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「formation process」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索
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formation processの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 2474



例文

That is to say, when an operation-start lever 210 is operated, the game machine extracts a random number, executes a flag process and determines the formation of a small winning combination.例文帳に追加

すなわち、始動レバー210の操作があると、乱数を抽出しフラグ処理を実行して、小役フラグの成立を判定する。 - 特許庁

To improve winding and slipping off in a carding process and enable formation of spun yarn by attaching a specific hydrophilic fluorine-based surfactant to a polyfluorocarbon staple fiber.例文帳に追加

ポリフルオロカーボン短繊維からその紡績糸を得ることができるポリフルオロカーボン短繊維の紡績方法及び紡績糸を提供する。 - 特許庁

To provide a fusion process for producing sheet glass which employs a zirconia melting unit, which reduces the formation of defects due to zirconia in sheet glass.例文帳に追加

溶融ジルコニア溶融容器を使用するフュージョン法を用いて生産される板ガラスのジルコニアに基づく欠陥のレベルを低減する。 - 特許庁

To achieve high-accuracy pattern formation by preliminarily measuring warpage of a substrate and forming a pattern complying with the amount of warpage in the process of manufacturing a photomask.例文帳に追加

フォトマスクの製造で、基板のそり事前に測定し、そり量に応じたパターンを作成し、高精度なパターン作成を実現する。 - 特許庁

例文

METHOD FOR MANUFACTURING COATING LIQUID FOR FORMATION OF PHOTOSENSITIVE LAYER, ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTORECEPTOR USING COATING LIQUID, PROCESS CARTRIDGE, AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

感光層形成用塗工液の製造方法及び該塗工液を用いた電子写真感光体、プロセスカートリッジ、および画像形成装置 - 特許庁


例文

ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTORECEPTOR, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, IMAGE FORMING METHOD USING THE SAME, IMAGE FORMING APPARATUS AND PROCESS CARTRIDGE FOR IMAGE FORMATION例文帳に追加

電子写真用感光体、その製造方法、これを用いる画像形成方法、画像形成装置および画像形成用プロセスカートリッジ - 特許庁

To provide a circuit board wherein a patterning process is unnecessary, productivity is high and circuit formation is enabled with fine pattern.例文帳に追加

パターンニング工程を必要とすることなく生産性高く、しかもファインパターンで回路形成をすることができる回路基板を提供する。 - 特許庁

An orange peel face formation process for preventing ghost due to reflection is carried out to an F face of a boundary face between wedge-shaped prisms 3 and 4.例文帳に追加

また、楔状のプリズム3、4の境界面のF面には、反射によるゴーストを防止するために梨地面形成処理がなされる。 - 特許庁

After this process, cleaning in pure water is performed for at least five minutes, and after drying, second formation of an epitaxial growth film 4 is executed.例文帳に追加

この処理後、純水洗浄を5分以上実施し、乾燥処理した後、二回目のエピタキシャル成長膜4の形成を実施する。 - 特許庁

例文

ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTORECEPTOR AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, IMAGE FORMATION DEVICE, PROCESS CARTRIDGE, AND HOLLOW METAL OXIDE PARTICLE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加

電子写真感光体及びその製造方法、画像形成装置、プロセスカートリッジ、並びに、中空金属酸化物粒子及びその製造方法 - 特許庁

例文

To provide an ion-exchanging method that is capable of exchanging desired ions in a solid by a dry process and that is easy to produce a complex pattern formation.例文帳に追加

ドライプロセスにより固体中の所望のイオンを交換し得、複雑なパターン形成も容易であるイオン交換方法を提供する。 - 特許庁

Process for the formation of bulbous enlargement wherein a cavity is formed in the ground using explosives, into which cavity concrete is poured. 例文帳に追加

爆薬の爆破により地中に空洞を形成した後、その内部にコンクリート材料を流し込む拡大球根部の造成方法 - 特許庁

Moreover, detailed changes in a pattern can be performed easily in matching with the changes in the basic structure of a pattern or a pattern formation process.例文帳に追加

また、パターンの基礎となる構造の変更やパターン形成処理に合わせたパターンの微細な変更を容易に行うことができる。 - 特許庁

Then, the A component is introduced into holes which are formed in a second process being irradiated with light rays for the formation of quantum dots.例文帳に追加

次に、光を照射することにより前記A成分を、前記第2の工程で作成した穴に導き量子ドットを形成する。 - 特許庁

To form a desired barrier rib in which a formation process of the barrier rib is made simple and which is structurally and mechanically stable.例文帳に追加

隔壁の形成工程を簡単にし、且つ構造的及び機械的に安定した所望の形状の隔壁形成を可能にする。 - 特許庁

The mounting structure 1 makes a formation process of a plated layer unnecessary, and can avoid occurrence of initial insulation resistance failure and withstand voltage failure, etc..例文帳に追加

これにより、メッキ層を形成する工程が不要となり、初期絶縁抵抗不良や耐圧不良などが生じることを回避できる。 - 特許庁

A method is provided for controlling the formation of defects in sheet glass produced by a fusion process which employs a zirconia melting unit.例文帳に追加

ジルコニア溶融ユニットを用いるフュージョン法によって生産される板ガラスにおける欠陥の形成を抑制する方法が提供される。 - 特許庁

To provide a steering column device capable of supporting strongly and stably a steering column using a projecting part formed by a conventional formation process.例文帳に追加

在来成形法を用いて成形される凸状部によりステアリングコラムを強固に、安定に支持するステアリングコラム装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern formation process and a liquid droplet discharge apparatus with improved pattern productivity by stabilizing the liquid droplet discharge operation.例文帳に追加

液滴吐出動作の安定化を図り、パターンの生産性を向上させたパターン形成方法及び液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁

The dispersed formation of the charge generating regions is carried out by jetting a coating liquid for the charge generating layer by a piezo system ink jet process.例文帳に追加

電荷発生領域の分散形成は、電荷発生層塗工液をピエゾ式のインクジェット法により噴射することで行なう。 - 特許庁

To provide a formation method for forming a pn-junction without additions of any new process and any new mask in a polysilicon film.例文帳に追加

ポリシリコン膜において、新たなプロセスおよびマスクを追加することなくpn接合を形成するための形成方法を提供する。 - 特許庁

To prevent the formation of a connection electrode with fault due to excessive etching by etching fluid in the etching process of a photo lithography method.例文帳に追加

フォトリソグラフィ法におけるエッチング工程時に、エッチング液による過食刻によって不良な接続電極が形成されるのを防止する。 - 特許庁

EXHAUST VALVE FOR LARGE-SIZED TWO-CYCLE DIESEL ENGINE, PROCESS FOR REDUCING FORMATION OF NOX IN SUCH ENGINE, AND SUCH ENGINE例文帳に追加

大型の2サイクルディーゼルエンジンのための排気バルブ、このようなエンジンにおけるNOx形成の削減のためのプロセス、及びこのようなエンジン - 特許庁

An inlet formation part 22 having a process gas inlet 23 is provided in on an upstream side of a discharge space 30 between electrodes 31, 32.例文帳に追加

電極31,32間の放電空間30の上流側に、プロセスガス導入口23を有する導入口形成部22を設ける。 - 特許庁

The oxide film formation cleaning is a process for forming the oxide film 3 using either ozone water, SC1 washings, or SC2 washings.例文帳に追加

酸化膜形成洗浄は、オゾン水、SC1洗浄液、SC2洗浄液のいずれかを用いて酸化膜3を形成する工程である。 - 特許庁

The process for applying thermal stress to the cerium oxide is carried out continuously after formation of cerium oxide without causing temperature drop thereof.例文帳に追加

酸化セリウムに熱的ストレスを印加する工程は、酸化セリウムが形成された後、酸化セリウムの温度下降なしに連続的に行われる。 - 特許庁

An oxide film is formed in a surface of a silicon wafer 11 and a gate electrode (polysilicon) 14, before the formation of a titanium film 17 (a first process).例文帳に追加

チタン膜17を形成する前に、シリコンウェハ11とゲート電極(ポリシリコン)14の表面に酸化膜を形成する(第1の工程)。 - 特許庁

In these treatments, LDD width WD11, WD13 are each set separately, by setting a source region/drain region implantation process of the Tr 33 after the formation of the first sidewall, and a source region/drain region implantation process of the Tr 35 after the formation of the second sidewall, respectively.例文帳に追加

これらの処理において、第1のサイドウォール形成後にTr33のソース領域/ドレイン領域インプラ工程を、第2のサイドウォール形成後にTr35のソース領域/ドレイン領域インプラ工程を、それぞれ打ち込むことにより、各LDD幅WD11,WD13を別個に設定する。 - 特許庁

Then an electrode film 10 is plated on the surface of the dielectric block in an electrode film formation process, and in a facing process, a projected part other than the electrode pattern formation programming area is removed by removing the prescribed thickness from the surface of the dielectric block to pattern the electrode film 10.例文帳に追加

その後、電極膜形成工程で誘電体ブロック表面に電極膜10をメッキし、面出し工程で誘電体ブロック表面の所定厚み分の除去によって電極パターン形成予定領域以外の突出部を除去して電極膜10をパターンニングする。 - 特許庁

As a means to solve the fence or the lift-off residue of the resist mask in a track formation process and an element height formation process, lift-off is performed by CMP by forming a 1st stopper layer 41 on the magnetoresistive effect film 3, and a 2nd stopper layer 42 on a refill film 6.例文帳に追加

トラック形成工程及び素子高さ形成工程における、フェンスやレジストマスクのリフトオフ残りを解決する手段として、磁気抵抗効果膜3の上に第一のストッパー層41を、リフィル膜6の上に第二のストッパー層42を配し、CMPによってリフトオフを行う。 - 特許庁

This makes the metal mold pair 50 move along the holding hole 61 and perform a formation process of a slot housing conductor portion forming the slot housing conductor portion 40 and a formation process of a coil end conductor portion forming the coil end conductor portion 42 from the feeded insulation coated conductor wire 30.例文帳に追加

これにより、金型ペア50を保持孔61上を移動させる動作を行なって、投入された絶縁被覆導体線30に対して、スロット収容導体部40を形成するスロット収容導体部形成工程と、コイルエンド導体部42を形成するコイルエンド導体部形成工程とを行う。 - 特許庁

This can not only raise the productivity of a semiconductor device by shortening the process time of the dielectric film formation process but also can simplify the facility by lessening the relevant facility by formation of the dielectric film and annealing of the dielectric film being performed by one reactive chamber 40.例文帳に追加

これにより、誘電膜形成工程の工程時間を短縮して半導体装置の生産性を向上させるだけでなく、一つの反応チャンバ40で誘電膜の形成と誘電膜のアニーリングが行われることによって関連設備の体積を小さくし設備を単純化することができる。 - 特許庁

In a salicide formation process, a detecting wiring line 217 for connecting a floating diffusion 203 and a gate electrode 104g of an amplification transistor 104 is formed in the form of a high-melting-point metallic material not reacting with the silicide reaction on a non-silicon surface generated in the salicide formation process.例文帳に追加

サリサイド形成過程において、フローティングディフュージョン203と増幅トランジスタ104のゲート電極104gとを接続する検出用配線217を、サリサイド形成過程に発生する非シリコン表面上のシリサイド化反応していない高融点金属材料を利用して形成する。 - 特許庁

To obtain a function as a monitor tool, capable of rewriting stored information by trimming resistance inside a storage cell in storing the information using a pair of the storage cells, and easily detecting, variation in an element formation process and failure of a device after the element formation process is completed.例文帳に追加

一対の記憶セルを用いて情報を記憶する際、記憶セル内の抵抗のトリミングにより記憶情報の書き換えを可能とし、素子形成プロセスのばらつきや素子形成工程終了後のデバイスの不具合を容易に検出するためのモニターツールとしての機能を持たせる。 - 特許庁

Deformation of a wafer 110 for a channel formation substrate is regulated in the initial process by changing the conditions in annealing such as the temperature, time period, or the like, thus guiding or minimizing deformation of the wafer 110 for a channel formation substrate to a desired range in a process for forming a piezoelectric element.例文帳に追加

アニール処理における温度及び時間等の条件を変化させることにより、初期工程での流路形成基板用ウエハ110の変形を調整し、圧電素子を形成する工程での流路形成基板用ウエハ110の変形を所望の範囲に誘導(抑制)する。 - 特許庁

In a laser processing process, the electrode pattern formation programming area of a dielectric block 1 is irradiated with a laser beam to remove prescribed thickness from the electrode pattern formation programming area, and in a succeeding surface correction process, a dielectric part deteriorated by laser beam irradiation is removed or repaired.例文帳に追加

レーザ加工工程で誘電体ブロック1の電極パターン形成予定領域にレーザビームを照射して電極パターン形成予定領域を所定厚み分除去し、続く表面修正工程で、レーザビームの照射によって変質した誘電体部分の除去または修復を行う。 - 特許庁

A first stereoscopic image formation process for forming a stereoscopic image when both the right image R and the left image L are updated and a second stereoscopic image formation process for forming a stereoscopic image every time either the right image R or the left image L is updated are possible.例文帳に追加

右画像Rおよび左画像Lの両方が更新された際にステレオ画像作成を行う第1ステレオ画像作成処理と、右画像Rおよび左画像Lの何れかが更新される毎にステレオ画像の作成を行う第2ステレオ画像作成処理とが可能である。 - 特許庁

As a pre-treatment process before an electrostatic latent image formation process on a photoreceptor drum, a flag CL is set in the case of incorporating a cleaning process according to the input operation of a control panel by a user, and the flag CL is reset in the case of not incorporating it (72, 74, 76).例文帳に追加

感光体ドラムへの静電潜像形成処理前の前処理工程として、ユーザによる操作パネルの操作入力に応じて、クリーニング工程を、組み込む場合にはフラグCLをセットし、組み込まない場合にはフラグCLをリセットする(72,74,76)。 - 特許庁

In the eletrolytic process, the protrusions are preferentially removed in the narrow gap between the electrode implement 3 and the faces and the protrusions brought in the formation process of the hard film C are selectively removed in a short time by the electrolytic process and hence, normal faces are not impaired.例文帳に追加

電解加工は、電極工具3との間隙が少ない部位が優先的に除去され、硬質皮膜Cの形成工程で生じた突起は、この電解加工により短時間のうちに選択的に除去され、正常の面を傷つけることもない。 - 特許庁

The grating 201 is manufactured by adding hydrogen to a Ge- added optical fiber in a hydrogen addition process S11, irradiating it with intensity-modulated ultraviolet rays in a grating formation process S12 to induce refractive index modulation, and heating it in a heating process S13.例文帳に追加

Ge添加光ファイバに対し、水素添加工程S11で水素を添加し、グレーティング形成工程S12で強度変調された紫外光を照射して屈折率変調を誘起せしめ、加熱工程S13で加熱処理して、グレーティング20_1を作製する。 - 特許庁

To provide a supporting member for a process means, an electrifying device, a process cartridge and an image forming apparatus realizing formation of an image of high quality by preventing dust fluff attached to the reciprocating process means from affecting an image.例文帳に追加

往復移動するプロセス手段に付着する埃ケバによる画像への影響を防止し、高品位の画像を安定して形成することを可能とするプロセス手段の支持部材、帯電装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of an electro-optical apparatus includes a semiconductor layer formation process of forming a semiconductor layer (1a) of a transistor on a substrate (10); an impurity introduction process introducing impurities into a channel portion (1a') of the semiconductor layer; and a gate electrode formation process forming a gate electrode (3b) so as to overlap with the channel portion in plan view of the substrate.例文帳に追加

電気光学装置の製造方法は、基板(10)に、トランジスタの半導体層(1a)を形成する半導体層形成工程と、半導体層のチャネル部(1a’)に不純物を導入する不純物導入工程と、基板を平面的に見て、チャネル部に重なるようにゲート電極(3b)を形成するゲート電極形成工程とを備える。 - 特許庁

To provide a surface treatment agent and a resist composition for a freezing process being applied to the first resist pattern in a double patterning method and satisfying the requirements for preventing line width and LWR of the first resist pattern from fluctuating due to the freezing process and the formation of the second resist pattern and resist composition and to provide a pattern formation process by use of them.例文帳に追加

ダブルパターニング法における第一のレジストパターンに対して行うフリージングプロセスにおいて、フリージング処理および第二のレジストパターンの形成によって、第一のレジストパターンの線幅及びLWRが変動しないという要件を満たすフリージングプロセス用の表面処理剤、レジスト組成物およびそれらを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

The method includes a process wherein a water-based emulsion of monomers are prepared without using a surface active agent, a process wherein a free-radical initiator is added to at least a part of the emulsion for the initiation of seed polymerization for the formation of a seed polymer, and a process wherein monomers are added to the resultant composition for the completion of polymerization for the formation of a latex polymer.例文帳に追加

この製法は、界面活性剤を用いずにモノマー類の水性エマルションを調製する工程と、エマルションの少なくとも一部に遊離基開始剤を加え、種重合を開始して種ポリマーを生成する工程と、この組成物にモノマーを追加して重合を完了し、ラテックスポリマーを生成する工程とを含むものである。 - 特許庁

Provided is a semiconductor device manufacturing method for manufacturing a gallium nitride-based semiconductor device which comprises: a first semiconductor layer formation process where a first semiconductor layer composed of a gallium nitride-based semiconductor is formed; and a recess part formation process where a recess part is formed by partially dry-etching the first semiconductor layer by means of a micro wave plasma process while using bromine-based gas.例文帳に追加

窒化ガリウム系半導体からなる第1の半導体層を形成する第1半導体層形成工程と、第1の半導体層の一部を、臭素系ガスを用いて、マイクロ波プラズマプロセスでドライエッチングして、リセス部を形成するリセス部形成工程と、を備え、窒化ガリウム系半導体装置を製造する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the element substrate 100 includes: a process for forming a sacrifice layer having a first pattern on a substrate 10; a process for forming a metal layer at the upper portion of the formation and non-formation regions of the sacrifice layer; and a process for forming a metal layer 34 having a second pattern by removing the sacrifice layer by heating.例文帳に追加

本発明にかかる素子基板100の製造方法は、基板10上に第1のパターンの犠牲層を形成する工程と、前記犠牲層の形成領域および非形成領域の上方に金属層を形成する工程と、加熱することにより、前記犠牲層を除去して、第2のパターンの金属層34を形成する工程と、を含む。 - 特許庁

In this manufacturing method of a cylindrical secondary battery, an electrode group groove formation process first executes a diameter-reducing process for reducing diameter from a part above a part of an armoring can where an electrode group is housed to an opening and thereafter executes a groove formation process for forming a groove toward the inside from the outside in the part of the armoring can reduced in diameter.例文帳に追加

円筒型二次電池の製造方法において、電極群溝形成工程が、まず外装缶の電極群が収納されている部位より上から開口部までを縮径する縮径工程を行い、その後、前記外装缶の縮径した部分に外側から内側に向けて溝を入れる溝入れ工程を行う円筒型二次電池の製造方法。 - 特許庁

In the method of manufacturing a semiconductor device using CMOS structure, the above theme is solved by the method of manufacturing a semiconductor device including a process of implanting ions for formation of each region, sharing a mask for formation of a well region and formation of source/drain regions.例文帳に追加

CMOS構造を用いた半導体装置の製造方法において、ウェル領域形成とソース/ドレイン領域形成のためのマスクを共用し、それぞれの領域形成のためのイオンを垂直に注入する工程を含む半導体装置の製造方法により上記課題を解決する。 - 特許庁

In addition, the device setting manager 127 retrieves an image formation device having a similarity value set in a predetermined range when the remote operation source device is not in a state that it instantly prints, and specifies the image formation device as a substitutional image formation device executing an instant printing process on behalf of the remote operation source device.例文帳に追加

さらに、デバイス設定マネージャ127は、遠隔操作元装置が即時印刷可能状態ではない場合に、類似性値が所定の範囲内にある画像形成装置を検索して、遠隔操作元装置に代替して即時印刷処理を行う代替画像形成装置として特定する。 - 特許庁

例文

To provide an image formation system in which, first, a working hour can be shortened, and second, when an image formation device having different performance is connected also, an appropriate image formation process is executed, and third, an operation, etc., are effective for an operator, etc., who utilizes a tandem output.例文帳に追加

第一に作業時間短縮が可能であり、第二に異なる性能を有する画像形成装置が接続される場合にあっても適切な画像形成処理が実行され、第三に、タンデム出力を利用する者等にとって、その操作等が効率的なものとなる画像形成システムを提供する。 - 特許庁




  
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