意味 | 例文 (999件) |
formation processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2474件
The production process of a winding type electrolytic capacitor forms two or more insulating layers 6 on a surface of a sheet of insulating belt-like paper 12 with predetermined intervals in a longer direction (insulating layer formation process).例文帳に追加
巻回型電解コンデンサの製造工程では、1枚の絶縁性の帯状紙12の表面に、長さ方向に所定の間隔を空けて、複数の絶縁層6を形成する(絶縁層形成工程)。 - 特許庁
Then, a formation process of the sealing member 55 against the first member 50 and hydrolysis process against the electrolyte precursor resin are simultaneously carried out in the molding dies 60, 60 to obtain the fuel cell-constituting material A.例文帳に追加
そして、第1部材50に対するシール部材55の形成処理と電解質前駆体樹脂に対する加水分解処理とを成形型60,60内で同時に行って、燃料電池構成材Aとする。 - 特許庁
To prevent a developer from leaking to the outside of a process cartridge when the process cartridge is removed from the device body of an image formation device and a developer carrier is separated from an electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加
プロセスカートリッジが画像形成装置の装置本体から取り外され、現像剤担持体が電子写真感光体から離間した際も、現像剤がプロセスカートリッジの外部に漏れることを抑制する。 - 特許庁
Alternatively, a mask layer removal process for removing the mask layer and a substrate removal process for removing the substrate area including at least a part of the groove part formation part on the substrate may be added.例文帳に追加
また、マスク層を除去するマスク層除去工程と、基板の溝部が設けられた領域の少なくとも一部を含む、基板の領域を除去する基板除去工程を更に備えてよい。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing an organic electroluminescent lighting device, which can improve manufacturing yield in a film formation process and hold an interval between substrates at a fixed value in a sealing process.例文帳に追加
成膜工程における製造歩留まりの向上が可能で、かつ封止工程において基板間の間隔を一定に保つことが可能な有機エレクトロルミネッセンス照明装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
In a first leak inspection process S4, a predetermined reverse bias voltage is impressed between a positive electrode and a negative electrode after an element formation process A1 for measuring a first leak current value.例文帳に追加
第1のリーク検査工程S4は、素子形成工程S1後に、陽極及び陰極からなる両電極間に所定の第1の逆バイアス電圧を印加し、第1の漏れ電流値を計測する。 - 特許庁
To provide a pattern forming method, capable of efficiently and uniformly performing formation and correction of pattern design data along a production process of semiconductor device or a request on pattern design process.例文帳に追加
パターンの設計データの作成および修正を、半導体装置の製造プロセスやパターン設計プロセス上の要請に沿って効率良く、かつ、均一に行うことができるパターン作成方法を提供する。 - 特許庁
After a hard film C is formed on dynamic pressure generation faces 11, 12 or the rotor 2 side face opposite to the faces 11, 12, protrusions formed in the film formation process are removed by eletrolytic process.例文帳に追加
動圧発生面11,12またはそれに対向する回転体2側の面に硬質皮膜Cを形成したのち、その皮膜形成工程において形成された突起を電解加工により除去する。 - 特許庁
To provide a semiconductor element and a manufacturing method thereof such that a process margin can be secured by preventing a thinning-out phenomenon of a reflective film in a photo process for controller gate formation.例文帳に追加
コントローラゲート形成のためのフォト工程において、反射膜の間引き現象を防止して、工程マージンを確保できる半導体素子及びその製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁
A method for forming an insulating film of a semiconductor element substrate has an application process for forming a coated film 2 by applying a constitutional coat for the insulating film, a surface layer curing process for curing the surface layer side 2a of the coated film 2 after the application process, and a pore formation process for forming pores 4 in the coated film 2 after the surface layer curing process.例文帳に追加
半導体素子基板上に絶縁膜を形成する方法において、 前記絶縁膜の構成塗料を塗布して塗膜2を設ける塗布工程と、 前記塗布工程の後、前記塗膜2の表層側2aを硬化させる表層硬化工程と、 前記表層硬化工程の後、前記塗膜2にポア4を形成するポア形成工程とを具備する。 - 特許庁
To provide a cooperation system for improving convenience without requiring operation for a user to sequentially select and set image formation devices used as control objects, and automatically setting the image formation system instantly executing a printing process in lieu of an image formation device used as a control object when the image formation device is not in a state for instantly printing.例文帳に追加
ユーザが制御対象となる画像形成装置を逐次選択して設定するような操作が必要なく利便性を向上させることが可能であり、かつ、制御対象となる画像形成装置が即時印刷可能な状態ではない場合に、代替して即時印刷処理を行う画像形成装置を自動設定する連携システムを提供する。 - 特許庁
To provide a heat treatment method, which dispenses with special formation of a thin film having satisfactory crystallinity, and never causes increase in resistivity even in a heat treatment process at a temperature exceeding 150°C after thin film formation.例文帳に追加
特別に良好な結晶性を有する薄膜とすることなく、薄膜形成後の150℃を超える温度での熱処理工程においても、抵抗率を増加させることのない熱処理方法を提供する。 - 特許庁
A dual damascene process in which distribution holes are formed prior to formation of distribution grooves is carried out using ArF lithography with a negative-working resist whose exposed area is made negative by lactonization reaction as a resist in formation of a distribution groove pattern.例文帳に追加
配線溝パターンを形成する際のレジストとして露光部がラクトン化反応によりネガ化するネガ型レジストを用い、ArFリソグラフィを使って、配線孔を配線溝に先だって形成するデュアルダマシン工程を行う。 - 特許庁
To provide an image formation device preventing an execution disabled state of a restoration process due to a communication error between an external device and the image formation device, and improving the security properties of setting data.例文帳に追加
外部装置と画像形成装置間での通信エラーによりリストア処理の実行不可能状態を防止するとともに、セキュリティ性を向上させた設定データのバックアップが可能な画像形成装置を提供する。 - 特許庁
To provide a formation technique of a quantum wire capable of demonstrating a superior shape and sufficient characteristics in a distributed feedback semiconductor laser and the like with respect to a formation process of a quantum wire formed on a grating substrate.例文帳に追加
グレーティング基板上に形成される量子細線の形成方法として、分布帰還半導体レーザ等に応用するに十分な形状、特性を発揮し得る量子細線の形成手法を提供する。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus that assures more satisfactory image formation by further improving the stability of alignment and power supply in a developer image formation area, and to provide a process cartridge and a developing cartridge.例文帳に追加
現像剤像形成領域における、アラインメント及び給電の安定性をより向上することで、より良好な画像形成を行えるようにした、画像形成装置、プロセスカートリッジ、及び現像カートリッジを提供する。 - 特許庁
When the surface temperature of the photosensitive drum 11 is within the range of 30 to 35°C, an image formation process by image formation units 12Y to 12K is started and drying time of a toner image is shortened without generating poor electrostatic charge.例文帳に追加
感光体ドラム11の表面温度が30〜35℃の範囲の場合に、画像形成ユニット12Y〜12Kによる画像形成プロセスを開始し、帯電不良を生じることなくトナー画像の乾燥時間を短縮する。 - 特許庁
In a formation process of pixel separation wells PS, ions of impurities are implanted in regions interposing a plurality of pixels P therebetween out of formation regions of the pixel separation wells PS to form first pixel separation wells PS1.例文帳に追加
画素分離ウェルPSの形成工程では、画素分離ウェルPSの形成領域のうち、複数の画素Pを間に挟む領域に、不純物をイオン注入して、第1の画素分離ウェルPS1を形成する。 - 特許庁
Chemical liquid is circulated by operating a circulation pump 2 between an anode formation vessel 1 to perform an anode forming process and a chemical liquid tank 3 for storing chemical liquid required for such anode formation.例文帳に追加
陽極化成の処理を実行する陽極化成槽1と、その陽極化成に必要な薬液が蓄えられている薬液タンク3との間で、循環ポンプ2が作動されることにより、薬液が循環されている。 - 特許庁
To enable formation of a field insulating film which prevents the deterioration of an element and also enable the flattening of a field oxide film, in the manufacture of a semiconductor device which includes the formation process of the field insulating film.例文帳に追加
フィールド絶縁膜の形成工程を含む半導体装置装置の製造方法に関し、素子の劣化を防止するフィールド絶縁膜の形成を可能にし、また、フィールド酸化膜の平坦化を可能にすること。 - 特許庁
In a manufacturing process of a semiconductor device 1, a silicon substrate 2 is separated into an NMOS formation region 8 and a PMOS formation region 9, and a high-permittivity insulation film 31 is formed on the surface of the silicon substrate 2.例文帳に追加
半導体装置1の製造工程において、シリコン基板2を、NMOS形成領域8とPMOS形成領域9とに分離し、そのシリコン基板2の表面に高誘電率絶縁膜31を形成する。 - 特許庁
The integration process includes the formation of a substrate 30 utilizing 2D image optics by a polymeric material (or silica), the formation of an optical deflection element and the assembly of the substrate or the deflection element utilizing the image optics.例文帳に追加
集積プロセスは、重合材料(またはシリカ)による2D画像光学を利用した基板30の作成、光偏向要素の作成、および画像光学を利用した基板における偏向素子の組み立てを包含する。 - 特許庁
Alternatively, an influence of the Si-H bond can be suppressed by performing a high-temperature process after once removing hydrogen in the nitride film by effecting film-formation of the nitride film at a low temperature and then annealing at a higher temperature than the film-formation temperature.例文帳に追加
また、低温で窒化膜成膜後に成膜温度より高い温度でアニールを行うことにより窒化膜中の水素を一旦脱離した後、高温工程を行うことでSi−H結合の影響を抑制できる。 - 特許庁
As the etching reaction advances, the concentration of the fluorine radical decreases, and in due course, an atmosphere in the reaction vessel is replaced by the thin-film formation process gas, a deposition reaction is started, and a film grows on the thin-film formation surface of the substrate.例文帳に追加
エッチング反応の進行によりフッ素ラジカルの濃度は減少し、やがて、薄膜形成用プロセスガスに反応容器内の雰囲気が置換されて、堆積反応が開始し、基板の被形成面に膜が成長する。 - 特許庁
In the membrane formation process, the first solution is supplied onto a membrane and the polyionic complex-formation inhibitor in the first solution and the solvent are selectively permeated through the membrane to form the immobilized catalyst membrane on the membrane.例文帳に追加
膜形成工程では、第1溶液が膜上に供給され、第1溶液中のポリイオンコンプレックス形成阻害剤および溶媒が選択的に膜透過させられて、その膜上に、固定化触媒膜が形成される。 - 特許庁
To suppress metallic contamination in a processing chamber and a breakage of a quartz member, while suppressing decrease in film formation rate in a thin film formation process immediately after dry cleaning of the inside of the processing chamber, and to enhance the operation rate of the apparatus.例文帳に追加
処理室内のドライクリーニング直後の薄膜形成工程における成膜速度の低下を抑制しつつ、処理室内の金属汚染や石英部材の破損を抑制すると共に、装置稼働率を向上させる。 - 特許庁
Since the formation of the burring part and the gear formation to the burring part can be executed in one process, the working of the gear from the gear blank can easily be executed in extremely short time with the simple equipment.例文帳に追加
バーリング部の成形と該バーリング部へのギア成形とを一工程で行うことができるので、上記の簡単な設備によって、きわめて短時間内にギア素材からギアの加工を容易に行うことができる。 - 特許庁
To prevent a diaphragm from being deformed or an anodic joint to a channel substrate from peeling off in a film formation/crystallization process of a piezoelectric element.例文帳に追加
圧電膜の成膜・結晶化工程において振動板が変形したり流路基板との陽極接合部が剥がれたりするのを防ぐ。 - 特許庁
To provide an element isolation film formation method for a semiconductor memory element for saving process costs, and for improving the reliability of elements.例文帳に追加
工程コストを節減し且つ素子の信頼性を向上させることができる、半導体メモリ素子の素子分離膜形成方法を提供すること。 - 特許庁
Thereby, formation of a reflector and a sealing member on the board for mounting an LED chip and the like thereon can be executed by a single process.例文帳に追加
これにより、LEDチップ等が実装される基板に対するリフレクタ及び封止部材の形成を単一工程で行うことができる。 - 特許庁
To provide a shaft-thickening process method by which the formation of an enlarging diameter part to a work (metallic bar material) without needing the skill to a worker.例文帳に追加
作業者に熟練を要求することなく、ワーク(金属棒材)への拡径部の成形を可能にする軸肥大加工方法を提供する。 - 特許庁
Thus, at the time of electrification, image formation, and discharge in an image forming process, changeover to the AC output/DC output is automatically carried out to enable the operation.例文帳に追加
これにより、作像プロセスの帯電・作像・除電時に自動でAC出力とDC出力とが切り替わり前記操作を可能とする。 - 特許庁
To provide a mold cylinder capable of making thin base paper having good formation in a process for making the paper in a cylinder paper machine.例文帳に追加
円網抄紙機における抄造において、地合いの良好な薄物の原紙を抄造することのできる円網シリンダーを提供するものである。 - 特許庁
When an ink jet printer is used upon the formation of the application layer, the reflective coating 15 can be produced by a simple process, and its production cost is low as well.例文帳に追加
塗布層を形成する際に、インクジェットプリンタを用いれば、反射膜15を簡易な工程で製造可能であり、その製造コストも安い。 - 特許庁
To prevent the manufacture yield of a semiconductor, etc., due to explosion phenomenon, when a thin-film formation process is repeated for a long period.例文帳に追加
薄膜形成プロセスを長期にわたって繰り返した場合に爆発現象に起因する半導体等の製造歩留まりを低下を防止する。 - 特許庁
In other words, the capacitor formation region 14 is formed by achiving etching with its size different from those of the other vias and wiring regions formed in the same process.例文帳に追加
すなわち、同一工程で形成される他のビアや配線領域と異なる寸法でエッチングして容量形成領域14を構成する。 - 特許庁
To provide a catalytic CVD device, a method for formation of a film, a process for production of a solar cell, and a substrate holder.例文帳に追加
基材の過熱を抑制できる触媒CVD装置、膜の形成方法、太陽電池の製造方法及び基材の保持体を提供する。 - 特許庁
In the lowering of a temperature of a gate oxide film formation process, the temperature is lowered to not higher than a termination/desorption temperature (650 to 850°C) while maintaining a wet atmosphere.例文帳に追加
ゲート酸化膜形成工程の降温時に、ウェット雰囲気を維持したまま、終端・脱離温度(650〜850℃)以下まで降温させる。 - 特許庁
To provide a structure manufacturing method which enables the formation of an adhesive agent reservoir to reserve a surplus adhesive agent by a simple process.例文帳に追加
簡便な工程で、余剰の接着剤を溜めるための接着剤溜りを形成することが可能な、構造体の製造方法の提供。 - 特許庁
A high-k dielectric layer can be patterned to allow the formation of a non-memory transistor together with a process of forming the flash memory cell.例文帳に追加
high−k誘電体層は、フラッシュメモリセルを形成するプロセスとともに、非メモリトランジスタの形成を可能にするようにパターニングされ得る。 - 特許庁
By forming diamond 106 by the supporting substrate into which impurities have been diffused, diffusion of the impurities from the supporting substrate occurs in the initial process of the formation.例文帳に追加
拡散させた基板にダイヤモンド106を形成させることにより形成初期過程に支持基板より不純物の拡散が生じる。 - 特許庁
In the process, if required, the beer-like alcoholic beverage is produced by adding a coloring matter and a foam formation/foam retention enhancing substance.例文帳に追加
さらに、本発明による方法は、必要に応じて、色素と、起泡・泡持ち向上物質を添加してビール様アルコール飲料を製造する。 - 特許庁
To provide a thin film forming apparatus which eliminates influences of Cl without carrying out a post treatment process and which prevents formation of an impurity layer or the like.例文帳に追加
後処理の工程を経ることなくClの影響をなくして不純物層等が形成されることがない薄膜作製装置とする。 - 特許庁
To make speed variation small without reference to speed variation characteristics of an image carrier used for image formation by an electrophotographic process.例文帳に追加
電子写真プロセスによる画像形成に用いられる像担持体の速度変動特性に関係なくその速度変動を小さくすることである。 - 特許庁
To create an improved exhaust valve preferable for reduction of formation of NOx and an improved process, and to design an improved large-sized two-cycle diesel engine.例文帳に追加
NOxの形成の削減に好適な、改良された排気バルブ及び改良されたプロセスを作ることが本発明の目的である。 - 特許庁
If the control program normally operating is not stored, at least an image formation process utilizing the second transfer unit is inhibited.例文帳に追加
正常に動作する制御プログラムが記憶されていない場合、少なくとも第2の搬送ユニットを利用した画像形成処理が禁止される。 - 特許庁
An SOI substrate is etched and a plurality of vias 24 reaching the upper surface of an SiO_2 film 14 are formed on an Si film 16 (via formation process).例文帳に追加
SOI基板をエッチングして、SiO_2膜14上面に到達する複数のビア24をSi膜16に形成する(ビア形成工程)。 - 特許庁
To inhibit or prevent formation of a side product in a pump by a specific process and enable establishment of a wide operable range.例文帳に追加
特定のプロセスによるポンプ内部での副生成物の生成を抑制または阻止したり、運転可能範囲を広く設定できるようにする。 - 特許庁
To provide a scale prevention agent and a scale prevention method to efficiently prevent formation of scale in a water system of a paper pulp manufacturing process.例文帳に追加
紙パルプ製造工程の水系におけるスケールの生成を効率良く防止するスケール防止剤およびスケール防止方法を提供する。 - 特許庁
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