「edge region」に関連した英語例文の一覧と使い方(31ページ目) - Weblio英語例文検索

Thereby, even in the case a liquid crystal display device is assembled in a state that the foreign matters entered in the gap 9 between the peripheral edge on the light emitting face 3a side of the light guide plate 3 and the molded frame 7, the movement of the foreign matters in the gap 9 to the display region 100a side can be prevented.例文帳に追加

これにより、導光板３の発光面３ａ側周縁部とモールドフレーム７の間の隙間９に異物が侵入した状態で液晶表示装置が組み立てられた場合でも、隙間９内の異物が表示領域１００ａ側に移動するのを防止できる。 - 特許庁

By this constitution, luminance unevenness in a light mixing beginning region, which is unevenly distributed near a side edge part 32a of a light guiding plate 32 where a plurality of light emitting diodes 33 are arranged, is reduced and improvement of the in-plane luminance distribution can be attained and further improvement of the front face luminance can be attained.例文帳に追加

この構成により、複数のＬＥＤ３３が配置される導光板３２の側端部３２ａ近傍に偏在する光混合開始領域における輝度ムラを低減し、面内輝度分布の向上を図ることができるとともに、正面輝度の向上を図ることができる。 - 特許庁

In a region with a given length from each edge face of the semiconductor laser element 100, a part with a given depth from the p-type contract layer 9 to the n-type GaN layer 4 is removed by etching to form a step part 300 with a flat side face 41 and a bottom face 42.例文帳に追加

半導体レーザ素子１００の両端面から所定幅の領域においてｐ−コンタクト層９からｎ−ＧａＮ層４の所定深さまでがエッチングにより除去され、平坦な側面４１および底面４２を有する段差部３００が形成されている。 - 特許庁

The silica glass crucible has a large number of recesses formed in the circumference direction in the initial melt line zone or an upper region including the zone on the generally smooth inner surface of a transparent layer, with each recess having a projection at the edge of the recess protruding by 20 to 1,000 μm from the smooth inner surface.例文帳に追加

本シリカガラスルツボは、透明層の全体的に滑らかな内表面の初期メルトライン帯域あるいはこれを含む上部域に、多数の凹部が円周方向に沿って設けられ、この各凹部の端部に滑らかな内表面から２０〜１０００μｍ突出する凸部が設けられる。 - 特許庁

The article is also optically coupled to and at least partially envelop a light source, and includes an output edge or surface having at least two oppositely signed curved portions shaped to provide substantially uniform illumination of a target region by the source.例文帳に追加

物品はまた、光源を光学的に結合し、少なくとも部分的に光源を包囲することができ、光源による対象領域の実質的に一様な照明を行うように形成された少なくとも２つの逆符号の曲線部分を有する出力縁または出力面を備えることができる。 - 特許庁

This electrostatic chuck 30 is made up of a central electrostatic suction part 60 arranged in a region within an outer circumferential edge of a substrate G on a susceptor's placement surface and a circumferential electrostatic suction part 62 arranged thereabout so as to surround the central electrostatic suction part 60.例文帳に追加

この静電チャック３０は、サセプタの載置面上で基板Ｇの外周エッジよりも内側の領域に配置される中心静電吸着部６０と、この中心静電吸着部６０を取り囲むようにその周囲に配置される周辺静電吸着部６２とで構成されている。 - 特許庁

As a result, when the package 30 is mounted on the mounting substrate, the points of the electrodes 36 provided along the edge regions come into contact with the mounting substrate, the central region of the surface 34 is put in the state floating from the plane, and a space having a gap is formed on the mounting substrate.例文帳に追加

これにより、ＳＯＮタイプパッケージを実装基板上に載せたとき、縁部領域に沿って設けられたリード電極の先端が実装基板に接触し、中央領域が平面から浮いた状態になって、実装基板上に間隙を有する空間を形成する。 - 特許庁

The alignment part 10 installed on the outer surface of at least two adjacent side parts of the flat panel 1 is constituted by a protruded part having the standard plane 12 in which the outer surface of the region to reach a break line 8 from a mold match line is continuously extended from the break line 8 to the seal edge face 6 side.例文帳に追加

フラットパネル１の少なくとも２つの相隣り合う辺部の外表面に設けられるアライメント部１０を、モールドマッチラインからブレイクライン８に至る領域の外表面をブレイクライン８から連続してシールエッジ面６側に延長した基準平面１２を有する突部で構成する。 - 特許庁

A coin-shaped battery 20 with leads is provided with bend parts 22a and 23a by bending the respective two leads 22 and 23 in a direction of crossing main surfaces 21a and 21b, in a region farther inside than the edge of the main surfaces 21a and 21b of a coin-shaped battery 21.例文帳に追加

リード付きコイン形電池２０において、２つのリード２２，２３の各々を、コイン形電池２１の主面２１ａ，２１ｂの縁よりも内側の領域に、当該主面２１ａ，２１ｂに交差する方向に折り曲げられてなる折曲部分２２ａ，２３ａを備えさせた。 - 特許庁

In a semiconductor device 1A, which comprises an MIS transistor, a highly-doped impurity region 20, whose impurity concentration is higher than that at the center of the channel-forming section 4 is formed in an end part 4a on the field edge side of the channel formation section 4, which is immediately below a gate electrode 6.例文帳に追加

ＭＩＳトランジスタからなる半導体装置１Ａにおいて、ゲート電極６の直下のチャネル形成部４のフィールドエッジ側端部４ａに、不純物濃度がチャネル形成部４の中央部の不純物濃度よりも高い高濃度不純物領域２０を形成する。 - 特許庁

In the termination area, an edge portion of an electrode layer formed on the pillar structure with an inter-layer insulating layer interposed to connect with a gate of a transistor or a bent portion of <180° is formed right above the second semiconductor layer of the second conductivity type of the pillar structure in the termination region.例文帳に追加

終端領域において、トランジスタのゲートと接続するためピラー構造上に層間絶縁層を介し形成された電極層のエッジ部、又は１８０度未満の屈曲部が、終端領域におけるピラー構造の第２導電型の半導体層の直上に形成されている。 - 特許庁

To provide a positive resist composition satisfying requirements for high sensitivity, high resolution, a good pattern profile, good line edge roughness and reduction in outgassing, in an ultrafine region, particularly, in electron beam, X-ray or EUV lithography, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加

超微細領域での、特に、電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光リソグラフィーにおける、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、およびアウトガス低減を同時に満足するポジ型レジスト組成物、それを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

On the other surface 2b of the circuit board 2, a grounding conductor layer 8 is formed in almost the whole region overlapping the circuit mechanism part 9, and a pair of antenna elements 6, 7 are arranged at both side edge parts of the other surface 2b overlapping the connectors 4, 5 without overlapping the circuit mechanism part 9.例文帳に追加

また、回路基板２の他面２ｂには回路機構部９と重なり合うほぼ全領域に接地導体層８が設けられていると共に、回路機構部９と重なり合わずコネクタ４，５と重なり合う該他面２ｂの両側縁部に一対のアンテナ素子６，７が配設されている。 - 特許庁

When an operator specifies an edge, an object being shot, the region, dragging, and the angle of view on the preview screen 121 by using a mouse, the controller 11 processes each type of the printing regions to specify them in accordance with signals issued by mouse operations and displays a result of the processing on the preview screen 121.例文帳に追加

また、制御部１１は、操作者がマウスによりプレビュー画面１２１上でエッジ指定、被写体指定、領域指定、ドラッグ、画角指定等を行うと、マウスの操作信号に対応する各種のプリント領域指定処理を行って、処理結果をプレビュー画面１２１上に表示させる。 - 特許庁

Fuel is injected from an outlet opening 53 while blocking a region out of the outlet opening 53 of the downstream side injection hole 48 toward an edge on the same side as the abruptly enlarged side by fuel flowing along a direction of the wall face on the upstream side more than the folded part 54 inside the downstream side injection hole 48.例文帳に追加

下流側噴孔４８内を折れ部５４よりも上流側の壁面の方向に沿って流れる燃料により、下流側噴孔４８の出口開口５３のうち、上記急拡大させた側と同じ側の縁部寄り領域を塞ぎながら、出口開口５３から燃料を噴射させる。 - 特許庁

The spare peeling means 16 is provided so as to form a spare peeling region S2 relative to the adhesive sheet S from an intersection position P of an outer edge S1 of the adhesive sheet S and side end edges PT2 of the peeling tape PT by twisting the peeling tape PT applied to the adhesive sheet S.例文帳に追加

予備剥離手段１６は、接着シートＳに貼付された剥離用テープＰＴを捻ることで、接着シートＳに対し、接着シートＳの外縁Ｓ１と剥離用テープＰＴの側端縁ＰＴ２との交差位置Ｐから予備剥離領域Ｓ２を形成可能に設けられている。 - 特許庁

An abutting face Ts (a side wall face 12 of an annular groove 8 and an axial end face 13 of an outer race 9) on the other side which abuts on an axial end 11s of an inner ring 11 (17, 18) of a ball bearing is formed so that its abutting region γ is protruded at its inside rather than its peripheral edge.例文帳に追加

ボール軸受の内輪１１（１７，１８）の軸方向端部１１ｓに当接する相手方の当接面Ｔｓ（環状溝８の側壁面１２及びアウタレース９の軸方向端面１３）は、その当接領域γが周縁部よりも内側が凸となるように形成される。 - 特許庁

When an obstacle detection means 12 detects the presence of the obstacle, the image processing portion 14 specifies an image-missed region by referring to the location of the obstacle at an edge of the vehicle and detected by an obstacle location detection means 13 to fill a substitute image data.例文帳に追加

そして、障害物検出手段１２によって障害物の存在が検出されたとき、画像処理部１４は、障害物位置検出手段１３によって検出された障害物の車両側の縁の位置を用いて、画像欠落領域を特定し、代替画像データを埋める。 - 特許庁

In the semiconductor wafer 100, scribed line trenches 112 are formed along the outer edge of a device forming region on the principal surface of a semiconductor substrate where a plurality of the device formation regions are provided, and stoppers 118 for closing the scribed line trenches 112 are formed at intersecting points of the scribed line trenches 112.例文帳に追加

半導体ウェハ１００は、複数の素子形成領域が設けられた半導体基板の主面に、素子形成領域の外縁に沿ってスクライブライン溝１１２が形成され、スクライブライン溝１１２の交差部分に、スクライブライン溝１１２を閉塞するストッパ１１８が形成されている。 - 特許庁

Meanwhile, the irradiation of the laser light L is turned off when the focusing point is located in the beveled part 4x when forming the refined region 7b at the nearest side of the surface 3, and when the focusing point is located inside the beveled part 4x and located outside the external edge 16e of a laminated part 16.例文帳に追加

一方、最も表面３側の改質領域７ｂを形成する場合、集光点がベベル部４ｘに位置するとき、及び、集光点がベベル部４ｘよりも内側であって積層部１６の外縁１６ｅよりも外側に位置するとき、レーザ光Ｌの照射をＯＦＦとする。 - 特許庁

In the case of the two adjacent cover members 27 having a partially overlapped part 33, a moving direction end edge 31 of the cover member 27 positioned in a foreign matter generation region side is formed to face downward in the inclined surface, and each cover member 27 is pivotally mounted and connected by a pantograph mechanism.例文帳に追加

隣接する２つのカバー部材２７が一部重なる部分３３を有する場合において、異物発生領域側に位置するカバー部材２７の移動方向端縁３１が下向に傾斜面して形成されており、各カバー部材２７はパンタグラフ機構で枢着、結合されている。 - 特許庁

After the rinse liquid supply nozzle 40 moves to the forward scanning direction La, inversion movement of the rinse liquid supply nozzle 40 is performed backwardly to the forward scanning direction La while continuing spouting of the rinse liquid, and the rinse liquid is supplied again to a region of a move finished edge side in the substrate W.例文帳に追加

リンス液供給ノズル４０が順走査方向Ｌａに移動した後、リンス液の吐出を継続したままで、リンス液供給ノズル４０を順走査方向Ｌａとは逆方向に反転移動させ、基板Ｗのうち移動終了端側の領域に、再度リンス液を供給する。 - 特許庁

A right side edge E5 of the second semiconductor layer 12 is first extended straight in a column direction from a contact forming region 12A, then midway bent at a right angle into the row direction, and further bent into the column direction to intersect with the storage capacitor line 122 at an intersection P2.例文帳に追加

また、第２の半導体層１２の右側のエッジＥ５はコンタクト形成領域１２Ａからまず直線的に列方向に延び、その途中で行方向に直角に屈曲し、さらに列方向に屈曲して保持容量ライン１２２と交点Ｐ２で交差するようにしている。 - 特許庁

Folded corner parts 22a-22c are respectively provided in the edges of respective color filters 18a'-18c' on the boundary part between the display region and the frame 21, thereby making the ITO residual waste 23 accumulating on the step part due to the film thickness of the edge of the color filters 18a'-18c' discontinuous.例文帳に追加

表示領域と額縁２１との境界部分における各々のカラーフィルタ１８ａ’乃至１８ｃ’の端辺に折角部２２ａ乃至２２ｃをそれぞれ設け、カラーフィルタ１８ａ’乃至１８ｃ’の端辺の膜厚による段差部分に溜まるＩＴＯの残り屑２３が不連続となるようにする。 - 特許庁

To provide a heat generation instrument in which a double-sided release sheet is used, thereby the usage of a release sheet is made half of a one side release sheet, a wrinkle by an adhesive to be formed to a portion of a crease is difficult, and turn over of an outside edge region is difficult to arise in the use or before use.例文帳に追加

両面離型シートを用いることで離型シートの使用量を片面離型シートの半分にできるとともに、折り目の部分に接着剤による皺が形成され難く、使用前・使用中における外縁域のめくれ上がりが起こり難い発熱具を提供すること。 - 特許庁

Provided is the machine 1 for adding wounds to unpolished rice, characterized by forming a guide groove 7 in the laterally central portion of a feeder 6 and disposing a disk cutter 14 at a place where cutting blades can form cut grooves 16 achieved from husk to albumen in the unpolished rice 15 moved on the guide groove 7, in a region above the tip end edge portion of the feeder 6.例文帳に追加

フィーダ６の幅中央部に、ガイド溝７が形成され、該フィーダ６の先端縁部上域に、切刃を、ガイド溝７上を移動する玄米１５に、表皮から胚乳に達する切溝１６を形成可能に位置して、円盤カッタ１４が配設されている玄米加創機１。 - 特許庁

In the region near a trailing edge of the bent part 13c to the negative pressure face 13e side, a second bent part 13f which is a part of the bent part 13c further bent to the negative pressure face 13e side.例文帳に追加

ベルマウス５を有するとともに、羽根１３の外周を負圧面１３ｅ側に曲成してなる軸流ファンにおいて、上記負圧面１３ｅ側への曲成部１３ｃの後縁近傍領域では、当該曲成部１３ｃの一部を、さらに負圧面１３ｅ側に曲成した第２の曲成部１３ｆを設ける。 - 特許庁

A square vacuum suction groove is formed at a region for supporting the inner edge of a chip adjacent to a chip picked up by the collet in a chip lifter, and a viscous sheet onto which a plurality of chips are applied is sucked by the chip lifter through a vacuum suction hole provided at the bottom surface of the groove.例文帳に追加

チップ受け台には、コレットでピックアップするチップに隣接するチップの内縁部を支持する領域に方形状の真空吸着溝を形成し、その溝の底面部に設けた真空吸着孔を通じて、複数のチップが貼り付けられた粘着シートをそのチップ受け台に吸着する。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus which can smoothly correct the other portion while maintaining the sharpness of the edge portion of a specific region of a CT image and can quantitatively evaluate a reconstructed image, an image processing method and an X-ray CT system.例文帳に追加

ＣＴ画像の特定部位について、エッジ部分のシャープさを保ったまま、それ以外の部分をより滑らかに補正することができるとともに、再構成画像の評価を定量的に行うことができる画像処理装置及び画像処理方法並びにＸ線ＣＴシステムを提供する。 - 特許庁

Since the detector detects by detecting a frequency change on a frequency region of the DCT coefficient to detect the rotating part (tire of other vehicle), this detector has an advantage of hardly receiving external optical disturbance in comparison with a conventional method of directly comparing a difference from an edge intensity or luminance.例文帳に追加

ＤＣＴ係数の周波数領域上での周波数変化を検出することによって回転部分（他車両のタイヤ）を検出しているので、直接にエッジ強度や輝度の違いを比べる従来の手法よりも光学的外乱を受けにくいという効果がある。 - 特許庁

During printing data with the squeezed-out ink, (1) the expansion rate of a platen absorber in a part for receiving the ink discharged and run off the edge of a recording medium, is increased, compared with the other part, and the waste ink is rapidly transferred from a run off printing region by capillarity, and a drain sheet is made to retain the waste ink.例文帳に追加

はみ出し印字時に、（１） 記録媒体からはみ出して吐出されたインクを受ける部分のプラテン吸収体の発泡率を他の部分よりも大きくして、毛管力により、速やかに廃インクをはみ出し印字領域から移動させ、ドレインシートに保持させる。 - 特許庁

An estimator 13 hierarchically combining an easy evaluating function and a strict evaluating function estimate a prediction mode of a second encoding system, using the code information from the extractor 11 and the pixel information from the decoder 12 and utilizing an edge direction determined on a frequency region.例文帳に追加

推定部13は、抽出部11からの符号情報と復号部12からの画素情報を用い、周波数領域上で判定したエッジ方向を利用し、簡易的な評価関数と厳密な評価関数を階層的に組み合わせて第２の符号化方式の予測モードを推定する。 - 特許庁

The plurality of driving electrodes extend to a first position, which separates from a center of the outermost touch detection electrode in the plurality of touch detection electrodes arranged in an effective display region S by a half distance of array pitch of the plurality of touch detection electrodes, or to a second position outside of the first position, and an outer edge of the effective display region positions at the first position or its inside.例文帳に追加

上記複数の駆動電極は、有効表示領域Ｓに配置された複数のタッチ検出電極のうちの最も外側に位置するタッチ検出電極の中心から、複数のタッチ検出電極の配列ピッチの半分の距離だけ離れた第１の位置もしくはその外側の第２の位置まで延伸し、有効表示領域の外縁は、第１の位置もしくはその内側に位置している。 - 特許庁

A mesa diode comprises: a first semiconductor layer formed by a nitride semiconductor having a first conductivity type different from the first conductivity type; a second semiconductor layer formed by a nitride semiconductor having a second conductivity type and having, at an edge, a thin film region of a thickness thinner than that of another part; and an upper electrode formed on at least a part above the second semiconductor layer other than the thin film region.例文帳に追加

第１導電型を有する窒化物半導体で形成された第１半導体層と、第１半導体層上に、第１導電型と異なる第２導電型を有する窒化物半導体で形成され、端部に他の部分より厚さが薄い薄膜領域を有する第２半導体層と、薄膜領域以外の第２半導体層の上方の少なくとも一部に形成された上部電極と、を備えるメサ型ダイオードを提供する。 - 特許庁

A feature value class classifying part 233 computes a position relation between a pixel of interest among a group of pixels forming the horizontal waveform of the input image and an edge region included in the waveform as a phase in order to convert the image from the input image to the output image, and classifies the pixel of interest based on the phase.例文帳に追加

特徴量クラス分類部２３３は、入力画像から出力画像に変換するために、入力画像の水平方向の波形を形成している画素群のうちの注目画素と、その波形に含まれるエッジ領域との位置関係を位相として算出し、その位相に基づいて、注目画素をクラス分類する。 - 特許庁

A character feature quantity calculating section 41 of a region separation processing section 24 calculates the degree of edge as a feature quantity from an input image; a dot feature quantity calculating section 42 calculates the degree of complication as a dot feature quantity; and a photograph feature quantity calculating section 43 calculates entropy value as a photographic feature quantity.例文帳に追加

入力画像から文字特徴量としてエッジ度を領域分離処理部２４の文字特徴量算出部４１が算出し、網点特徴量として煩雑度を網点特徴量算出部４２が算出し、写真特徴量としてエントロピー値を写真特徴量算出部４３が算出する。 - 特許庁

Through holes 11 for attaching bolts are arranged in several places in circumferential direction of the flange 10, and cutaways 20 penetrating in the depthwise direction and opened to an outer peripheral edge of the flange 10, are provided in the region between the through holes 11, 11 for attaching bolts next to each other in the circumferential direction.例文帳に追加

前記フランジ１０の周方向数箇所にボルト取付用貫通孔１１が設けられているとともに、周方向で隣り合うボルト取付用貫通孔１１，１１の間の領域に、その厚み方向に貫通するとともにフランジ１０の外周縁に対して開放している切り込み２０が設けられている。 - 特許庁

The first two-dimensional coefficient and a second two-dimensional coefficient calculated by using an interpolation function representing isotropic distribution are synthesized by weighting according to certainty (a reliability z in the interpolation direction) indicating that the peripheral region includes the edge or fine line in the interpolation direction, so that a third two-dimensional coefficient is calculated.例文帳に追加

第１の２次元係数と等方的な分布を示す補間関数を用いて算出される第２の２次元係数とを、周辺領域が補間方向のエッジまたは細線を含むことの確からしさ（補間方向の信頼度ｚ）に応じた重みで合成し、第３の２次元係数を算出する。 - 特許庁

In a cut-off region (10) between the perimeter edge portion and the annular perimeter line of the plurality of printed wiring boards, a wiring pattern recognition mark (4) to specify the position of the wiring pattern when the electronic components (6) are mounted, and a through-hole recognition mark (5) to specify the position of the through-hole are formed at different positions.例文帳に追加

外周縁部と複数のプリント配線板による環状の外周ラインとの間の切断除去領域（１０）には、電子部品（６）を実装する際に配線パターンの位置を特定するための配線パターン認識マーク（４）と、上記スルーホールの位置を特定するスルーホール認識マーク（５）とを異なる位置に形成した。 - 特許庁

The ceramic package includes a ceramic circuit board 1, a semiconductor bare chip 2 mounted on the ceramic circuit board 1, a seal ring land 5 on the ceramic circuit board 1 for enclosing a region on which the semiconductor bare chip 2 is mounted, a seal ring 4 which is ultrasonically welded on the seal ring land 5, and a cover 9 joined to the edge of the seal ring 4.例文帳に追加

セラミック回路基板１と、セラミック回路基板１上に実装された半導体ベアチップ２と、セラミック回路基板１上において半導体ベアチップ２が実装された領域を囲うシールリングランド５と、シールリングランド５に超音波溶接されたシールリング４と、シールリング４の端部に接合されたカバー９とを有する。 - 特許庁

In the coin-shaped electric element, the flat region 21a of the opening edge part 21a in the outer can 21 has a height level in a Z-axis direction of the same or 0.1 [mm] or less in mutual level difference against the exposed part 22a of the cap 22, when the bottom face 21c of the outer can 21 is made a reference.例文帳に追加

コイン形電気素子１では、外装缶２１における開口縁部の平坦領域２１ａが、外装缶２１の底面２１ｃを基準とするときに、キャップ２２の露出部分２２ａに対して、Ｚ軸方向における高さレベルが同一、または互いの段差が０．１［ｍｍ］以下となっている。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a bonded silicon wafer that automatically detects and eliminates a sticking defect such as a void even if there is the bonding defect in a peripheral edge region of the bonded silicon wafer, and to provide a device for manufacturing the bonded silicon wafer that can automatically eliminate the bonding defect.例文帳に追加

貼り合わせシリコンウェーハの周縁領域にボイド等の貼り合わせ欠陥があったとしても、かかる貼り合わせ欠陥を自動的に検出し、消失させることが可能な貼り合わせシリコンウェーハの製造方法及び、貼り合わせ欠陥を自動的に消失可能な貼り合わせシリコンウェーハ製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive composition for exposure with far UV adaptable to exposure in the far UV region using ArF or KrF as a light source, ensuring improved line edge roughness and excellent also in various characteristics as a resist such as resolving power, resist shape and the depth of a focus when a semiconductor device is produced.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、ＡｒＦやＫｒＦを光源とする遠紫外線領域の露光に対応し得、ラインエッジラフネスが改善され、さらに解像力、レジスト形状、焦点深度などのレジスト諸特性にも優れた遠紫外線露光用ポジ型感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

During the unit operation, the ramp mechanism 30 moves to the outer side of the magnetic disk 5 due to the tensile force of the solenoid 50 and does not therefore interfere with fins 33, 34 of the ramp mechanism 30 and the outer peripheral edge 6 of the magnetic disk 5 which cannot be used heretofore can be used as a data recording reproduction region.例文帳に追加

装置動作時は、ランプ機構３０はソレノイド５０の引張力により磁気ディスク５の外側へ移動するため、磁気ヘッド１８はランプ機構３０のフィン３３，３４と干渉することがなく、従来では使用できなかった磁気ディスク５の外周縁部６をデータ記録再生領域として使用することができる。 - 特許庁

To provide a positive-type photosensitive composition for exposure with far-UV, adaptable to exposure in the far UV region with ArF or KrF as a light source in the production of a semiconductor device, ensuring improved line edge roughness and excellent in various characteristics as a resist, such as resolving power, resist shape and the depth of a focus.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、ＡｒＦやＫｒＦを光源とする遠紫外線領域の露光に対応し得、ラインエッジラフネスが改善され、さらに解像力、レジスト形状、焦点深度などのレジスト諸特性にも優れた遠紫外線露光用ポジ型感光性組成物を提供すること。 - 特許庁