「formation process」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

This aperture may be a hole to be used as a connection hole in a process subsequent to the formation of the aperture 18 or may be a groove to be a metal embedded wiring groove.例文帳に追加

この開口は、その後の工程で、接続孔となるべき孔であっても、また、金属埋込配線になるべき溝であってもよい。 - 特許庁

To provide a process for producing an olefin polymer having a wide molecular-weight distribution without accompanying the polymer adhesion to the wall of a polymerization reactor and also the cake formation.例文帳に追加

重合容器壁へのポリマー付着および塊体形成を伴わず、広い分子量分布を有するオレフィン重合体を製造する。 - 特許庁

To provide a turbo blood pump having a simple housing structure capable of effectively avoiding formation of a thrombus while avoiding complication of the manufacturing process.例文帳に追加

血栓の形成を効果的に回避可能な構成を有し、しかも、製造工程の煩雑さを回避可能な簡潔なハウジング構造とする。 - 特許庁

To provide a laminated sheet able of preventing blemish formation on its adhesive sheet when rolled up, and a manufacturing process thereof.例文帳に追加

巻取体としたときに、接着シートに欠点が形成されることを防止することのできる積層シートおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a cap which improves the sealing performance of a container by preventing the formation of an imperfect mold portion in the process of molding a synthetic resin liner.例文帳に追加

合成樹脂製ライナーの成形時に不完全成形部分の形成を防止して、容器の密封性を向上したキャップを提供すること。 - 特許庁

An image formation process has two operation modes, i.e., a tile image transfer mode and a raster image output mode, which can be switched by software.例文帳に追加

画像形成処理は、タイル画像転送モード、および、ラスタ画像出力モードの２つの動作モードを有し、ソフトウェアによる切替を可能とする。 - 特許庁

To provide a process unit and an image forming apparatus by which displacement of a reflecting mirror and an image carrier is suppressed and highly precise image formation is possible.例文帳に追加

反射ミラーと像担持体との位置ずれを抑制し精度の高い画像形成が可能なプロセスユニット及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor light element capable of avoiding formation of a critical film of critical film thickness or a film of thickness thicker than it in a manufacturing process.例文帳に追加

製造の過程において臨界膜を越えることを避けることが可能な、半導体光素子を作製する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a production process that can form 3-alkyltetrahydrofuran with industrial advantage without formation of water as a by-product, from a readily available feedstock.例文帳に追加

入手容易な原料より、水を副生することなく、３−アルキルテトラヒドロフランを工業的に有利に製造しうる方法を提供する。 - 特許庁

In an electrode formation process for forming address electrodes 301 and extraction electrodes 310, dummy electrodes 330 are formed in non-display areas of a substrate.例文帳に追加

アドレス電極３０１や引出電極３１０を形成する電極形成工程で、基板の非表示領域にダミー電極３３０を形成する。 - 特許庁

That is, the fuse formation area 14 is constituted by carrying out etching in a dimension larger than that of the other via or wiring area formed in the same process.例文帳に追加

すなわち、同一工程で形成される他のビアや配線領域より大きい寸法でエッチングしてヒューズ形成領域１４を構成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a photoresist resin solution which permits acquisition of the photoresist resin solution without formation of insoluble matters in a simplified process.例文帳に追加

不溶解物の生成が無くしかも簡素化された工程でフォトレジスト用樹脂溶液を得ることのできるフォトレジスト用樹脂溶液を得る。 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMATION OF ELASTIC MEMBER, ROLLER FOR ELECTROPHOTOGRAPHY, MANUFACTURING METHOD OF THE ROLLER, AND ELECTROPHOTOGRAPHIC PROCESS CARTRIDGE AND ELECTROPHOTOGRAPHIC APPARATUS USING THE ROLLER例文帳に追加

弾性部材形成用組成物、電子写真用ローラ、その製造方法、並びにそれを用いた電子写真プロセスカートリッジおよび電子写真装置 - 特許庁

To provide technology capable of tracing a change in physical property value of a membrane observed during a process of wire formation with both reproducibility and simplicity.例文帳に追加

配線形成過程に起きる膜物性値変化を、再現性と簡便性とを両立して追跡できる技術を提供することである。 - 特許庁

To uniformly maintain height of protruded and recessed surfaces in an end face lining-up process for formation of film, without using dimensional irregularity of a work and a spacer.例文帳に追加

ワークやスペーサの寸法上のバラツキによらずに、成膜のための端面揃え工程における凹凸の高さを高精度で均一に保つ。 - 特許庁

To provide a resist pattern formation method which restrains increase in cost, prevents lowering of process treatment capability and is superior in dimensional uniformity.例文帳に追加

コストの増加を抑え、工程処理能力の低下を防ぎ、寸法均一性に優れたレジストパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the pad removing process, the pad Wy stuck out on the lower face W2 of the work W caused by the formation of the inclined face W1 is removed.例文帳に追加

余肉除去工程では、傾斜面Ｗ１の形成によってワークＷの下面Ｗ２にはみ出した余肉Ｗｙを除去する。 - 特許庁

The evaluation method of the formation of the serum protein composite to the biometal includes a process <1> for incubating the biometal in serum, a process <2> for washing the biometal with a buffer solution, a process <3> for washing the biometal with refined water and a process <4> for observing the presence of the formation of the serum protein composite to the biometal by a scanning electron microscope.例文帳に追加

生体用金属に対する血清タンパク質複合体形成の評価方法であって、少なくとも、＜１＞生体用金属を血清中でインキュベーションする工程、＜２＞緩衝液で洗浄する工程、＜３＞精製水で洗浄する工程、および、＜４＞生体用金属に対しての血清タンパク質複合体形成の有無を走査型電子顕微鏡で観察する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

Further, the silica film formation method comprises at least an applying process of applying coating liquid containing the polysilazane to the base material, a burn process of burning the base material to which the coating liquid is applied, and a hydroxy group imparting process executed during or after the burning process.例文帳に追加

さらに、この発明は、ポリシラザンを含むコーティング液を基材に塗布する塗布工程と、前記コーティング液が塗布された基材を焼成処理する焼成工程と、前記焼成工程の際又は焼成工程後に実行される水酸基付与工程とによって少なくとも構成されるシリカ膜形成方法にある。 - 特許庁

To eliminate the need for user's trouble and a burden on a user of an image forming apparatus where a process cartridge is loaded and unloaded by automatically releasing a process means of the process cartridge from being put away for image formation in a state wherein the process means is put away to be protected against damage owing to vibrations or a shock during transportation.例文帳に追加

プロセスカートリッジが着脱される画像形成装置において、出荷輸送時の振動や衝撃でプロセスカートリッジのプロセス手段が擦れ合うことでの損傷から保護するために離間させた状態から、画像形成に臨んで離間状態を自動解除することで、ユーザの手間や負担を不要とする。 - 特許庁

That is, since polishing wear is extremely little when compared to a method wherein a silicon oxide film is taken as a polishing surface, both a silicon oxide film removal process required for reproduction of a silicon oxide film and a film formation process can be eliminated in a dummy process of chemomechanical polishing.例文帳に追加

すなわち、シリコン酸化膜を被研磨面とする場合に比べて研磨減りが極めて少ないため、化学的機械的研磨のダミー工程で、シリコン酸化膜の再生に必要なシリコン酸化膜除去工程、成膜工程の両工程を省くことができる。 - 特許庁

This method of manufacturing a semiconductor device includes: a film formation process of forming an epitaxial layer 2 on a semiconductor substrate 1 by an epitaxial growth method; a process of forming semiconductor elements 3 in the epitaxial layer 2; and a removal process of removing the semiconductor substrate 1 to leave only the epitaxial layer.例文帳に追加

エピタキシャル成長法により半導体基板１にエピタキシャル層２を設ける成膜工程と、前記エピタキシャル層２に半導体素子３を設ける工程と、前記半導体基板１を除去して、前記エピタキシャル層のみを残す除去工程とを備える。 - 特許庁

The method of forming the test print material comprises a test data formation process for acquiring the test data, a raster image data forming process for acquiring raster image data, and a print-out process for providing the test print material by printing the raster image data by means of a print-out means.例文帳に追加

また、テストデータを得るテストデータ生成過程と、ラスターイメージデータを得るラスターイメージデータ生成過程と、ラスターイメージデータを入力して印刷出力手段によって印刷しテスト印刷物を得る印刷出力過程とを有するテスト印刷物作成方法。 - 特許庁

The metal pattern formation method comprises a process (a) of forming a graft polymer directly bonding with the surface of a base material on the base material, a process (b) of forming a metal film by adhering a conductive material to the graft polymer, and a process (c) of etching the metal film.例文帳に追加

（ａ）基材上に、該基材表面に直接結合したグラフトポリマーを形成する工程と、（ｂ）該グラフトポリマーに導電性材料を付着させて金属膜を製膜する工程と、 （ｃ）該金属膜をエッチングする工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide an image forming method and its apparatus of such a structure that if the image forming process is interrupted on the way of performing the process for a plurality of manuscript sheets one after another, resuming the process is made from the next one of that manuscript sheet on which image formation has been finished.例文帳に追加

複数枚の原稿について順次画像形成処理を行っている途中で画像形成処理が中断された場合に，画像形成処理が既に終了している原稿の次の原稿から画像形成処理を再開する画像形成装置の改良。 - 特許庁

After a preparation process S1, a base treatment for forming a base surface having a specific color on an inside tube surface is applied to a tube (base treatment process S2), and a lining film becoming translucent at a thickness less than the set film thickness is formed on the base surface (lining film formation process S3).例文帳に追加

準備工程Ｓ１の後、配管に対して管内面に特定色の下地面を形成する下地処理を施し（下地処理工程Ｓ２）、下地面上に、設定膜厚未満で半透明になるライニング膜を形成する（ライニング膜形成工程Ｓ３）。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having high radiation sensitivity, being excellent in dimensional accuracy and strength even with low exposures, preventing separation of patterns during a developing process and a rubbing process, and preventing formation of sublimates during a heating process.例文帳に追加

高い放射線感度を有し低露光量であっても寸法精度および強度に優れ、現像工程やラビング工程においてパターンが剥離することがなく、しかも加熱工程において昇華物が発生のない感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

A manufacturing method for the element substrate 10 includes a process of forming the energy feeding means 16 on the substrate 11, a process of thinning the substrate 11 thereafter, and an ink supply port formation process of forming the ink supply port 13 in the substrate 11 thereafter.例文帳に追加

素子基板１０の製造方法は、基板１１上にエネルギー供給手段１６を形成する工程と、その後に、基板１１を薄化する工程と、その後に、基板１１にインク供給口１３を形成するインク供給口形成工程とを有している。 - 特許庁

Throughput in the semiconductor manufacturing process is increased and thereby the manufacturing process of a phtoresist pattern is reduced when applying the exposure device with the aforementioned structure and an exposure process to the photoresist pattern formation of the semiconductor substrate W with a step.例文帳に追加

前述した構成要素を有する露光装置及び露光工程を段差が存在する半導体基板Ｗのフォトレジストパターン形成に適用すると、半導体製造工程でのスループットを増加させるとともに、フォトレジストパターンの製造工程を短縮することができる。 - 特許庁

A bank formation process which forms a bank B on a substrate P, a material arrangement process which arranges a functional liquid L at a region A partitioned by the bank B, and a heat treatment process which deposits a predetermined substance contained in the functional liquid L by heat treatment are included.例文帳に追加

基板Ｐ上にバンクＢを形成するバンク形成工程と、バンクＢによって区画された領域Ａに機能液Ｌを配置する材料配置工程と、機能液Ｌに含まれる所定物質を熱処理により析出させる熱処理工程とを有する。 - 特許庁

To provide a substrate for liquid crystal alignment based on a transition nucleus formation process which can be achieved by using the conventional liquid crystal display manufacturing method almost as it is.例文帳に追加

これまでの液晶ディスプレイの製造法をほぼそのまま利用して実現可能な転移核形成法に基づく液晶配向用基板を提供する。 - 特許庁

The defective wiring board can be solved, by providing the process to execute the heat treatment, before the formation of an electrostatic latent image in the method of manufacturing the printed wiring board for electronic photograph.例文帳に追加

電子写真プリント配線板の作製方法において、静電潜像形成前に熱処理を行う工程を設けることで前記課題が解決できる。 - 特許庁

To avoid the damage within an element region in formation of a contact, and also to process a cell region and a control system circuit region around a cell into gates at the same time.例文帳に追加

コンタクトの形成における素子領域内のダメージを回避するとともに、セル領域とセル周辺制御系回路領域とを同時にゲート加工できる。 - 特許庁

For continuous formation, a temp.-holding and solidification-adjusting chamber for holding and adjusting the gas dissolved metallic material is arranged in the intermediate process between the heating chamber and the continuous cooling chamber.例文帳に追加

連続形成には、加熱室と連続冷却室との中間工程にガス溶解金属材料を保留調整する保温凝固調整室を設ける。 - 特許庁

In a process of forming a resist thin film on a substrate to be processed, a resist film of 0.3 μm or smaller is formed by the film formation in two or more steps.例文帳に追加

被加工基板上にレジスト薄膜を形成する工程において、２回以上の膜形成により、膜厚０．３μm以下のレジスト膜を形成する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of inhibiting an image formation process by a print job which does not match a cartridge accommodated in a body.例文帳に追加

本体内に保持されたカートリッジに適応しない印刷ジョブによる画像形成処理を抑止することができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a semiconductor device in which a transistor of such a structure as having a large gate width and preventing formation of a parasitic channel can be fabricated.例文帳に追加

ゲート幅が大きく、且つ寄生チャネルの形成を防止した構造のトランジスタを作成できるようにした半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

In case the pattern formation has not been completed, a stage 5 is transferred to a predetermined position under a drawing unit 3 by step S9 as a stage transfer process.例文帳に追加

パターンが完成していない場合は、ステージ移動工程としてのステップＳ９によって、ステージ５を描画ユニット３の下の所定の位置に移動する。 - 特許庁

The electrophoretic process allows formation of a sufficiently thick enamel protection layer, which is excellent in the electric insulation and water resistance.例文帳に追加

電気泳動法で形成するので、厚みの充分厚いホーロー保護層を形成することができ、電気絶縁性、耐水性に優れた保護層が得られる。 - 特許庁

To provide a resist development method and a device for realizing highly precise fine pattern formation in a process for manufacturing a semiconductor device such as a super-LSI.例文帳に追加

超ＬＳＩ等の半導体デバイスの製造工程において、高精度微細パタン形成を実現するレジスト現像方法および装置を提供する。 - 特許庁

Next, a resist formation process for forming a plating resist 54 on the insulating layers 33, 34, 35, 40, 41, 42 is carried out by using a plating resist material 53.例文帳に追加

次に、めっきレジスト材５３を用いて絶縁層３３，３４，３５，４０，４１，４２上にめっきレジスト５４を形成するレジスト形成工程を行う。 - 特許庁

To provide a method of creating a mask pattern facilitating formation of a fine pattern with high accuracy in a lithographic process using a reflective optical system.例文帳に追加

反射型光学系を用いるリソグラフィ工程において微細なパターンを高精度に形成することができるマスクパターンデータの生成方法を提供する。 - 特許庁

By local formation of signature authentication in the electronic equipment (1, 4), security process in which a digital signature is used is simplified and is promoted.例文帳に追加

電子装置（１、４）での署名証明書の局域的な作成によって、ディジタル署名が使用されるセキュリティ・プロセスが簡略化され、促進されることができる。 - 特許庁

The halftone process is configured to determine the status of dot formation on each of the print pixels on an assumption of the physical difference.例文帳に追加

このハーフトーン処理は、物理的な相違を想定して各印刷画素へのドットの形成状態を決定するように構成されていることを特徴とする。 - 特許庁

In this way, when pressure is applied on the bump in the assembling process such as inner-lead bonding, the phenomenon of resulting crack formation in the protective film can be prevented.例文帳に追加

このことで、インナーリードボンデイング等の組立工程でバンプに圧力がかかった場合、保護膜クラックが発生してしまう現象を防ぐことを可能にする。 - 特許庁