坩堝1と、この坩堝1内の蒸発材料2を加熱して蒸発させるための加熱手段とを有する。 - 特許庁

The ion plating evaporation source material is formed by sintering or granulating the raw powder into lumpy particles having a mean particle diameter of2 mm or lumpy matter.例文帳に追加

本発明のイオンプレーティング用蒸発源材料は、上記の原料粉末を焼結又は造粒させて平均粒径が2mm以上の塊状粒子又は塊状物に加工したものである。 - 特許庁

To provide an arc evaporation source which can generate a line of magnetic force elongating from the surface of a target to a direction of a base material in a wide region on the surface of the target.例文帳に追加

ターゲット表面から基材方向に伸びる直進性の高い磁力線を、ターゲット表面の広い領域において発生させることができるアーク式蒸発源を提供する。 - 特許庁

In the case the particles of a metallic material are generated, the quantity of the particles to be released in the arc evaporation source is large, thus a film deposition rate is high, and inexpensive thin film pigment can be formed.例文帳に追加

金属材料の粒子を発生させる場合、アーク蒸発源の粒子放出量が多いので、成膜速度が速く、安価な薄膜顔料を形成することができる。 - 特許庁

The vapor deposition system 1 for thin film formation comprises: an evaporation source 20 of heating and evaporating a vapor deposition material; a feed tube 30 of transferring the vapor deposition material of a vapor phase fed from the evaporation source; an opening/closing means of opening/closing the feed tube; and an jetting means connected to the feed tube and jetting the vapor deposition material toward a substrate.例文帳に追加

本発明による薄膜形成用蒸着装置は、蒸着材料を加熱して蒸発させる蒸発源と、前記蒸発源から供給された気相の蒸着材料を移送する送り管と、前記送り管を開閉する開閉手段と、前記送り管に連結され、前記蒸着材料を基板に向けて噴射する噴射手段とを含んでなる。 - 特許庁

In the method for manufacturing the radiographic image conversion panel, which includes a process for forming a phosphor layer, by using a method for evaporating onto a substrate the stem generated by the irradiation of an evaporation source containing phosphors or a their material by an electron beam, the evaporation source which consists of element ingredients of the phosphors and where the element ingredients are locally distributed is used.例文帳に追加

蛍光体もしくはその原料を含む蒸発源に電子線を照射することによって発生する蒸気を基板上に蒸着させる方法を利用して蛍光体層を形成する工程を含む放射線像変換パネルの製法において、蒸発源として、当該蛍光体の複数の元素成分からなり、かつ該元素成分が局在分布している蒸発源を用いる。 - 特許庁

The evaporation source has a cylindrical heat shielding part serving as both the source material arrangement part of ion and the steam delivering channel by having the source material of ion arranged inside, and the high-frequency coil is spirally wound around an outer periphery of the heat shielding part along a length direction of the cylinder.例文帳に追加

蒸発源は、内部にイオンの原料物質が配置されることにより、イオンの原料物質配置部と蒸気送出通路を兼ねる円筒状の熱シールド部を有し、高周波コイルは、熱シールド部の外周に、円筒の長さ方向に沿って螺旋状に巻付けられていることを特徴とする蒸発源。 - 特許庁

The apparatus 10 is provided with a vacuum chamber 12, a support body 16 to support the substrate 16 to be treated, a substance source holder to hold a substance source treating the substrate and an evaporation/ sputtering means 20 to evaporate/sputter the substance.例文帳に追加

この装置10は、真空チャンバ12と、処理される基板16を支持するための基板用支持体16と、基板が処理される物質源を保持するための物質源ホルダーと、物質を蒸発並びにスパッタリングするための蒸発並びにスパッタリング手段20とを有する。 - 特許庁

This resistance heating evaporation source 2 includes: a storage part 21 of storing a metal Li; a heat source part composed of a conductor that produces heat by energization; and an insulating film composed of an electrical insulator that is difficult to react with a metal Li and formed in the storage part 21.例文帳に追加

この抵抗加熱蒸発源2は、金属Liを収納する収納部21を有し、通電により発熱する導電体からなる熱源部と、金属Liと反応し難い電気絶縁体からなり、収納部21に形成される絶縁膜と、を備える。 - 特許庁

The evaporation source comprises making the crucible 1 from a refractory metal such as molybdenum and tantalum, a filament 5 which generates thermoelectrons by a heating means, and a power source 22 for accelerating the thermoelectrons generated at the filament 5 and bombarding them to the above crucible 1.例文帳に追加

ここで、坩堝1を、例えばモリブデンやタンタル等の高融点金属材料で形成すると共に、加熱手段が熱電子を発生するフィラメント5と、このフィラメント5で発生した熱電子を加速して前記坩堝1に衝突させる加速電圧電源22とからなる。 - 特許庁

An arc ion plating apparatus comprises a vacuum chamber 1, a rotary table 2 for moving a substrate within the vacuum chamber vertically relative to its height direction, an arc evaporation source 9A for bombardment for cleaning the surface of the substrate with metal ions, and a plurality of evaporation sources 7A for deposition for depositing metal ions on the surface of the substrate.例文帳に追加

真空チャンバー1と、基材を真空チャンバー内でその高さ方向に対して垂直方向に移動させる回転テーブル2と、前記基材の表面を金属イオンでクリーニングするボンバード用蒸発源9Aと、金属イオンを前記基材の表面に成膜する複数の成膜用蒸発源7Aを備える。 - 特許庁

The device has a vacuum chamber, a vacuum exhaust means that exhausts in the vacuum chamber, a phosphor evaporation means that heats and vaporizes a film-forming material of phosphors, a holder that holds a target containing the activator, an ion source and an activator evaporation means that irradiates a target with an ion beam.例文帳に追加

真空チャンバと、真空チャンバ内を排気する真空排気手段と、蛍光体の成膜材料を加熱蒸発させる蛍光体蒸着手段と、付活剤を含むターゲットを保持するホルダおよびイオンソースを有し、ターゲットにイオンビームを照射する付活剤蒸着手段とを有することにより、前記課題を解決する。 - 特許庁

The vacuum deposition system comprises: an optical concentration ratio measuring means 12 where the concentration ratio in the vacuum chamber 1 of the materials 9 vaporized from the respective evaporation source 2 is optically measured; and a heating temperature controlling means 13 where the heating temperature of the respective evaporation sources 2 is controlled in accordance with the concentration ratio measured by the optical concentration ratio measuring means 12.例文帳に追加

各蒸発源2から気化した物質9の真空チャンバー1内の濃度比を光学的に計測する光学的濃度比計測手段12と、光学的濃度比計測手段12で計測される濃度比に応じて、各蒸発源2の加熱温度を制御する加熱温度制御手段13とを備える。 - 特許庁

Two or more evaporation sources and vapor release parts are connected by a piping and a valve, a valve makes a structure which has arranged an elastic seal 100 by a superelastic β based titanium alloy in a hollow cone part formed in an evaporation source side pipe side as a seal part, and a cone-like valve body 120 by stainless steel is used for a valve body.例文帳に追加

複数の蒸発源と蒸気放出部を配管とバルブで接続し、バルブは蒸発源側配管側に形成された中空コーン部に超弾性β系チタン合金による弾性シール100を配置した構成をシール部とし、弁体にはステンレスによるコーン状弁体120を用いる。 - 特許庁

In the method for manufacturing the radiation image conversion panel that includes a process where a phosphor layer is formed by evaporating a substance generated through the application of heat to phosphors or an evaporation source containing a material of the phosphors onto a substrate, the evaporation is carried out in an atmosphere whose moisture partial pressure is 7.0×10^-3 Pa or lower.例文帳に追加

蛍光体もしくはその原料を含む蒸発源を加熱して発生する物質を基板上に蒸着させることにより蛍光体層を形成する工程を含む放射線像変換パネルの製造方法において、蒸着を、水分圧が7.0×10^-3Pa以下の雰囲気中でを行う。 - 特許庁

An evaporator 1 has a crucible 11 fixed to one side face of a support flange 10 and an excitation source 14, and one end of the crucible 11 is a filling port 13, and the other end is an evaporation port 12.例文帳に追加

蒸発装置1は、支持フランジ10の一側面に固定したルツボ11と励起源14を有し、ルツボ11の一端が充填口13であり、他端が蒸発口12となっている。 - 特許庁

In a first position this spherical closure part closes a vapor conducting tube, which is connected with the evaporation source, and, in a second position, the spherical closure part abuts a spherical calotte which seals off a quartz tube.例文帳に追加

この球状閉鎖部分は、第1の位置において、蒸気発生源に連結された蒸気導入チューブを閉じ、かつ第2の位置において、石英チューブをシールしている球状キャップに当接する。 - 特許庁

To provide an evaporation source which forms a highly precise pattern on a large or flexible deposition target without causing distortion of a mask, and a thin-film deposition system.例文帳に追加

マスクの歪みの問題を招くことなく大型の成膜対象物又は撓みやすい成膜対象物に対して高精度のパターンを形成しうる蒸発源及び薄膜形成装置を提供する。 - 特許庁

A light source 106 irradiating the shadow mask 10 with a laser beam and removing an evaporation material, a condenser lens 107, and a galvanometer mirror 108 are arranged below the mask holding tool 102.例文帳に追加

マスク保持具102の下方には、シャドーマスク10にレーザ光を照射して蒸着物質を除去するための光源106,集光レンズ107およびガルバノミラー108が設けられている。 - 特許庁

A high frequency voltage is applied to the base material holding member 2, and a direct current is applied between the base material holding member 2 and a boat 1 of the evaporation source 20, while making the boat 1 as an anode.例文帳に追加

基材保持部材2には高周波電圧が印加されており、基材保持部材2と蒸発源20のボート1との間には、ボート1側を陽極として直流電圧が印加されている。 - 特許庁

To provide a vapor deposition apparatus preventing such a fluctuation in a material during the film deposition where a distance between an object to be vapor-deposited and an evaporation source is changed and reproducibility of film thickness controllability and of film thickness distribution property are degraded.例文帳に追加

被蒸着物と蒸発源の距離が変化し、膜厚制御性および膜厚分布性の再現性を低下させる成膜中の材料の変動を防止した蒸着装置を提供する。 - 特許庁

In a vapor-deposition chamber, an infrared-ray lamp unit 11 is arranged at places not exposed to the vapor, and the evaporant accumulated around the nozzle is removed by irradiating the vicinity of the nozzle of the evaporation source with infrared rays.例文帳に追加

蒸着室内において、蒸気が当たらない箇所に赤外線ランプユニット11を配置し、赤外線を蒸発源のノズル付近に照射して、ノズル付近に堆積した蒸着物質を除去する。 - 特許庁

A peeling layer is formed by the sputtering target 5, and by film deposition by an arc evaporation source 4 while introducing reactive gas and film deposition by vapor deposition from the crucible 3, a dielectric stacked film is formed.例文帳に追加

スパッタリングターゲット5によって剥離層を形成し、反応性ガスを導入しながらアーク蒸発源4による成膜とルツボ3からの蒸着成膜によって誘電体積層膜を形成する。 - 特許庁

An angle of incidence of evaporated material to a substrate 1 is set arbitrarily by making a parameter out of the distance between the substrate 1 and a mask 11, and the distance between the substrate 1 and a point evaporation source 13.例文帳に追加

基板1とマスク11との間の距離、基板1と点蒸発源13との間の距離をパラメータとして蒸着物質の基板1の表面への入射角を任意に設定する。 - 特許庁

After the inside of the vacuum chamber has been made into the reduced pressure state, evaporation of the deposition material from the vapor deposition source is started and a vapor deposition film composed of the deposition material is formed on the member to be subjected to vapor deposition.例文帳に追加

真空槽内が減圧状態にされた後に、蒸着源からの蒸着材料の蒸発が開始させられ、蒸着材料からなる蒸着膜が被蒸着物に形成される。 - 特許庁

The film formation apparatus 1 includes: a film formation chamber 10; a substrate holder 20 for holding the substrate 50 in the film formation chamber 10; a cooling block 30 on which the substrate holder 20 is fixed; and an evaporation source 40 for evaporating the film formation material.例文帳に追加

成膜装置1は、成膜室10と、この成膜室10内に、基板50を保持する基板ホルダー20と、基板ホルダー20が固定される冷却ブロック30と、成膜材料を蒸発させる蒸発源40と、を備える。 - 特許庁

The vacuum vapor-deposition source quickly stops the evaporation of the vapor deposition material M in the crucible 11 when the film formation has been finished, by stopping the heating of the heater 12, and making the movable mechanism 21 lift the reflector 20.例文帳に追加

成膜終了時にはヒーター12の加熱を停止するとともに、可動機構21によってリフレクター20を上昇させて坩堝11内の蒸着材料Mの蒸発を素早く停止させる。 - 特許庁

While rocking and rotating a lens 4 by a rocking mechanism 5, vapor deposition particles from a resistance heating evaporation source 2 are formed through the opening 3a of a shielding plate 3, so as to deposit a fluoride thin film.例文帳に追加

レンズ4を、揺動機構5によって揺動及び回転させながら、遮蔽板3の開口3aを通して抵抗加熱蒸発源2からの蒸着粒子を被着させ、フッ化物薄膜を成膜する。 - 特許庁

An aluminum film 12 is formed on a quartz board 10, and an amorphous silicon film 14 is formed on the aluminum film 12 while using low-purity silicon as an evaporation source, thus obtaining a laminated board 16.例文帳に追加

まず、アルミニウム膜12を石英基板10上に形成し、次いで低純度シリコンを蒸発源として非晶質シリコン膜14をアルミニウム膜12の上に形成することにより、積層基板16を得る。 - 特許庁

In this deposition method, while the opening part 42b of the shutter 4b on the substrate side is parallelly moved to the surface of a transparent substrate 1 at a variable speed, the shutter 3 on the evaporation source side is opened, and vapor deposition is started.例文帳に追加

本形成方法においては、基板側シャッタ4bの開口部42bを、透明基板1上に可変速で平行移動させつつ、蒸発源側シャッタ3を開放して蒸着を開始させる。 - 特許庁

To provide an arc evaporation source device capable of preventing unevenness of a thin film surface when a cathode is formed of a material of low melting point, a driving method thereof, and an ion plating device.例文帳に追加

カソード材料が低融点の材料からなる場合における薄膜の表面の荒れを防止することができるアーク蒸発源装置、その駆動方法、及びイオンプレーティング装置提供する。 - 特許庁

To provide an evaporation source and a thin film formation device forming a highly precise pattern on a large-size film forming object or an easily deflecting film forming object without causing a problem of mask strain.例文帳に追加

マスクの歪みの問題を招くことなく大型の成膜対象物又は撓みやすい成膜対象物に対して高精度のパターンを形成しうる蒸発源及び薄膜形成装置を提供する。 - 特許庁

例文

The rod-shaped evaporation source for the arc ion plating has a structure which cools the inside of a cylindrical target 1 by supplying and exhausting a cooling medium to and from a hollow center of the cylindrical target 1.例文帳に追加

円筒状ターゲット1の中空部に冷却媒体を供給・排出することで円筒状ターゲット1を内部冷却し得る構造を備えるアークイオンプレーティング用ロッド形蒸発源である。 - 特許庁




  
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