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form regionの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 2306



例文

Electrowetting principles are applied to a region of fluid enclosed within an enclosure to form a plurality of liquid lenses.例文帳に追加

本願発明は、エレクトロウェッティングの原理を囲壁の内部に封入されている流体の領域に適用して、複数の液体レンズを形成する。 - 特許庁

A plane type inductor 20 is formed on the annular virtual frame set in the form of surrounding the circuit forming region 30 over its whole periphery.例文帳に追加

回路形成領域30を全周に亘って囲む形で設定した環状の仮想枠の上に平面型インダクタ20が形成される。 - 特許庁

To make a semiconductor element include many channels by changing the form of an active region of the semiconductor substrate before forming a gate electrode.例文帳に追加

本発明は、ゲート電極を形成する以前に半導体基板の活性領域の形態を変化させて多数のチャネルを有するようにする。 - 特許庁

The outer electrode 14 comprises a region in the form of net closely arranged to the outer surface of the outer tube in one side of the double tube 12.例文帳に追加

外部電極14は、二重管12の一方側における外筒管の外面側に近接配置される網目状の領域を含む。 - 特許庁

例文

To form a capacitor in a peripheral circuit region in a semiconductor device having a memory cell and a peripheral circuit without increasing mask processes.例文帳に追加

メモリセルと周辺回路を備えた半導体装置において、周辺回路領域にキャパシタを、マスク工程を増加させることなく形成する。 - 特許庁


例文

A plant cell is transformed by a structural gene in the form of the coding region of a replicase read through part from a phytopathogenic virus genome.例文帳に追加

植物細胞を、植物病原性ウイルスゲノムからのレプリカーゼ読み過ごし部分のコード領域の形の構造遺伝子により、形質転換する。 - 特許庁

Both the ferrite and glass in the impregnated layer 6 are melted under laser irradiation to form a coexistence region, relaxing drop of resistance of the ferrite core 5.例文帳に追加

レーザー照射によって含浸層6のフェライトとガラスが共に溶融して混在領域を形成し、フェライトコア5の抵抗低下を緩和する。 - 特許庁

The semiconductor device includes: a semiconductor substrate with a source region and a drain region formed thereon; a floating gate formed between the source region and the drain region to form a channel based on a programming and an erasing conditions and to control a current flow between the source region and the drain region; and a tunnelling gate to determine the programming and the erasing conditions in the floating gate based on an applied voltage.例文帳に追加

半導体素子は、ソース領域とドレイン領域が形成された半導体基板と、上記ソース領域とドレイン領域との間に形成されてプログラム及び消去状態によってチャネルを形成し、上記ソース領域とドレイン領域との間の電流の流れを制御するフローティングゲートと、印加される電圧によって上記フローティングゲートのプログラム及び消去状態を決定するトンネリングゲートとを含んで構成される。 - 特許庁

To form a uniform image having image density prevented from fluctuating greatly to reduce irregularity in image density when the image is formed in a predetermined region (pixel region) of a recording medium by a plurality of times of scanning by a recording head.例文帳に追加

記録ヘッドの複数回の走査によって記録媒体の所定領域(画素領域)に画像を形成するにあたり、画像濃度が大きく変化せず濃度むらを軽減した均一な画像を形成する。 - 特許庁

例文

In the defect detecting test of this form, the magnetic disk is divided into two, and a different adjacent data track is selected as the adjacent data track performing write-in in a region of the inner peripheral side and a region of the outer peripheral side.例文帳に追加

本形態の欠陥検出テストは、磁気ディスクの記録面を二分し、内周側の領域と外周側の領域において、書き込みを行う隣接データ・トラックとして異なる隣接データ・トラックを選択する。 - 特許庁

例文

A sample is moved such that an electron beam can be scanned for each partition, in which the sample has been virtually partitioned in a lattice form, by making a region where an image in a scanned region of the electron beam is taken in, a unit.例文帳に追加

電子ビームの走査領域中の画像を取り込む領域を単位として試料を仮想的に格子状に区画した各区画に対して電子ビームの走査が行われるように試料が移動される。 - 特許庁

To more effectively suppress Barkhausen noise by expanding an abutted junction region and to stably form the abutted junction region, without being affected by a forming process and the like, in a spin valve head.例文帳に追加

スピンバルブヘッドにおいて、アバテッドジャンクション領域を広げてバルクハウゼンノイズをより効率よく抑制し、また、アバテッドジャンクション領域を形成プロセスなどの影響を受けることなく安定に形成できるようにすること。 - 特許庁

To provide a CVD apparatus which prevents a source gas supplied to a growing region from intruding into a preheating region, and can form a superconductive thin film having a homogeneous and stable composition, and to provide a method for forming the superconductive thin film.例文帳に追加

成長領域に供給された原料ガスが予熱領域へ侵入するのを防ぎ、均質で安定した組成の超電導薄膜を成膜可能なCVD装置、及びその成膜方法を提供する。 - 特許庁

To attain inexpensive mounting of an IC (Integrated Circuit) chip onto a wiring substrate in case of mixed presence of a region including an adhered part having a complicated form of the IC chip to the wiring substrate and a region with terminals disposed at narrow pitches.例文帳に追加

ICチップと配線基板との接着部分が複雑な形状になる領域と端子間のピッチが狭小化した領域とが混在するときにICチップの配線基板への実装を低コストで行う。 - 特許庁

In this color plasma display panel, two glass substrates 101, 102 are stuck together separated with first gap (a), and the peripheries of the stuck parts are so sealed as to form a sealed region (the inside region of 303).例文帳に追加

本発明のカラープラズマディスプレイパネルは、2枚のガラス基板(101,201)が第1の間隔aを隔てて張合わされ、張合わされた周辺部は封止領域(303の内部領域)を形成する様に封着される。 - 特許庁

By making a distribution of an adhesive force in a bonded region 111 between an inner wall 102 and an outer wall 101, the inner wall 102 is continuously separated from the outer wall 101 along with the discharge- out of ink to form a non-bonded region 110.例文帳に追加

内壁102と外壁101との接着領域111の接着力に分布を持たせることで、インクの導出に伴い連続的に内壁と外壁を剥離させ、非接着領域110を形成する。 - 特許庁

A granular infill material 22 is applied to a depth which covers the ribbons in the first region, but leaves tips of the ribbons of the second region visible to form court markings of a contracting color to the infill material.例文帳に追加

粒状充填材料22は、第1の領域のリボンを覆う深さまで施されるが、第2の領域のリボンの先端を可視であるように残して、充填材料に対比的な色のコートマークを形成するようにする。 - 特許庁

To achieve a fin type semiconductor device of N-type having a desired characteristics by introducing an N-type impurity into a side surface of a fin type semiconductor region to form an impurity region with low resistance.例文帳に追加

フィン型半導体領域の側面にN型不純物を導入して低抵抗の不純物領域を形成できるようにし、それによって、所望の特性を持つN型のフィン型半導体装置を実現する。 - 特許庁

In a process for forming a field-effect transistor on a single-crystal semiconductor substrate, impurity is introduced to form an extension region and a single crystal lattice is broken to make the extension region amorphous.例文帳に追加

単結晶半導体基板上に形成された電界効果トランジスタの作成過程において、エクステンション領域を形成するために不純物を導入するとともに、単結晶格子を崩してアモルファス化させる。 - 特許庁

To form a uniform image having image density prevented from fluctuating to avoid fluctuation in image density when the image is formed on a predetermined region (the pixel region) of a recording medium by a plurality of times of scanning by a recording head.例文帳に追加

記録ヘッドの複数回の走査によって記録媒体の所定領域(画素領域)に画像を形成するにあたり、画像濃度が大きく変化せず濃度むらを軽減した均一な画像を形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a static pressure air bearing type linear guide wherein a hollow region is defined with simpler procedures by using no mold for forming a hollow region in order to form a hollow structure, and to provide a guide.例文帳に追加

中空構造を形成するのに中空域成形のための型に頼らないで、より簡単な手順で中空域を形成する静圧空気軸受式直線案内用ガイドの製造方法およびガイドを提供する。 - 特許庁

Subsequently, a p-type impurity is introduced below the n-type extension region 113 on the substrate 101 by taking at least the gate electrode 111a as a mask to form a p-type pocket region 114.例文帳に追加

続いて、少なくともゲート電極111aをマスクとして、基板101におけるN型イクステンション領域113の下にP型不純物を導入することにより、P型ポケット領域114を形成する。 - 特許庁

Profile lines of regions near the fine constricted part 4 in the first magnetic region 2 and the second magnetic region 3 form an angle less than 90° taking the fine constricted part 4 as an apex.例文帳に追加

第1の磁性領域2及び第2の磁性領域3における微小くびれ部4近傍の区域の外形線は、それぞれ、微小くびれ部4を頂点として90°以下の角度をなすように形成される。 - 特許庁

After the pad oxide film 2 and the silicon nitride film 3, in such a region as an element isolation region is formed, are removed, the pad oxide film 2 and the silicon nitride film 3 are used as an etching-resistant mask to form a groove part on the silicon substrate 1.例文帳に追加

次に、素子分離領域を形成する領域のパッド酸化膜2及びシリコン窒化膜3を除去した後、パッド酸化膜2及びシリコン窒化膜3を耐エッチングマスクに用いて、シリコン基板1に溝部を形成する。 - 特許庁

N-type impurities 6 are introduced into a depth of the surface layer of the P-type region 5 by ion implantation, using the pattern 3 as a mask to form an electric charge transfer region 7 of a vertical register on the surface side of the substrate 1.例文帳に追加

パターン3をマスクにしたイオン注入によって、P型領域5の表面層になる深さにN型不純物6を導入し、基板1の表面側に垂直レジスタの電荷転送領域7を形成する。 - 特許庁

To precisely form a gate insulating film when a region where a semiconductor film of SiGe etc., is formed and a region where a gate insulating film comprising a silicon oxide film is formed are formed on the same substrate.例文帳に追加

SiGe等の半導体膜が形成された領域と、酸化シリコン膜から成るゲート絶縁膜が形成された領域とが同一基板上に形成される際に、ゲート絶縁膜を精度良く形成する。 - 特許庁

Further, the CPU 10 reads data of the first composite image via the external I/F 14 to detect the region with which the pattern is composed and composes a second pattern with the detected region to form a second composite image.例文帳に追加

また、CPU10は、外部I/F14を経て第1合成画像のデータを読み込み、パターンが合成された領域を検出し、この検出された領域に第2のパターンを合成し、第2の合成画像を形成する。 - 特許庁

To flexibly set a program to be performed corresponding to a file storage region matched with the utilization form of the file storage region by a user in an information processor provided with a file storage part.例文帳に追加

ファイル記憶部を備えた情報処理装置において、ユーザによるファイル記憶領域の利用態様に合わせて、柔軟に、ファイル記憶領域に対応して実行されるプログラムの設定を行なえるようにする。 - 特許庁

An optical modulator 1A has isolation electrodes 2a, 2b and 2c, isolation electrodes 3a, 3b and 3c and conductive region 8 to form a modulation region on optical waveguides 5a and 5b on a substrate 1.例文帳に追加

光変調器1Aは、基板1上に光導波路5a及び5bに変調領域を形成するための分離電極2a,2b及び2cと分離電極3a,3b及び3cと並びに導電領域8とを有する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which can keep its active element forming region clean in the case of conducting heat treatment form a well in the active element forming region in a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板における能動素子の形成領域にウェルを形成するための熱処理の際に、その能動素子形成領域を清浄に保つことができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A clock driver forming region 3 is arranged so as to form clock drivers overlapping with a ring wiring 1 and a mesh wiring 2 arranged extending over a semiconductor substrate region in a plane view.例文帳に追加

半導体基板領域上にわたって延在して配置されるリング配線(1)およびメッシュ配線(2)と平面図的に見て重なり合うようにクロックドライバを形成するクロックドライバ形成領域(3)を配置する。 - 特許庁

The method includes: providing a base metal having a feature; removing the feature to form a processed region; applying a first layer to the processed region; and applying a second layer to the first layer.例文帳に追加

この方法は、ある特徴を有する基材金属を準備し、特徴を除去して加工処理領域を形成し、第1の層を前記加工処理領域に適用し、第2の層を第1の層に適用することを含む。 - 特許庁

Then an amorphous alloy 4 having a supercooling liquid temperature region is pressed to the rugged surface of the silicon substrate 1 while holding the amorphous alloy 4 in the supercooling liquid temperature region to form a molded transfer surface S1 on the amorphous alloy 4.例文帳に追加

そして、過冷却液体温度域を有するアモルファス合金4を過冷却液体温度域に保ちつつシリコン基板1の凹凸面に押圧し、アモルファス合金4に成型転写面S1を形成する。 - 特許庁

According to the method, when the pouring of the mixture of the hardener and the earth is carried out by moving the pouring apparatus, the mixture 2 transported in the form of the plug flow is directly poured through the same pouring conduit system in a region more forward than a region to which the pouring device is moved.例文帳に追加

打設装置を移動しながら打設する際に、同一の打設管路系統において打設装置を次に移動する区域より前方の区域にプラグ流で輸送される固化材と土の混練物2を直接打設する。 - 特許庁

Moreover, part of the outer circumferential side of the current constriction layer 31 is oxidized to form an oxidation region 31a and the area of a current constriction region 31b surrounded by the oxidation region 31a is formed gradually smaller from the DBR layer 22 toward the active layer 21.例文帳に追加

そして、電流狭窄層31の外周側の一部を酸化させて酸化領域31aとするとともに、酸化領域31aで囲まれる電流狭窄領域31bの面積がDBR層22側から活性層21側に向けて徐々に小さくなるようにする。 - 特許庁

A current is supplied to the nanotube 1 between the second electrode 4 and the electrode 6 to heat the nanotube, so that adsorbed oxygens are desorpted from the nanotube to convert that heated region of the nanotube to an n type and to form a pn junction between the n type region and the not-conducted p type region 1 (Figure (c)).例文帳に追加

第2の電極4と通電加熱用電極6との間のp型カーボンナノチューブ1に通電して加熱し、吸着されていた酸素を脱着させ、この領域のカーボンナノチューブをn型化し、通電されずp型のままの領域1との間にpn接合を形成する(図1(c))。 - 特許庁

A p^+ region 89 is formed within a source neighborhood p-type region 83 in an n-well 33 and then arsenic is injected into a shallow substrate surface in the p^+ region 89 by applying an ion implantation method using a ring-shaped gate electrode 35 as a mask to form a surface n^+ layer 90.例文帳に追加

nウェル33中のソース近傍p型領域83内にp^+領域89を形成した後、リング状ゲート電極35をマスクとしたイオン注入法を適用して、p^+領域89中の浅い基板表面にひ素を注入して、表面n^+層90を形成する。 - 特許庁

After a wettability pattern comprising a high wettability region which is high in wettability relative to an ink for a conductive film and a low wettability region having low wettability is formed on a substrate, the ink for the conductive film is coated by an ink jet system to form the conductive film on the high wettability region.例文帳に追加

基板の上に、導電膜用インクに対する濡れ性が高い高濡れ性領域と、濡れ性が低い低濡れ性領域とからなる濡れ性パターンを形成した後、インクジェット方式によって導電膜用インクを塗布して高濡れ性領域の上に導電膜を形成する。 - 特許庁

This transferring method for the element comprises: a light irradiation step for selectively irradiating an adhesive agent layer with light to form an adhesive region and a non-adhesive region; and a transfer step for selectively transferring the element transferred to the adhesive region.例文帳に追加

本発明の素子転写方法は、接着剤層に光を選択的に照射して接着領域と非接着領域とを形成する光照射工程と、転写対象となる素子を前記接着領域に選択的に転写する転写工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

After that, a negative pressure is applied into the contaminated soil/groundwater region 5 using the vacuum pump 27 to pump up groundwater, and predetermined fluid is watered in the contaminated soil/groundwater region 5 from the water supply tank 9 to form a plurality of water circulation flows in the contaminated soil/groundwater region 5.例文帳に追加

その後、真空ポンプ27を用いて汚染土壌・地下水領域5内に負圧をかけて地下水を揚水すると同時に、給水槽9から汚染土壌・地下水領域5内に所定の流体を注水し、汚染土壌・地下水領域5内に複数の水循環の流れを形成する。 - 特許庁

Subsequently, the sacrifice layer 2 which is a silicon oxide layer, a silicon layer 3, an insulating layer 4 which is a silicon oxide layer and a silicon layer 5 are sequentially formed, a high carrier region is formed in the silicon layer 5, and a high carrier region 5a of a region to form a diaphragm D is insulated and separated from the other regions (a).例文帳に追加

次に酸化シリコン層である犠牲層2、シリコン層3、酸化シリコン層である絶縁層4、シリコン層5を順次形成し、シリコン層5には高キャリア領域を形成し、ダイヤフラムDを形成すべき領域の高キャリア領域5aは他の領域と絶縁分離する(a)。 - 特許庁

An impurity is then injected in the logical region covering the DRAM region on a substrate and exposed with an opening for at least partly exposing the logical region to form source and a rain extended parts 135 and 136 of the logical device, and then a mask is removed from the substrate.例文帳に追加

次に、基板上のDRAM領域を覆い、論理領域の少なくとも一部が露出する開口部を有露出している論理領域に不純物を注入して、論理デバイスのソースおよびドレインの延長部135、136を形成した後に基板からマスクを除去する。 - 特許庁

An insulating layer 14 and a gate electrode 15 are formed on the layer 13 and impurities are introduced in the layer 13 using this gate electrode 15 as a mask to form a channel region 13a, a source region 13b and a drain region 13c in the layer 13 in a self-alignment manner.例文帳に追加

多結晶シリコン層13の上に絶縁層14,ゲート電極15を形成し、このゲート電極15をマスクとして多結晶シリコン層13に不純物を導入して、チャネル領域13a,ソース領域13bおよびドレイン領域13cを自己整合的に形成する。 - 特許庁

Further, the interferometer includes a shielding member 106 for shielding the measuring beam to form a non-interference region not interfering the reference beams having the second luminance and a CCD camera 111 for imaging an interference region formed by synthesized beams and the non-interference region.例文帳に追加

さらに、干渉計は、第2の輝度とした参照光と干渉しない非干渉領域を形成するように測定光を遮光する遮光部材106と、合成光により形成される干渉領域及び非干渉領域を撮像するCCDカメラ111とを備える。 - 特許庁

To correct the extraction region, the processing object graphic form and the computed feature quantity are used to compute the candidate of the moving quantity on how much the extraction region of range data should be deformed, and the moving quantity is determined from the computed candidate of the moving quantity to correct the extraction region.例文帳に追加

抽出領域の補正は、前記手段にて算出された特徴量及び処理対象図形を利用して、レンジデータの抽出領域をどのくらい変形させればよいかの移動量の侯補を算出し、算出された移動量の侯補から移動量を決定することで行われる。 - 特許庁

An island-like semiconductor region on an insulating surface is scanned by a laser beam, having a wavelength of 1,064 nm that is continuously oscillated for crystallizing the island-like semiconductor region, and the crystallized island-like semiconductor region is used to form an active layer.例文帳に追加

絶縁表面上の島状半導体領域に連続発振された波長1064nmのレーザー光を走査しながら照射して該島状半導体領域を結晶化し、該結晶化された島状半導体領域を用いて活性層を形成することを特徴とする。 - 特許庁

The LOD structure 26 having the drain region 40 discharging electric signal charges of an N well 36 accumulating signal electric charges and the barrier region 42 disposed between the N well 36 and drain region 40 to form a potential barrier is formed adjacently to the N well 36.例文帳に追加

信号電荷を蓄積するNウェル36に隣接して、Nウェル36の信号電荷を排出するドレイン領域40と、Nウェル36とドレイン領域40との間に位置し電位障壁を形成するバリア領域42とを有するLOD構造26が設けられる。 - 特許庁

To ensure to form a buried layer with superior flatness having sufficient thickness even in a region at more than a given distance away from a step region, while suppressing photographic fog growth in the step region, thereby facilitating subsequent processes and achieving improved yield.例文帳に追加

段差領域における被り成長を抑制しながら、段差領域から一定の距離以上離れた領域でも十分な厚さを有する平坦性の良い埋込層が形成されるようにして、その後のプロセスを容易にし、歩留まりを良くすることができるようにする。 - 特許庁

Also, a display region HR can be illuminated by the light emitted from the light-emitting element 300 disposed at each opening KB, in such a way that regions having almost the same length W as a surface region in the Y direction and having predetermined intervals L in X direction form one illuminated region.例文帳に追加

また、開口部KB毎に配置した発光素子300の発光光によって、Y方向が面領域とほぼ同じ長さWで、X方向が所定の間隔Lを有する領域を、一つの照明領域として表示領域HRを照明することができる。 - 特許庁

例文

To avoid the distortion of a semiconductor element pattern due to flares by sectioning a mask in a test pattern region and a chip pattern region and setting a fine pattern having a line width small enough to form no pattern in exposure on the test pattern region.例文帳に追加

本発明は半導体素子の微細パターン形成方法に関し、さらに詳しくは、マスク開口領域を縮小しフレア効果を減少させることにより、望むパターンを歪みなく転写させ得るようにした半導体素子の微細パターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁




  
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