「excitation of a gas」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

When a first gas is provided to plasma generating region, and excitation gas and non-excitation gas of the first gas are reacted, with a second gas introduced in the film-forming region out of the plasma to form a film, a porous plate for preventing back flow of the second gas to the plasma generating region is arranged between the plasma generating region and the second gas supplying section.例文帳に追加

第１のガスをプラズマ生成領域に供給し、第１のガスの励起ガスと非励起ガスをプラズマ外の成膜領域で導入される第２のガスと反応させて成膜を行う際、第２のガスをプラズマ生成領域に逆流させないための多孔板をプラズマ生成領域と第２のガスの供給部との間に配置する。 - 特許庁

To provide a discharge excitation excimer laser device improved in an output characteristic in use of low gas pressure.例文帳に追加

低ガス圧使用時における出力特性が改善される放電励起エキシマレーザ装置を提供する。 - 特許庁

The self-excitation vibration nozzle 32 comprises a gas supply path for supplying the gas, a gas discharge port formed at the distal end of the gas supply path, and a connecting flow path whose one end and other end are connected to the left and right of the entrance of the gas discharge port.例文帳に追加

自励振動ノズル３２は、ガスを供給するガス供給路と、このガス供給路の先端に形成されたガス吐出口と、このガス吐出口の入口の左右にその一端と他端とが接続された連結流路とを有する。 - 特許庁

To provide a method for discriminating anomaly in gas composition by which the anomaly in gas composition of a laser gas can be discriminated by a simple method and the generation of damage in a discharge tube be also prevented, and to provide a discharge excitation gas laser oscillator.例文帳に追加

本発明は、簡易な方法でレーザガスのガス組成の異常を判断でき、放電管に損傷が生じることを防止することができるガス組成異常判断方法及び放電励起ガスレーザ発振器を提供する。 - 特許庁

To provide a gas discharge device having a phosphor layer which improves the deterioration of luminance and has a high molecular beam excitation efficiency.例文帳に追加

輝度劣化が改善されるとともに高い分子線励起効率を有する蛍光体層有するガス放電装置を提供する。 - 特許庁

Thereafter, a gas having no relation with processes nor etching is introduced into the chamber 4 by using an inert gas of N2, Ar, He, etc., excited by means of a power source 9 for excitation installed to a gas introducing pipeline 8.例文帳に追加

その後、ガス導入配管８に設置された励起用電源９により励起されたＮ_２、Ａｒ、Ｈｅなどの不活性ガスでプロセスおよびエッチングに関係のないガスをプロセスチャンバ４内に導入する。 - 特許庁

To provide an antenna excitation type gas discharge lamp small in size, having a simple structure, and capable of increasing luminous efficiency.例文帳に追加

小型かつ構造簡素にしてＶＵＶ光の発光効率が高くなるアンテナ励起型ガス放電灯を得る。 - 特許庁

In a shower plate 105 arranged in the processing chamber 102 of plasma processing equipment and discharging plasma excitation gas in order to generate plasma in the processing chamber 102, a porous gas circulator 114 having pores communicating in the direction of gas circulation is attached to a longitudinal hole 112 becoming the discharge passage of plasma excitation gas.例文帳に追加

プラズマ処理装置の処理室１０２に配置され、処理室１０２にプラズマを発生させるためにプラズマ励起用ガスを放出するシャワープレート１０５において、プラズマ励起用ガスの放出経路となる縦孔１１２に、ガス流通方向に連通した気孔を有する多孔質ガス流通体１１４を装着した。 - 特許庁

The film deposition apparatus 100 includes a reaction chamber 102 for performing the film deposition, a first gas feed line 112 and a second gas feed line 152 for feeding a first raw material A and a gas B to the reaction chamber 102, respectively, and an excitation part 106 for performing the plasma excitation of the gas to be fed to the reaction chamber 102.例文帳に追加

成膜装置１００は、成膜処理を行う反応室１０２と、第１の原料ＡおよびガスＢをそれぞれ反応室１０２に供給する第１のガス供給ライン１１２および第２のガス供給ライン１５２と、反応室１０２に供給されるガスをプラズマ励起する励起部１０６とを含む。 - 特許庁

To provide a phosphor material that exhibits strong emission of light in the near ultraviolet region by irradiation from an excitation source with a wavelength of 172 nm radiated by rare gas discharge as the excitation source of the phosphor.例文帳に追加

蛍光体の励起源として、希ガス放電により放射される波長１７２ｎｍの励起源の照射により、近紫外線領域に強い発光を示す蛍光体材料を提供すること。 - 特許庁

Ends 15 of a laser medium 19 having light incident/exit surfaces 11, 12 of the laser medium 10 exposed from an excitation chamber 30 is cooled by a gas jet from a gas jet ports 51.例文帳に追加

励起チャンバー３０から露出しているレーザ媒体１０の光入出射面１１，１２を有する端部１５を、ガス噴射口５１からガス噴射により冷却している。 - 特許庁

The apparatus for analyzing gas components in air bubbles by laser Raman spectroscopy has a laser Raman optical system, provided with both a first air excitation preventing means for preventing air excitation in the vicinity of a sample and a second air excitation preventing means for preventing air excitation at an intermediate location of light condensation at which a reflected or scattered laser beam is narrowed, and performs analysis by preventing air excitation in the laser Raman optical system.例文帳に追加

本レーザラマン分光による気泡内ガス成分分析装置は、レーザラマン光学系を有し、試料近傍での空気励起を防止する第１の空気励起防止手段と、反射または散乱したレーザ光線が絞られる中間集光位置での空気励起を防止する第２の空気励起防止手段を設け、レーザラマン光学系における空気励起を防止して分析を行なう。 - 特許庁

In this method, a film is formed on the substrate 6 with a process gas plasma excited in a process chamber 4 by means of a high-frequency power source 5 for excitation connected to a cathode 2.例文帳に追加

カソード２に接続された励起用高周波電源５によりプロセスチャンバ４内で励起されたプロセスガスプラズマにより基板６上に成膜を行う。 - 特許庁

The vacuum ultraviolet rays-excited fluorophor is used for a light emission device using vacuum ultraviolet rays such as of a gas discharge lamp and a PDP as an excitation source.例文帳に追加

真空紫外線励起蛍光体は、希ガス放電ランプやＰＤＰなどの真空紫外線を励起源とする発光装置に用いられる。 - 特許庁

To allow continuous use of highly reliable gas laser oscillator and laser processing device attaining stable discharge excitation regardless of secular formation of an oxide film on a surface of an electrode for discharge excitation.例文帳に追加

放電励起するための電極の表面に経年的に酸化膜が生成されても安定した放電励起ができる信頼性の高いガスレーザ発振装置およびレーザ加工装置の継続使用を可能とする。 - 特許庁

Further, fine bubbles of a gas are jetted to the water tank by a gas bubble jetting nozzle 7 and thus gas bubbles with a low weight are mixed in molecule polymers of water, so that separation of light weight and heavy water of which the molecule clusters are cut by vibration and excitation can be promoted.例文帳に追加

さらに、気泡噴射ノズル７により、水槽に気体の細かな気泡を噴射し、水の分子重合間に質量の小さな気泡を混入することで、振動励起で分子重合が切断された軽水と重水との分離を助長する。 - 特許庁

To provide a gas inlet member of a plasma treatment equipment such as a plasma CVD equipment by which the occurrence of reverse discharge toward the gas influx portion (on the upper electrode side) can be prevented at the time of the excitation of plasma.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ装置などのプラズマ処理装置において、プラズマの励起時、ガス流入部（上部電極側）に向って逆放電が生じるのを防止できるプラズマ処理装置のガスインレット部材を提供する。 - 特許庁

When a gas leakage is detected, the output of a gas leakage alarm device control unit 4 is amplified by an amplifier circuit 5 and outputted as an alarm by a buzzer 6, and at the same time, the excitation of the coil 7 of a relay is released.例文帳に追加

ガス漏れが検出された場合、ガス漏れ警報器制御部４からの出力は増幅回路５で増幅され、ブザー６により警報として出力されると共に、リレーのコイル７の励磁を解除する。 - 特許庁

In the surface wave excitation plasma CVD device 100, a material gas comprising silicon element is introduced into a chamber 1 by at least one of an upper surface side introduction tube and a side surface side introduction tube 7, and a process gas which makes material gas cause chemical reaction by activation by surface wave excitation plasma P is introduced into the chamber 1 by a process gas introduction tube 5.例文帳に追加

表面波励起プラズマＣＶＤ装置１００は、シリコン元素を含む材料ガスを上面側導入管および側面側導入管７の少なくとも一方によりチャンバー１内に導入し、表面波励起プラズマＰにより活性化して材料ガスに化学反応を起こさせるプロセスガスをプロセスガス導入管５によりチャンバー１内に導入する。 - 特許庁

To provide a surface wave excitation plasma CVD device in which, even if a concentration distribution of material gas is non-uniform, a thin film of a uniform film thickness and film quality can be formed.例文帳に追加

材料ガスの濃度分布が不均一であっても、均一な膜厚、膜質の薄膜を形成することができる表面波励起プラズマＣＶＤ装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a flow control device for gas capable of reducing a noise caused by excitation of a core valve due to an impulse wave generated when gas flows in a clearance formed between a narrow part and the core valve.例文帳に追加

狭部と芯弁との間に形成される隙間を気体が流れるときに発生する衝撃波による芯弁の加振に起因した騒音を低減することが可能な気体の流量調節装置を提供する。 - 特許庁

Then, the process gas is continued to flow into the process chamber without plasma excitation until the flow or the distribution of the process gas reaches a steady state in the regular process chamber (226).例文帳に追加

次に、処理ガス流および分配が通常処理チャンバで定常状態を達成するまで、処理ガスはプラズマ励起なしに処理チャンバに流し込まれる（２２６）。 - 特許庁

To provide a turbine blade and a gas turbine attenuating vibration caused by excitation force and facilitating replacement of an elastic member such as a spring.例文帳に追加

励振力に起因する振動を減衰させるとともに、バネなどの弾性部材の交換を容易にすることができるタービン翼およびガスタービンを提供する。 - 特許庁

A source gas from the source container 8 introduced into the plasma generating apparatus 13 is decomposed through the excitation of plasma, and monomer of xylylene is formed.例文帳に追加

プラズマ発生装置１３に導入されたソース容器８からのソースガスはプラズマの励起によって分解され、キシリレンのモノマーが形成される。 - 特許庁

To provide a turbo type gas compressor capable of eliminating generation of unnecessary motive power caused by changing laser output by excitation voltage.例文帳に追加

レーザ出力の変更を励起電圧で行うことによる不要な動力の発生をなくすることができるターボ形ガス圧縮機を提供する。 - 特許庁

This dry processing device has a light excitation section 3 for irradiating light with appropriate wavelength in the middle of a gas supply path 2 interlocked to a pressure-reduced treatment chamber 1 for introducing an appropriate gas into the gas supply path 2, thus generating a desired radical at the light excitation section 3.例文帳に追加

本発明によるドライプロセッシング装置は、減圧された処理室１に連結されたガス供給経路２の途中に、適切な波長の光を照射する光励起部３を備えており、ガス供給経路２内に適切なガスを導入することによって、光励起部３において所望のラジカルを生成する。 - 特許庁

A production process of semiconductor integrated circuit device comprises applying plasma to excite reaction gas to deposit a desired film in a reaction chamber 52, supplying a cleaning gas excited in a remote plasma excitation chamber to the reaction chamber to perform a remote plasma cleaning of the reaction chamber under non-plasma excitation atmosphere, and repeating these steps.例文帳に追加

そこで成膜用の励起電極を利用して検出用にプラズマ励起したり、局所的にプラズマを励起することが考えられるが、もともと励起に適合した条件でないため、局所的にプラズマを励起すること自体が困難であり、また、大域的にプラズマ励起することはリモートプラズマクリーニングの目的に反する。 - 特許庁

In this way, the reliability of a gas turbine can be improved by avoiding unfavorable crossing of the natural frequency of the moving blade and gas turbine excitation without affecting other features of the moving blade important for a performance of the gas turbine.例文帳に追加

このようにして、動翼の固有振動数とガスタービン励振との好ましくない交差を回避して、それによってガスタービンの性能にとって重要な動翼のその他の特徴に影響を与えることなく、ガスタービンの信頼性を改善することができる。 - 特許庁

To provide a vacuum ultraviolet excitation phosphor having a good emission luminance, a maintenance factor of paste baking luminance and a maintenance factor of gas discharge, to provide a vacuum ultraviolet excitation device using the same, to provide a vacuum ultraviolet excitation phosphor having a good coating property, an adjustable discharge starting voltage, and to provide a vacuum ultraviolet excitation device using the same.例文帳に追加

本発明の目的は、発光輝度、ペーストベーキング輝度維持率及びガス放電による輝度維持率が良好な真空紫外線励起蛍光体及びそれを用いた真空紫外線励起発光装置を提供することであり、さらには、塗布特性が良く、放電開始電圧の調整が可能な真空紫外線励起蛍光体及びそれを用いた真空紫外線励起発光装置を提供することである。 - 特許庁

To reduce noise of a hermetic compressor by reducing radiation of compressed refrigerant gas leaked to a cavity part of a piston pin on a problem of generating the noise of a 500 Hz area as an excitation source of a resonance sound of a space part in a sealed vessel.例文帳に追加

密閉容器内空間部の共鳴音の加振源とし５００Ｈｚ域の騒音が発生するという問題に関し、前記ピストンピンの空洞部にリークした圧縮冷媒ガスの放射を低減することによる密閉型圧縮機の騒音低減を図る。 - 特許庁

To provide an electron-beam excitation dry etching technique using a reaction gas having low toxicity and corrosiveness in the partial etching of a metallic material required in a fine machining technique.例文帳に追加

微細加工技術で必要な金属材料の局所的エッチングを毒性、腐食性の低い反応ガスを用いた電子ビーム励起ドライエッチング技術を提供する。 - 特許庁

As gas delivered from a cylinder 9 is delivered toward a motor 2 and gas delivered from the cylinder 10 is delivered from the circumferential direction of a hermetically closed vessel 1 to a space between a stator wire 7 and a rotary compression element 3, a stationary wave is destroyed and the excitation of a gas pole resonance can be prevented.例文帳に追加

シリンダ９から吐出されたガスを電動機２に向けて吐出させ、シリンダ１０から吐出されたガスを、固定子巻線７と回転圧縮要素３の間の空間に密閉容器１の円周方向から吐出させるように構成したので、定在波を破壊し、気柱共鳴の励起を防止することができる。 - 特許庁

A treatment system control (304) automates the operation of the system and controls flow of the process gas, evacuation of the chamber, and the application of the plasma excitation power to minimize the length of a treatment cycle and to optimize the uniformity of the plasma treatment.例文帳に追加

処理システム制御（３０４）は、システムの動作を自動化し、処理ガスのフロー、チャンバの排気、およびプラズマ励起パワーの印加を制御して、処理サイクルの長さを最小限に抑え、プラズマ処理の均一性を最適化する。 - 特許庁

A light source 10 and a window 9 introduce light for inducing electrons, vibration or rotation excitation of gas molecules existing in the process chamber 1 into the process chamber 1.例文帳に追加

光源１０及び窓９は、プロセスチャンバ１の内部に存在するガス分子の電子、振動又は回転励起を誘起する光をプロセスチャンバ１の内部に導入する。 - 特許庁

An electric discharge is caused through the medium of a prescribed gas at the atmospheric pressure or at a pressure in the vicinity of the atmospheric pressure, and through the atmosphere of the electric discharge, the surface of a material to be treated is exposed to an excitation constituted in the prescribed gas or active species gases such as ion or the like.例文帳に追加

大気圧またはその近傍の圧力下において、所定のガスを媒体にして放電を生じさせ、その放電雰囲気により、前記ガス中に形成される励起もしくはイオン等の活性種ガスに被処理材の表面を曝露する。 - 特許庁

The control of the film quality (modulus of crystallization and modulus of failure) of microcrystalline silicon is made easy by eliminating a restriction on the introduction of material gas by performing radical film formation using argon gas in forming the film of microcrystalline silicon for an optical absorption layer (an i layer) of a solar battery by using surface wave excitation plasma.例文帳に追加

表面波励起プラズマによる太陽電池の光吸収層（ｉ層）用の微結晶シリコンの成膜において、アルゴンガスを用いたラジカル成膜を行うことで、材料ガスの導入の制約を無くし、微結晶シリコンの膜質（結晶率、欠陥率）の制御を容易とする。 - 特許庁

The toxic substance treatment device 1 is provided with a gas passing part 2 to which the gas is supplied, a photocatalyst filter 3 (photocatalyst member) which is brought into contact with the gas supplied within the gas passing part 2 and a light source 5 which irradiates the lights required for excitation of the photocatalyst included in the photocatalyst filter 3 to the photocatalyst filter 3.例文帳に追加

有害物質処理装置１はガスが供給されるガス通過部２と、このガス通過部２内に供給されたガスと接触させる光触媒フィルタ３（光触媒部材）と、この光触媒フィルタ３に含まれる光触媒の励起に必要な光を光触媒フィルタ３に照射する光源５を備える。 - 特許庁

To provide an apparatus for treating an exhaust gas which avoids recombination of PFC (perfluoro compound) and brings about the high removing rate of PFC while preventing troubles such as clogging of pipes at the lower stage of an excitation section and a machine breakdown.例文帳に追加

ＰＦＣの再結合を防止して、高いＰＦＣ除去率を達成できると共に、励起部下段での配管詰りや機器故障などのトラブルを防止した排ガス処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing device increasing plasma excitation efficiency of a processing gas passing between electrodes to increase a film-deposition speed in the substrate processing device having at least a pair of electrodes.例文帳に追加

少なくとも一対の電極とを有する基板処理装置において、該電極間を通過する処理ガスのプラズマ励起効率を向上させ、成膜速度を向上させることのできる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

In the plasma processing apparatus for processing a substrate to be processed, a space for plasma excitation and a plasma gas introducing path for the same are separated from each other by a porous medium such as a porous ceramic material, thereby: preventing the plasma excitation in the plasma introducing path; and exciting uniform plasma of high density in a desired plasma excitation space.例文帳に追加

被処理基板を処理するプラズマ処理装置において、プラズマを励起するための空間と、プラズマを励起するためのプラズマガス導入経路を多孔質媒体、たとえば多孔質セラミック材料で分離することにより、前記プラズマガス導入経路でのプラズマの励起を防止して、所望のプラズマ励起空間において高密度かつ均一なプラズマを励起させることが可能とする。 - 特許庁

Following to baking at a temperature of about 200°C, hydrogen gas or mixture gas of hydrogen gas and an inert gas is subjected to plasma excitation and the surface of the resin film 11 is irradiated with hydrogen plasma 13 of hydrogen active species and unwanted resin film 11 on the surface of the cap layer 106 is removed by etching back of the resin film 11, thus forming a dummy plug 12 filling the via hole 110.例文帳に追加

そして、２００℃程度の温度でベーク処理を施した後に、水素ガス、あるいは水素ガスと不活性ガスとの混合ガスをプラズマ励起し、水素活性種である水素プラズマ１３を樹脂膜１１表面に照射して行う樹脂膜１１のエッチバックによりキャップ層１０６表面の不要な樹脂膜１１を除去し、ビアホール１１０を充填するダミープラグ１２を形成する。 - 特許庁

The method includes: the step of separately supplying Zr(BH_4)_4 gas forced to go out by supplying Ar gas to a material tank TK from a massflow controller MFC1, and oxygen atom-containing gas activated by excitation in a microwave plasma source PL to a space on a surface of a substrate S through holes provided in a shower plate 36.例文帳に追加

マスフローコントローラＭＦＣ１から原料タンクＴＫにＡｒガスを供給することによって押し出されたＺｒ（ＢＨ_４）_４ガスと、マイクロ波プラズマ源ＰＬで励起することによって活性状態にされた酸素原子を含むガスとを、シャワープレート３６に設けられた複数の孔から別々に基板Ｓ表面の空間に供給する。 - 特許庁

When coating osmium on a metal plate 16, such as an iris plate of an electron microscope as a metal plate in which micropores are made, hydrogen gas is added in addition to sublimation gas, consisting of osmium oxide using the plasma excitation chemical vapor phase deposition method.例文帳に追加

例えば微小な孔を空けた金属板である電子顕微鏡の絞りプレート等の金属板１６にオスミウムのコーティングを施す際に、プラズマ励起化学気相堆積法において、酸化オスミウムからなる昇華ガスに加えて水素ガスを添加する。 - 特許庁

The fused semiconductor from the nozzle is irradiated with sonic wave or ultrasonic wave of excitation means 212 and, thereby, is made to be globular particles of uniform grain size in a gas phase.例文帳に追加

ノズルからの溶融半導体には、加振手段２１２の音波または超音波が照射され、これによって溶融半導体は気相中で、粒径の揃った球状粒子とされる。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for analyzing gas components in air bubbles by laser Raman spectroscopy and which are capable of efficiently preventing the occurrence of interfering peaks due to air excitation, and surely and easily detecting gas components in minute air bubbles.例文帳に追加

空気励起による妨害ピークの生成を効率的に防止し、微小気泡内ガス成分の検出が確実にかつ容易に行なうことができるレーザラマン分光による気泡内ガス成分分析装置及び分析法を提供する。 - 特許庁