「formation process」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

This tissue sample formation method comprises a mixing process (step S101) for producing a mixture of powder and resin and a pressurizing process (step S102) for applying a pressure to the mixture to turn it into a thin piece.例文帳に追加

粉体と樹脂との混合体を得る混合工程（ステップＳ１０１）と、この混合体に圧力を付与して薄片化する加圧工程（ステップＳ１０２）とを備えるようにした。 - 特許庁

To provide a pattern forming method which allows pattern formation without developing process, is improved with respect to the problem due to rubbing process and the like, and is most suitable for a liquid crystal alignment film or the like.例文帳に追加

現像処理を行うことなくパターン形成ができ、また、ラビング処理等による問題も改善され、液晶配向膜等に最適なパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

In the wafer after formation of a semiconductor circuit, the grinding or polishing surface of a semiconductor wafer activated with the grinding or polishing process is inactivated by the inactivation process.例文帳に追加

半導体回路が形成された後のウエハにおいて、研削または研磨工程によって活性化された半導体ウエハの研削または研磨面を不活性化処理することを特徴とする。 - 特許庁

Only upon the formation of the dielectric multilayer film 43A, a masking process of applying a shielding material onto the incident light passage region 51 and a process of removing the shielding material are performed.例文帳に追加

誘電体多層膜４３Ａの成膜時にのみ、入射光通過領域５１に遮蔽材料を塗布するマスキング工程とその遮蔽材料を除去する工程を行えばよい。 - 特許庁

Also, in the method of manufacturing the solid electrolytic capacitor, a process for providing the paste layer containing flame retardant powder and manganese dioxide powder is included in the formation process of the solid electrolyte layer.例文帳に追加

また、固体電解質層形成工程中に、難燃剤の粉末と二酸化マンガンの粉末を含むぺースト層を設ける工程を設ける固体電解コンデンサの製造方法である。 - 特許庁

After the formation process, a crystal vibrating piece 2 is arranged at a prescribed position on the base 3, and a conductive adhesive 8 is used for holding the crystal vibrating piece 2 on the base 3 (holding process).例文帳に追加

形成工程の後に、ベース３の所定の位置に水晶振動片２を配し、導電性接着剤８を用いてベース３に水晶振動片２を保持する（保持工程）。 - 特許庁

In an insulating film formation process, an insulating film 601 is formed in the trench 102 to which the n-type dopant is implanted by the implantation process by using a viscous insulating application material.例文帳に追加

絶縁膜形成工程は、注入工程によってｎ型不純物が注入されたトレンチ１０２内部に、粘性の絶縁塗布材料を用いて絶縁膜６０１を形成する。 - 特許庁

In a next flock formation process, a state of easy flocculation and settledability of flocks is generated by loading the flocculant into water through the pre-treatment process, and then the flock is separated and settled in a flock settling process.例文帳に追加

次のフロック形成工程において、前処理工程を経た水に凝集剤を投与してフロックを形成しかつフロックが沈殿し易い状態を生成した後、フロック沈殿工程において、フロックを分離して沈殿させる。 - 特許庁

Accordingly, at the time of a semiconductor device manufacturing process such as an STI device separation process or a capacitor formation process, only an oxide film can be selectively eliminated in a situation where a nitride film or a polysilicon film is exposed together with the oxide film.例文帳に追加

これにより、ＳＴＩ素子分離工程またはキャパシタ形成工程のような半導体素子の製造工程時、窒化膜またはポリシリコン膜が酸化膜と同時に露出されている状態で、酸化膜のみを選択的に除去できる。 - 特許庁

The solid electrolytic capacitor is manufactured by performing an element formation process for forming a capacitor element 4 in which formed positive electrode foil 1 and negative electrode foil 3 are wound via a separator 2, and a conductive polymer formation process for holding a conductive polymer in the separator 2.例文帳に追加

化成済みの陽極箔１と陰極箔３とがセパレータ２を介して巻回されたコンデンサ素子４を形成する素子形成工程と、セパレータ２に導電性高分子を保持させる導電性高分子形成工程とを行い、固体電解コンデンサを製造する。 - 特許庁

In a hole part formation process in a process (1), a mask layer 3 is formed in an in-face predetermined area on the main surface of a substrate 1 so that a residual area except the formation area of the mask layer 3 can be formed with a plurality of holes 4 whose upper parts are opened.例文帳に追加

工程（１）の孔部形成工程にて、基板１の主表面上における面内の所定領域にマスク層３を形成することにより、マスク層３の形成領域を除く残余領域に、上部が開口した複数の孔部４を形成する。 - 特許庁

In a process cartridge used in an image formation device, a digital certificate with identification information of a device using the cartridge described is previously stored; and a controller of the image formation device authenticates the process cartridge by using the digital certificate in startup (S2).例文帳に追加

画像形成装置において使用するプロセスカートリッジに、そのカートリッジを使用する装置の識別情報を記載したデジタル証明書を記憶させておき、画像形成装置のコントローラが、起動時にそのデジタル証明書を用いてプロセスカートリッジを認証する（Ｓ２）。 - 特許庁

To perform dust-free high-quality image formation which is sufficiently applicable to a cleaner-less process, and to perform dust-free high-quality image formation which ensures good transfer efficiency, prevents reverse transferring and color mixture resulting from the reverse transferring, and is sufficiently applicable to a cleaner-less process.例文帳に追加

クリーナレスプロセスにも十分対応し得るちりのない高画質な画像形成を行い、及び転写効率が良好で，逆転写及びこれによる混色を防止し、クリーナレスプロセスにも十分対応し得るちりのない高画質なカラー画像形成を行う。 - 特許庁

It also includes a hole formation process wherein a hole 11a reaching deep in the semiconductor substrate 10 is formed from the surface RS of the semiconductor substrate 10 using the LOCOS oxide film 12 formed in the interlayer film formation process as an etching mask.例文帳に追加

孔形成工程では、層間膜形成工程にて形成されたＬＯＣＯＳ酸化膜１２をエッチングマスクとして利用して、半導体基板１０の表面ＲＳから該半導体基板１０の深層に至る孔１１ａを形成する孔形成工程を備える。 - 特許庁

Then, in a photolithographical process, element isolation formation of the thin film semiconductor layer and formation of video signal wiring and a drain electrode are conducted simultaneously by a single photolithographical process by using a photomask capable of modulating the quantity of exposed light of a channel area of a thin film transistor element.例文帳に追加

その後、ホトリソグラフィー工程で、薄膜トランジスタ素子のチャネル領域の露光光量を変調可能なホトマスクを用いて、薄膜半導体層の素子分離形成と映像信号配線とドレイン電極の形成を１回のホトリソグラフィー工程で同時に形成する。 - 特許庁

In the method for manufacturing an optical information recording medium in which a first disk having a recording layer and a second disk for covering are laminated, in the substrate formation process of the second disk, a substrate is formed at a mold temperature higher than that in the substrate formation process of the first disk.例文帳に追加

記録層を備える第１ディスクと、カバー用の第２ディスクとを貼り合わせる光情報記録媒体の製造方法において、第２ディスクの基板形成工程では、第１ディスクの基板形成工程よりも高い金型温度で基板を形成する。 - 特許庁

Decision is made by a sheet type decision means of whether the sheet stored in a sheet storing part 7 is the sheet 3 appropriate for image formation in the electrophotographic process part 4 or a reversible thermal recording sheet 5 appropriate for image formation in the rewritable process part 6.例文帳に追加

シート収納部７に収納されているシートが電子写真プロセス部４での画像形成に適した記録シート３であるか、又は、リライタブルプロセス部６での画像形成に適した可逆性感熱記録シート５であるかを、シート種類判断手段で判断する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device having a structure for stabilizing a high-speed lifting-lowering annealing process after the formation of a gate in the formation of a transistor element, and to provide a manufacturing method for the semiconductor device.例文帳に追加

トランジスタ素子形成におけるゲート部形成後に行われる高速昇降アニール工程の安定化を図るための構造を有する半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

And the additional image is formed on the rear surface of the backing paper (step S18), and a process necessary for charge for the image formation on the rear surface is performed (step S19), but, charging for the image formation on the rear surface is not performed.例文帳に追加

そして、裏面に付加画像を形成し（ステップＳ１８）、この裏面の画像形成に対して課金のために必要な処理を行う（ステップＳ１９）が、この裏面の画像形成には課金しない。 - 特許庁

After the formation of the ferrite film is completed, the pH adjuster and organic acid contained in the process fluid used for the formation of the ferrite film are decomposed using a decomposition device to which an oxidizer is supplied.例文帳に追加

フェライト皮膜の形成終了後、フェライト皮膜の形成に使用した処理液に含まれているｐＨ調整剤及び有機酸を、酸化剤が供給される分解装置を用いて分解する。 - 特許庁

To normally perform image formation processing even if a power supply voltage of a sub control part abnormally varies when a series of the image formation process is carried out by using a main control part and the sub control part.例文帳に追加

主制御部と副制御部を用いて一連の画像形成処理を行う場合に、副制御部の電源電圧が異常に変動したとしても、正常に画像形成処理を行えるようにする。 - 特許庁

A first defective image formation element compensation process is performed (308) for portions of the image data (120) that are associated with a first predetermined number or fewer adjacent defective image formation elements (30).例文帳に追加

第１の所定数のまたはそれより少ない数の隣接する欠陥画像形成素子(30)に関連する画像データ(120)の部分に対して、第１の欠陥画像形成素子補償処理が実施される(308)。 - 特許庁

A different second defective image formation element compensation process is performed (310) for portions of the image data (120) that are associated with a second predetermined number or more adjacent defective image formation elements (30).例文帳に追加

第２の所定数のまたはそれより多い数の隣接する欠陥画像形成素子(30)に関連する画像データ(120)の部分に対して、別の第２の欠陥画像形成素子補償処理が実施される(310)。 - 特許庁

In a compound formation process after a wafer 21 is fractured, a semiconductor substrate 21 fractured into semiconductor chips 22 is arranged in a chamber for compound formation while pasted to a sheet 41.例文帳に追加

ウェハ２１を割断した後の化合物形成工程では、半導体チップ２２に割断した後の半導体基板２１をシート４１に貼り付けた状態で化合物形成を行うチャンバー内に配置する。 - 特許庁

To provide an image formation system capable of directly, simply, and accurately forming a structure containing a liquid resin adhesive on a substrate and shorten a process at the time of the formation.例文帳に追加

基板上に液状樹脂接着剤を含む構造体をダイレクトに、かつ簡単に、しかも高精度に形成することができ、その際のプロセスを短時間化することができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

An Sr poor SRO film 15 is formed in a barrier metal film side alone by making a film formation temperature in the first half of a film formation process of a SRO film as a lower capacitor electrode than that in the latter half.例文帳に追加

下部キャパシタ電極としてのＳＲＯ膜の成膜工程の前半の成膜温度を後半のそれよりも高くして、バリアメタル膜側でのみＳｒプアーなＳＲＯ膜１５を形成する。 - 特許庁

To provide an image formation device and the ink ejection method of the image formation device which can maintain the quality of a print image regardless of the variance on the assembly process of two or more head chips.例文帳に追加

複数のヘッドチップの組立工程上の偏差と無関係に印刷画像の品質を保持することが可能な画像形成装置および画像形成装置のインク噴射方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate for superconductive film formation in which there is no peeling-off between formed films in a film-forming process, or a heat treatment after film formation, a superconductive wire rod, and a method for manufacturing them.例文帳に追加

成膜過程、又は成膜終了後の熱処理において、成膜した膜間に剥離が生じない超電導膜成膜用基板、超電導線材、及びそれらの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device which can reduce the number of processes until a through-hole formation process after gate electrode formation and can reduce a manufacturing cost of a semiconductor device.例文帳に追加

ゲート電極形成後のスルーホール形成工程までの工程数を削減することができ、半導体装置作製のコストを低減することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Subsequently, portions 50 of slot formation regions in a steel plate corresponding to the opposite ends of a permanent magnet are punched simultaneously for all slot formation regions (opposite ends punching process).例文帳に追加

その後、鋼板における各スロット形成予定領域のうちの永久磁石の両端部分に対応する部分５０を、全てのスロット形成予定領域について同時に打ち抜く（両端部分打抜工程）。 - 特許庁

To provide a heterojunction bipolar transistor having a structure showing a good property without requiring any special wiring formation process such as an air bridge or the like in an HBT in which a mesa formation is performed by a dry etching.例文帳に追加

ドライエッチングによりメサ形成を行ったＨＢＴにおいて、エアブリッジなどの特別な配線形成工程を必要とせず、良好な特性を示す構造のヘテロ接合バイポーラトランジスタを提供する。 - 特許庁

Portions 40 of slot formation regions in a steel plate corresponding to the central part of a permanent magnet are punched simultaneously for all slot formation regions (central part punching process).例文帳に追加

鋼板における各スロット形成予定領域のうちの永久磁石の中央部分に対応する部分４０を、全てのスロット形成予定領域について同時に打ち抜く（中央部分打抜工程）。 - 特許庁

The manufacturing method of a multilayer wiring substrate comprises a bump forming process of forming bumps for interlayer connection on a substrate, an insulating layer formation process of forming an insulating layer on the substrate, wherein the bumps are formed, a thermocompression bonding process for bonding copper foil by thermocompression on an insulating layer, and a patterning process of patterning copper foil.例文帳に追加

基材上に層間接続のためのバンプを形成するバンプ形成工程と、バンプが形成された基材上に絶縁層を形成する絶縁層形成工程と、絶縁層上に銅箔を熱圧着する熱圧着工程と、銅箔をパターニングするパターニング工程とを有する。 - 特許庁

The upper layer after the pattern formation is used as a mask for the optical ozone ashing of the lower layer and then a peeling process for the upper layer, a conductive film forming process, an electroforming process, a peeling process for an electroformed film (stamper layer 12), and a specific postprocess for the electroformed film are carried out to obtain a desired original disk.例文帳に追加

パターン形成後の上層をマスクとして下層を光オゾンアッシングし、その後、上層の剥離工程、導電膜形成工程、電鋳工程、電鋳膜（スタンパ層１２）の剥離工程および、この電鋳膜に対する所定の後処理工程を経て所望の原盤を得る。 - 特許庁

Since the power-collecting line can be formed by an application process for forming a photoresist agent layer P1, a plating process for forming the power-collecting line 3, and a separation process for separating the remaining photoresist agent layer P1, the formation of the power-collecting line 3 can be executed by a simple process and work.例文帳に追加

フォトレジスト剤層Ｐ１を形成する塗布工程、集電線３を形成するめっき工程及び残ったフォトレジスト剤層Ｐ１をはく離するはく離工程により形成可能となることから、集電線３の形成を極めて簡便な工程及び作業で行うことができる。 - 特許庁

The heating section preparation process includes a heat insulating material provision process of preparing a heat insulating material, a flattered film formation process of forming a flattered film with a flat surface on the heat insulating material, and a heating section forming process of forming a heating section for generating heat by turning on electricity on the flattered film.例文帳に追加

加熱部準備工程は、断熱材を準備する断熱材準備工程と、断熱材上に、表面が平坦な平坦化膜を形成する平坦化膜形成工程と、平坦化膜上に、通電により発熱する加熱部を形成する加熱部形成工程とを含む。 - 特許庁

The magnetostrictive torque sensor manufacturing method comprises: a magnetostrictive film formation process P1 for forming magnetostrictive films 14A, 14B on a rotating shaft 11 of a magnetostrictive torque sensor; a magnetic anisotropy addition process P2 for adding magnetic anisotropy MM to the magnetostrictive films formed in the magnetostrictive film formation process P1; and a demagnetization process P32 for demagnetizing the rotating shaft 11.例文帳に追加

この磁歪式トルクセンサの製造方法は、磁歪式トルクセンサの回転軸１１に磁歪膜１４Ａ，１４Ｂを形成する磁歪膜形成工程Ｐ１と、この磁歪膜形成工程Ｐ１で形成された磁歪膜に磁気異方性ＭＭを付加する磁気異方性付加工程Ｐ２と、上記の回転軸１１を消磁する消磁工程Ｐ３２とを有するように構成される。 - 特許庁

To provide a formation method of a display panel member capable of reducing mixing between a dielectric formation material layer and a barrier rib formation material layer, and simplifying a process, and a transfer film capable of forming a member excelling in an aspect ratio and a pattern shape.例文帳に追加

誘電体形成材料層と隔壁形成材料層との間のミキシングを低減させ、かつ、工程を簡略化することができるディスプレイパネル部材の形成方法、並びにアスペクト比及びパターン形状に優れた部材を形成可能な転写フィルムの提供。 - 特許庁

To provide a short-arc type discharge lamp capable of preventing formation of a crack on a sealing tube or the like at the time of natural cooling after a foil sealing process.例文帳に追加

箔シール工程後の自然冷却時において、封止管などにクラックが入ることのないショートアーク型放電ランプを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a plasma display panel that enables sure detection of barrier rib cracks, in an inspection process after the formation of the barrier rib.例文帳に追加

隔壁形成後の検査工程で確実に隔壁クラックが検出できるようにしたプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for the formation of a pattern onto a panel substrate, where a process is simple and a fine pattern is formed with satisfactory accuracy.例文帳に追加

工程が簡単で、しかも微細パターン形成の精度も良い、パネル基材へのパターン形成方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To prevent the abnormal growth of a film generated in a film formation process after plasma treatment for improving an adhesion with a foundation film.例文帳に追加

下地膜との密着性を上げるためのプラズマ処理後に行われる成膜過程において発生する膜の異常成長を防止する。 - 特許庁

To efficiently manufacture an optical disk, including an operation for attaching and detaching masks within a vacuum vessel before and after a sputtering film formation process.例文帳に追加

スパッタ成膜工程の前後にマスクの着脱を真空容器内で行なう操作を含めて効率よく光ディスクを製造する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a silicon wafer which performs BMD formation in the inside by a heating process at shorter time and lower temperature than before.例文帳に追加

従来よりも短時間かつ低温の熱処理で内部でのＢＭＤ形成を行うシリコンウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁

A process of creating the gate structure for each of the two transistors allows formation of oxide layers of different thickness between the two transistors.例文帳に追加

２つのトランジスタのそれぞれにゲート構造を形成するプロセスにより、２つのトランジスタ間で異なる厚さの酸化物層が形成される。 - 特許庁