「formation process」に関連した英語例文の一覧と使い方(34ページ目) - Weblio英語例文検索

The manufacturing method of the semiconductor substrate related to a first aspect includes: a chromium layer film formation process for film-forming a chromium layer having average layer thickness of not less than 7 nm and less than 45 nm on a base substrate; and a nitriding process for nitriding the chromium layer at not less than 1,000°C temperature for forming a chromium nitride film.例文帳に追加

本発明の第１側面に係る半導体基板の製造方法は、下地基板の上にクロム層を７ｎｍ以上４５ｎｍ未満の平均層厚で成膜するクロム層成膜工程と、前記クロム層を１０００℃以上の温度で窒化してクロム窒化物膜にする窒化工程とを備えたことを特徴とする。 - 特許庁

A stencil mask manufacturing process in the preceding back etching process includes forming gradations of a film thickness of a resist left in a pattern field, after developing by adjusting the amount of exposed light, and selectively thinning a masking substrate film in a minute pattern formation field, with an aspect ratio higher than that of the surrounding region, prior to patterning.例文帳に追加

先行バックエッチングプロセスのステンシルマスク製造工程において、現像後のパターン領域のレジスト残膜厚に露光量を調整することにより階調をつけ、周辺領域よりアスペクト比が高い微細パターン形成領域のマスク基板膜厚を選択的にパターニング以前に薄膜化することにより、ステンシルマスクを形成する。 - 特許庁

Then, when drawing processing is completed and printing start request is made to an engine part 108, start of the image formation process of MYK of a plane of color where drawing point discrimination is performed and a plane of a color used by the stamp pattern is performed by the engine part 108, synchronized with the imaging process operation of the engine part 108, and the data are printed and outputted.例文帳に追加

そして、描画処理が完了し、エンジン部１０８に印刷起動を行う際、描画点判別された色のプレーンとスタンプパターンが使用する色のプレーンのＭＹＫの作像プロセス起動をエンジン部１０８で行い、エンジン部１０８の作像プロセス動作に同期させて印刷出力する。 - 特許庁

The method for manufacturing the filter with the ceramic porous membrane as the separation membrane is provided with a process in which a formed film body is obtained by forming a film-forming layer on a surface of a base material made of a porous material by using slurry for film-formation containing aggregate particles consisting of ceramic and a process in which a calcined body is obtained by calcining the formed film body.例文帳に追加

セラミックスからなる骨材粒子を含む成膜用のスラリーを用いて、多孔質材料からなる基材の表面に成膜層を形成して成膜体を得る工程と、成膜体を焼成して焼成体を得る工程とを備えたセラミックス多孔質膜を分離膜とするフィルタの製造方法である。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing flash memory devices that prevents a polysilicon layer from being oxidated on the interface of the polysilicon layer and dielectric film in the dielectric film formation process and the subsequent process, by forming a floating-gate polysilicon layer in a laminated structure of doped and undorped polysilicon layers.例文帳に追加

フローティングゲート用ポリシリコン層をドーフトポリシリコン層とアンドーフトポリシリコン層の積層構造で形成することにより、誘電体膜を形成する過程又は他の後続工程でポリシリコン層と誘電体膜の界面でポリシリコン層が酸化することを防止することができるフラッシュメモリ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of a substrate for MOSFET comprises: a substrate preparation process for preparing substrates; and a p-type well formation process for forming a p-type well made of a semiconductor containing Mg, namely a p-type-conductivity impurity, and a transition metal Ti on the substrate.例文帳に追加

ＭＯＳＦＥＴ用基板の製造方法は、基板が準備される基板準備工程と、当該基板上に、導電型がｐ型である不純物としてのＭｇを含むとともに、遷移金属としてのＴｉを含有する半導体からなるｐ型ウェルが形成されるｐ型ウェル形成工程とを備えている。 - 特許庁

To provide an element for formation of barrier ribs that can shorten the process of producing barrier ribs of plasma display panel, and superior in adhesion to the substrate and shape, and further in stability of long-term preservation, and a method of producing barrier ribs that can shorten process of producing barrier ribs of plasma display panel and form barrier ribs with superior shape.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルのバリアリブ製造工程を短縮化でき、基板との密着性及び形状に優れ、さらに長期保存安定性に優れたバリアリブ形成用エレメント並びにプラズマディスプレイパネルのバリアリブ製造工程を短縮化でき、形状の優れたバリアリブを形成できるバリアリブの製造法を提供する。 - 特許庁

To provide a developing device capable of reducing adverse influence exerted on image formation even when the amount of toner in a toner storage part is fluctuated, and making the driving torque small and reducing the adverse influence exerted on the image formation even in the case of using a large- capacity toner cartridge, and a process cartridge or an image forming device having the developing device.例文帳に追加

本発明は、トナー収納部のトナー量が変動しても画像形成への悪影響が少なく、また大容量のトナーカートリッジでも駆動トルクが小さく、かつ画像形成への悪影響を少なくすることができる現像装置及びこれを有するプロセスカートリッジ又は画像形成装置を提供することを目的としている。 - 特許庁

In carrying out a salicide process, at least in a part of an exposure region of a semiconductor substrate surface other than an element formation region, a salicide block used as a mask preventing a silicide layer from being formed on the semiconductor substrate surface in the exposure region of the semiconductor substrate surface other than the element formation region is formed on the semiconductor substrate surface.例文帳に追加

サリサイド工程を行うに際し、素子形成領域以外の半導体基板表面の露出領域の少なくとも一部に、素子形成領域以外の半導体基板表面の露出領域の半導体基板表面にシリサイド層が形成されることを防止するマスクとなるサリサイドブロックを半導体基板表面上に形成する。 - 特許庁

To provide a method for continuously producing high-quality bisphenol A prill in good efficiency and stably for a long period by solving problems such as the reduction of heat conductivity by the formation of an attachment at a heat exchanger in a granulation process, and the increase of differential pressure by the formation of the attachment at a granulation column or the heat exchanger when producing the the bisphenol A prill from the molten bisphenol A.例文帳に追加

溶融ビスフェノールＡからビスフェノールＡプリルを製造するに際し、造粒工程における熱交換器での付着物の生成による伝熱低下や、造粒塔や熱交換器での付着物の生成による差圧増大などを解消し、高品質のビスフェノールＡプリルを長期間安定して連続的に効率良く製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a color filter configured for suppressing a boundary portion between a black matrix and a coloring pixel from being raised by an inexpensive and easy method, without adding a process for polishing after pixel formation, OC layer formation or the like, even when designing a high contrast panel, and displaying an image with high quality, and to provide a manufacturing method therefor, and a liquid crystal display.例文帳に追加

高コントラストのパネル設計であっても、画素形成後の研磨やＯＣ層形成などの工程を追加することなく、低コストかつ平易な方法で、ブラックマトリックスと着色画素との境界部分での盛り上がりが抑制され、高品質の画像を表示することができるカラーフィルタ及びその製造方法並びに液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

A thermoplastic resin and an organic compound which are contained in the formation for powder compacting as a binder is combined so that gasification and removal of the organic compound may be completed at the temperature of under the Vicat softening point that the thermoplastic resin has, in the degreasing process of the compacted article using the formation for powder compaction.例文帳に追加

粉末成形用組成物に含まれるバインダーの熱可塑性樹脂と有機化合物とを、この粉末成形用組成物を用いた成形体の脱脂工程の際、有機化合物の気化および除去が熱可塑性樹脂の有するビカット軟化点の温度未満の温度で完了する熱可塑性樹脂と有機化合物との組み合わせとする。 - 特許庁

To continue an image forming process and secure a required minimum efficiency by using a recording paper corresponding to the other row even in a not regular situation in which recording papers corresponding to one row gets out of stock during the execution of parallel image formation in an image forming device capable of parallel image formation.例文帳に追加

並列画像形成処理が可能な画像形成装置において、並列画像形成処理を実行している途中で、何れかの列に対応する記録用紙のストックがなくなるような定常でない状況下においても、他の列に対応する記録用紙を利用することで、画像形成処理を継続し、必要最小限の効率を確保する。 - 特許庁

During the process of source/drain region formation after the formation of a well region and a gate electrode for the construction of this MOS transistor, Ge or Si ions are first implanted for making amorphous the source/drain forming regions, and then two or more species of impurity ions different in mass number but the same in conductivity type are successively implanted into the regions by using the ion implantation method.例文帳に追加

ＭＯＳ型トランジスタの形成において、ウェル領域、ゲート電極を形成した後、ソース・ドレイン領域を形成する際、Ｇｅ又はＳｉをイオン注入してアモルファス化した後、連続して質量数の異なる２種類以上のイオン種で且つ同じ導電型の不純物をイオン注入法により注入することを特徴とする。 - 特許庁

After a first thermal-oxidation film 10 is formed by a first thermal process on a first transistor formation region, where a first MOS transistor of high threshold voltage is formed and a second transistor formation region where a second MOS transistor of low threshold voltage is formed, a CVD oxide film 11 is laminated over it.例文帳に追加

高しきい値電圧の第１ＭＯＳトランジスタを形成するための第１トランジスタ形成領域１と、低しきい値電圧の第２ＭＯＳトランジスタを形成するための第２トランジスタ形成領域２との上に、第１回目の熱処理を行なって第１の熱酸化膜１０を形成した後、その上にＣＶＤ酸化膜１１を積層する。 - 特許庁

To provide an abrasive and a method of polishing a substrate, which can efficiently perform removal of an excessively formed film layer and planarization of a silicon oxide film and an embedded film of a metal or the like with high-level quality and with easy process control in a recess CMP technology such as for shallow trench isolation formation and for embedded metal wiring formation and in a planarization CMP technology for an interlayer insulation layer.例文帳に追加

シャロー・トレンチ分離形成、金属埋め込み配線形成等のリセスＣＭＰ技術及び層間絶縁膜の平坦化ＣＭＰ技術において、酸化珪素膜、金属等の埋め込み膜の余分な成膜層の除去及び平坦化を効率的、高レベルに、かつプロセス管理も容易に行うことができる研磨剤及び研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus for producing a billet for semi-solid formation with which further fine and uniform spherical grains are obtained and such advantages as the improvement of energy efficiency, the saving of producing cost, the improvement of mechanical properties, the simplification of a casting process and the shortening of production time can be realized, and a high quality billet for semi-solid formation can continuously be produced.例文帳に追加

より微細かつ均一な球状化粒子を得ると同時にエネルギ効率の改善、製造コストの節減、機械的性質の向上、鋳造工程の簡便化および製造時間短縮の利点を実現でき、短時間に高品質の半溶融成形用ビレットを連続して製造できる半溶融成形用ビレットの製造装置を提供する。 - 特許庁

A semiconductor layer formation process is performed, where a semiconductor layer 13 made of an n-type low-resistance region having higher impurity concentration than a semiconductor substrate 1 at the scheduled formation part (inside the semiconductor substrate 1 at one surface side of the semiconductor substrate 1) of the electrical heating element 3 at one surface side of the semiconductor substrate 1 made of a p-type silicon substrate.例文帳に追加

ｐ形シリコン基板からなる半導体基板１の一表面側における発熱体３の形成予定部位（半導体基板１の上記一表面側における半導体基板１内）に半導体基板１よりも不純物濃度が高いｎ形の低抵抗領域からなる半導体層１３を形成する半導体層形成工程を行う。 - 特許庁

Faults of the electrode pattern and their locations are grasped by conducting appearance inspection immediately after formation of the electrode on a glass substrate, correction of the electrode is conducted standing on information obtained with the appearance inspection, then following formation process of each composing layer is executed, followed by a non-contact continuity test is performed as the final inspection before shipment.例文帳に追加

ガラス基板上に電極を形成した直後に外観検査を実施して電極パターンの欠陥及びその位置を把握し、その外観検査で得た情報を基にして電極の修正を実施し、それ以降の各構成層の形成工程を経た後に、出荷前の最終検査として非接触による電極の導通検査を行う。 - 特許庁

This camera system includes a focus detection control means capable of controlling the plurality of the focus detection systems for the image formation optical system; and a drive control means for controlling the drive of the image formation optical system, wherein the focus detection control means transmits discrimination information designating which of the plurality of the focus detection systems is in the process of execution to the drive control means.例文帳に追加

カメラシステムは、結像光学系に対する複数の焦点検出方式が制御可能な焦点検出制御手段と、結像光学系の駆動を制御する駆動制御手段とを備え、この焦点検出制御手段は、複数の焦点検出方式のうちのいずれを実行中かを示す識別情報を駆動制御手段に送信する。 - 特許庁

To provide a process cartridge and an image forming apparatus that can suppress deterioration of image quality caused by passage of residual toner after transfer through a latent image formation area during latent image formation and minimize a potential quantity varying before a latent image carrier surface charged by a charging means reaches a development area.例文帳に追加

転写残トナーが潜像画像形成中に潜像形成領域を通過することによって生じる画質劣化を抑制するとともに、帯電手段により帯電された潜像担持体表面が現像領域に到達するまでに変化する電位量を最小にすることができるプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

The method has a process for forming a resist pattern on a film formed on a semiconductor substrate, performing the dry etching using the resist pattern as a mask to form the micro pattern, a process for supplying a resist removing liquid to the micro pattern formation plane of the semiconductor substrate to remove the resist pattern by single wafer processing, and a process for performing rinsing on the semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板に設けられた膜上にレジストパターンを形成し、このレジストパターンをマスクに用いてドライエッチングを行い、前記膜の微細パターンを形成する工程と、前記半導体基板の微細パターン形成面にレジスト除去液を供給し、枚葉式処理により前記レジストパターンを除去する工程と、前記半導体基板をリンス処理する工程と、を有する半導体装置の製造方法。 - 特許庁

This semiconductor substrate manufacturing method comprises a growth process for growing a second monocrystalline semiconductor 12 on a first monocrystalline semiconductor 10, a block layer formation process for forming a block layer 12a on the second monocrystalline semiconductor 12, and a stress relaxation process for producing a defective crystal 15 in a location deeper than the block layer 12, thus relaxing stress to the second monocrystalline semiconductor 12.例文帳に追加

半導体基板の製造方法は、第１単結晶半導体１０の上に第２単結晶半導体１２を成長させる成長工程と、第２単結晶半導体１２に阻止層１２ａを形成する阻止層形成工程と、阻止層１２ａよりも深い部分に結晶欠陥１５を発生させて第２単結晶半導体１２に作用する応力を緩和する緩和工程とを含む。 - 特許庁

To provide a method for inhibiting formation of a copolymer of divinylbenzene, formed by the manufacture of an aromatic vinyl compound or intermixed as an accompaniment of manufacturing raw materials of the aromatic vinyl compound, with an aromatic vinyl compound, and a method for inhibiting stains by deposition of the copolymer on apparatuses or equipments in a distillation process, a purification process or a storage process of the aromatic vinyl compound.例文帳に追加

芳香族ビニル化合物の蒸留工程、精製工程あるいは貯蔵工程において、芳香族ビニル化合物の製造によって生成したジビニルベンゼンあるいは芳香族ビニル化合物の製造原料に伴って混入したジビニルベンゼンと芳香族ビニル化合物との共重合体の生成抑制方法および装置類・設備類への該共重合体の付着による汚れの抑制方法を提供することにある。 - 特許庁

A differential image formation part 22 forms differential information between image data taken in this time, and image data of a precedent one page stored in a precedent one page printing image storage part 210, and sends the information to an image inspection process part 24.例文帳に追加

差分画像生成部２２では、今回取り込まれた画像データと、１頁前印刷画像記憶部２１０に記憶されている１頁前の画像データとの差分情報を生成して画像検査処理部２４に送出する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor having a good coated surface, high potential by electrostatic charge and high sensitivity, excellent in repetitive characteristics and free of image failures such as fog, pinholes and density unevenness in image formation by an electrophotographic process.例文帳に追加

良好な塗工面を有し、帯電電位が高く、高感度で繰り返し特性に優れ、かつ電子写真プロセスにより画像形成を行う際に、カブリ、ピンホール、濃度ムラ等の画像故障のない電子写真感光体を提供すること。 - 特許庁

To obtain a treating agent composition for a textile product that does not require sorting and is applied to the automatic input port of a washing machine in a washing process and yet provides a textile product with proper firmness and touch and controls wrinkle formation.例文帳に追加

洗濯工程で仕分けの必要がなく、洗濯機の自動投入口に応用でき、しかも衣料等の繊維製品に適度な張りと肌ざわりを付与し、しわの形成を抑制する繊維製品処理剤組成物の提供。 - 特許庁

To provide a process for producing a liquid crystal display device which is capable of producing the liquid crystal display device having terminal electrodes formed of metal allowing the easy formation of an insulative oxidized film on the surface by inspecting the lighting thereof with high reliability.例文帳に追加

表面に絶縁性の酸化膜が形成されやすい金属で形成された端子電極を備える液晶表示装置を高い信頼性で点灯検査して製造できる、液晶表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

This method for producing the methane hydrate is characterized in that the methane is brought into contact with water at a temperature ≥1°C lower than the equilibrium temperature for the formation of the methane hydrate under the production pressure in the production process of the methane hydrate.例文帳に追加

メタン水和物の製造工程において、製造圧力に対するメタン水和物の生成平衡温度より１℃以上低い温度で、メタンと水を接触させることを特徴とするメタン水和物の製造方法。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus that can constantly obtain a stable density image by estimating VL changes of a photoreceptor drum, while taking into account the effect of a fixing device on a heat source for each process station, and by controlling image formation according to it.例文帳に追加

定着装置からの熱源の影響をプロセスステーション毎に考慮して、感光ドラムのＶＬ変動を予測し、それに応じて画像形成制御を行い、常に安定した濃度の画像を得られる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The process (b) includes processes of: measuring the film thickness of the adjustment layer during formation of the adjustment layer, and adjusting the optical film thickness of the adjustment layer based on the measurement result of the film thickness of the adjustment layer.例文帳に追加

また、工程ｂ）は、前記調整層の成膜中に前記調整層の膜厚を測定する工程と、前記調整層の膜厚の測定結果に基づいて前記調整層の光学膜厚を調整する工程とを有する。 - 特許庁

Also, the formation of circuits on the display panel of a liquid crystal display device and the like can be attained, because of the simple circuitry and the formability of nonlinear elements by a simple process, such as lamination of metal and insulator.例文帳に追加

また、回路構成が簡単であること、非線型素子は金属と絶縁体の積層などの簡便なプロセスでの形成可能であることにより、液晶表示装置の表示パネル上などにも回路を形成することが可能である。 - 特許庁

To suppress the formation of undesirable natural oxide films on the boundary planes between a semiconductor substrate and gate insulating films of MIS-FETs, which have the respective gate insulation films with thicknesses different from each other in a process in which the MIS-FETS are formed on the same semiconductor substrate.例文帳に追加

ゲート絶縁膜の厚さが互いに異なるＭＩＳＦＥＴを同一基板上に形成するプロセスにおいて、半導体基板とゲート絶縁膜との界面に不所望の自然酸化膜が形成されることを抑制する。 - 特許庁

To provide a fluorine-containing, water repellent and oil repellent agent which does not require a specific drying process, reduces the formation of a blotch on the treated surface, has an ozone depletion potential of zero and a low global warming potential, is incombustible and harmless for practical purposes.例文帳に追加

特別な乾燥過程を必要とせず、被処理表面へのシミの発生も少なく、オゾン破壊係数がゼロで地球温暖化係数も低く、不燃性で実用上無害なフッ素系撥水・撥油剤を提供すること - 特許庁

To obtain an image forming device by which a light emitting element array, an image formation element array and an image carrier are easily and highly accurately positioned without deteriorating an advantage by which a process cartridge is attached and detached to/from a device main body.例文帳に追加

プロセスカートリッジを装置本体に対して着脱可能であるという利点を損なうことなく、発光素子アレイと結像素子アレイと像担持体とを、簡便かつ高精度に位置決め可能とする画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a new fabric for simultaneously meeting lightweightness and thermal insulation, and to provide a method for producing such a fabric by a special and ideal hollow structure forming process comprising fabric formation followed by running out and removing the core component in the dyeing finishing step.例文帳に追加

布帛形成後に染色加工での芯成分溶出除去という特殊かつ理想的な中空構造形成法により、軽量性と保温性を同時に満足するための新規な布帛とその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The pattern forming device calculates drawing data based on the measurement data (measurement data of the elongation and contraction of the base material length, the measurement data of the position of the previous process pattern) and performs the formation of the fresh pattern based on the drawing data (step 905).例文帳に追加

パターン形成装置は、測定データ（基材長の伸縮の測定データ、前工程パターンの位置の測定データ）に基づいて描画データを算出し、当該描画データに基づいて新たなパターンの形成を行う（ステップ９０５）。 - 特許庁

Prior to formation of a silicide in the gate 102 and drain-source regions 108, 110 of a MOS device 100, exposed reactive silicon regions 112, 114, 116 covered with a metal are subjected to reactive plasma cleaning process.例文帳に追加

ＭＯＳデバイス１００のゲート１０２及びドレーン／ソース領域１０８、１１０内にシリサイドを形成するに先だって、金属に覆われ反応する露出されたシリコン領域１１２、１１４、１１６は、反応性プラズマ洗浄プロセスを受ける。 - 特許庁

Since the temperature increasing rate is set to a level as high as about 50°C/min in the present burning method, there is little formation of seed crystal from amorphous silica fiber contained in the green sheet 12 in the heating process and little growth of seed crystal if any.例文帳に追加

昇温速度が 50(℃／分) 程度と高い値に設定されていることから、昇温過程において未焼成シート１２に含まれる非晶質シリカ繊維からは種晶が生成し難く、且つ生成した種晶も成長し難い。 - 特許庁

To prevent a defective pickup caused by insufficient formation of an oxide film on a rear face of a wafer, in a semiconductor device manufacturing method which includes an in-line process wherein immediately after finishing grinding the rear face, a dicing tape is pasted to the ground face.例文帳に追加

裏面研削終了後直ちに研削面にダイシングテープを貼着するインライン化工程を含む半導体装置の製造方法において、ウエハ裏面での酸化膜の形成不足に起因するピックアップ不良を解消すること。 - 特許庁

To provide a new method for producing a 15-ketoprostaglandin E derivative, comprising such a hydrolyzing (deprotecting) reaction process using a phosphoric acid compound as to be extremely slight in the formation of byproduct prostaglandin A and industrializable under mild conditions.例文帳に追加

１５-ケトプロスタグランジンＥ誘導体の新規製造法であって、プロスタグランジンＡ類の副生が極めて少なく、穏和な条件で、工業化可能な、リン酸化合物を用いた加水分解（脱保護）反応工程を含む方法を提供する。 - 特許庁

In the image forming apparatus and the process cartridge, a roughness formation member comprised of nonmagnetic steel which makes iron the main material, an alloy which makes aluminum the main material, an alloy which makes copper the main material, and a resin or fibers is formed on the periphery of a developing sleeve.例文帳に追加

現像スリーブ外周に、鉄を主材とした非磁性鋼、アルミニウムを主材とした合金、銅を主材とした合金、樹脂またはファイバーからなる粗さ形成部材を形成した画像形成装置およびプロセスカートリッジ。 - 特許庁

And also, in a forming process of the convex bodies 10, the convex body 10 can be formed at a different position in the partitioning area P, therefore, a formation position of the convex body 10 for every partitioning area can be optimized.例文帳に追加

また、凸状体１０の形成工程では、区画領域Ｐにおける異なる位置に凸状体１０を形成することが可能であるため、区画領域ごとに凸状体１０の形成位置を最適化することができる。 - 特許庁

To prevent the formation of string shaped undulations in a recording material which is subjected to a fixing process, in a fixing device for separating the recording material from a fixing member by an air separation means and separating the recording material from a pressure member by a separation claw.例文帳に追加

空気分離手段により記録材を定着部材から分離し、分離爪により記録材を加圧部材から分離する定着装置において、定着処理された記録材にスジ状の凹凸が形成されるのを防止する。 - 特許庁

To provide a coating film forming apparatus capable of forming a uniform coating film even on a coating object having a complicated cross-sectional shape and not requiring a process for removing an attached medium from the coating object after the coating formation is completed.例文帳に追加

断面形状が複雑な塗装対象物などでも均一な塗膜を形成でき、且つ、塗膜形成を完了した塗装対象物から付着媒体を除去する工程が不要な塗膜形成装置を提供する。 - 特許庁