「formation process」に関連した英語例文の一覧と使い方(32ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a process for producing an electrophotographic photoreceptor which makes it possible obtain good image printing quality by coating application formation of a layer which is free of coating application defects to be the cause for image printing defects and is uniform over the entire surface of a conductive substrate.例文帳に追加

印字不良の原因となる塗布欠陥がなく、導電性基体全面にわたり均一な層を塗布形成し良好な印字品質が得られる電子写真感光体の製造方法を提供すること。 - 特許庁

A printer unit includes each module, such as a laser module 3, an image formation process module 4, a paper feeding cassette module 5, a carriage module 6, a double-side module 7, a fixing module 8, a paper discharging module 9, and a common module 10.例文帳に追加

プリンタ部においては、レーザモジュール３、作像プロセスモジュール４、給紙カセットモジュール５、搬送モジュール６、両面モジュール７、定着モジュール８、排紙モジュール９、共有データモジュール１０の各モジュールが設けられている。 - 特許庁

To prevent wrinkles from occurring on a flexible printed circuit board by a simpler configuration when a release film is separated in a process of pasting a cover-lay film and the release film on a printed circuit base material for the formation of the flexible printed circuit board.例文帳に追加

プリント回路基材にカバーレイフィルムとリリースフィルムを貼り合わせてフレキシブルプリント基板を製造する工程で、リリースフィルムを剥離する際に、より簡単な構成で、フレキシブルプリント基板にしわが発生しないようにする。 - 特許庁

To obtain a developing device provided with a constitution where deterioration in feeding of developer or image reproducing ability are prevented and where a process for this can be executed without delaying the image formation, and an image forming device utilizing it.例文帳に追加

現像剤の供給性や画像再現性の悪化を防止するとともに、このための処理が画像形成を遅らせることなく実行できる構成を備えた現像装置及びこれを用いた画像形成装置を得る。 - 特許庁

To provide a producing method for obtaining a high-quality carbon fiber by suppressing the formation of low molecular substances such as silicon oxide resulted from a silicone compound in a lubricant and by improving the passable property of the fiber through the manufacturing process.例文帳に追加

油剤中のシリコーン系化合物に由来する酸化珪素等の低分子物質の生成を低減し、製造過程での繊維の通過性を改善して、高品質の炭素繊維を得る生産方法を開発する。 - 特許庁

To provide a polymerizable fluoromonomer and a fluoropolymer for a resist suitable for use in microfabrication by immersion exposure or by a double patterning process based on immersion exposure, a resist material and a method of pattern formation using the same.例文帳に追加

液浸露光や、液浸のダブルパターンニングプロセスで行われる微細加工に適するレジスト用の含フッ素重合性単量体および含フッ素重合体、それらを使ったレジスト材料及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A process of coating the root part of the anode wire on one end surface 2a of the anode body 2 with water-repellent wax 11 is added before the formation of the solid-state electrolytic layer 5 on the anode body 2.例文帳に追加

前記陽極体２に固体電解質層５を形成する前において、前記陽極体２の一端面２ａにおける陽極ワイヤー３の付け根部に、撥水性のワックス１１を塗布する工程を付加する。 - 特許庁

In a formation process of reading drains FD, a plurality of reading drains FD are formed in parts with the ions of the impurities implanted in either of the respective parts PS1, PS2 out of the pixel separation wells PS.例文帳に追加

読出しドレインＦＤの形成工程では、画素分離ウェルＰＳのうち、各部ＰＳ１，ＰＳ２のいずれか一方において不純物がイオン注入された部分に、複数の読出しドレインＦＤを形成する。 - 特許庁

The process utilizes spraying water and/or a polyol (such as a sugar alcohol or a sugar) solution onto chocolate or a compound mass thereby inducing the formation of heat resistant chocolate or a heat resistant compound mass.例文帳に追加

該方法は、水および／または多価アルコール（糖アルコールまたは糖など）溶液をチョコレートまたは配合素材上に噴霧することを利用し、それにより耐熱性チョコレートまたは耐熱性配合素材の形成が誘発される。 - 特許庁

Inside of a chamber is cleaned with the processing using plasma containing hydrogen (step S1) and processes such as formation of trench and via-hole are conducted by etching to a wafer using the chamber having completed the cleaning process (steps S2, S3).例文帳に追加

チャンバ内を水素を含むプラズマを用いて処理することによってクリーニングし（ステップＳ１）、クリーニングされたチャンバを用い、ウェーハにエッチングによりトレンチやビアホールを形成する等の加工を行う（ステップＳ２，Ｓ３）。 - 特許庁

To uniformly process a substrate surface and to suppress the formation of abnormal projections even in substrates different in surface energy by using slurry corresponding to the surface energy of the substrate to be subjected to texture processing.例文帳に追加

テクスチャ加工を施すべき基板の表面エネルギーに対応したスラリーを用いることにより、表面エネルギーが異なるものであっても、基板表面が均一に加工され、異常突起の形成が抑制されるようにする。 - 特許庁

A second thin gate oxide film that is formed on a semiconductor substrate 10 in a second region goes through the elimination of a through oxide film 20 after ion implantation and a formation process of the gate oxide film only once.例文帳に追加

第２領域における半導体基板１０に形成された膜厚の薄い第２ゲート酸化膜は、イオン注入後のスルー酸化膜２０の除去、およびゲート酸化膜の形成工程を１度しか経ない。 - 特許庁

To provide an element mounting board and an element mounting method capable of reducing a manufacturing cost by enabling the formation of soldering bump even when the surface of electric wiring having soldering wettability is exposed and shortening a manufacturing process.例文帳に追加

半田濡れ性を有する電気配線の表面が露出していても半田バンプの形成が可能となり、製造工程を短縮し、製造コストを低減できる素子実装基板および素子実装方法を提供する。 - 特許庁

In a reinterconnect wiring formation process of WLCSP, at least part of a rewiring 3 for connecting bonding pads 1 of a semiconductor chip and bump pads 2 is formed by photolithography using no photo mask.例文帳に追加

ＷＬＣＳＰであって、再配線形成工程では、半導体チップのボンディングパッド１とバンプパッド２とを接続する再配線３の少なくとも一部をフォトマスクを使用しないフォトリソグラフィ技術を用いて形成する。 - 特許庁

If another PEDTT layer is formed by applying a solution of PEDTT on the composite conductive layer, the number of repeated polymerizations required for the formation of the electrolyte can be reduced, thus simplifying a process.例文帳に追加

さらに前記複合導電層にさらにＰＥＤＴＴ層を溶液塗布により形成することにより、電解質形成のために必要な重合繰り返し回数を減少させ、工程を簡略化するものである。 - 特許庁

To provide a bone prosthetic material capable of replacement to an autologous bone in a short period of time by simplifying the manufacturing process, achieving cell adhesion in an early stage after the prosthesis and accelerating bone formation, and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

製造過程を簡易なものとするとともに、補填後の細胞接着を早期に実現させて骨形成を促進し、自家骨への置換を短期間で行い得る骨補填材、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new manufacturing method which eliminates the need of posterior processes such as CMP in wiring formation process when manufacturing a wiring board having at least one conductor layer and one resin insulation layer.例文帳に追加

導体層と樹脂絶縁層とをそれぞれ少なくとも一層有する配線基板を製造するに際し、配線形成プロセスにおいてＣＭＰ等の後加工を必要としない新規な製造方法を提供する。 - 特許庁

To permit formation through the appropriation of an MOS process and secure a sufficient collector current, in reference to a horizontal bipolar transistor having a structure optimum for forming the same on an SOI substrate.例文帳に追加

この発明は、ＳＯＩ基板上に形成するうえで好適な構造を有する横型バイポーラトランジスタに関し、ＭＯＳプロセスの流用による形成を可能とし、かつ、十分なコレクタ電流を確保することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for forming an inner liner member which can suppress the increase of tire weight and a defective process and improve the efficiency of formation and a pneumatic tire obtained by using the member.例文帳に追加

タイヤ重量の増加および工程不良を抑制するとともに、形成効率を向上することができるインナーライナー部材の形成方法と、そのインナーライナー部材を用いて得られる空気入りタイヤを提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which attains resist formation by a photographic process with good pattern accuracy by development using an aqueous alkali solution and exhibits satisfactory heat resistance and flexibility by processing at a low temperature.例文帳に追加

写真法によるパターン精度の良いレジスト形成が、アルカリ水溶液を用いた現像で可能であり、また、低温での加工で十分な耐熱性及び柔軟性を発現する、感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The close contact of the irradiation object W with the light incident section 32 allows formation of a more gradual slope on the photoresist R, without immersion of the irradiation object W in the liquid, than in an exposure process in the air.例文帳に追加

被照射物Ｗが光入射部３２に密着しているので、液体中に被照射物Ｗを浸すことなく大気中で露光するよりレジストＲの表面に緩やかな斜面を形成することができる。 - 特許庁

An insulating annular shielding plate 5 having an elliptical center aperture 9 is arranged between an anode electrode 4 and the wafer 1 in regard to the formation of the gold bump on the semiconductor wafer 1 by the electric plating process.例文帳に追加

半導体ウエハ１上に金バンプを電気メッキで形成するに当たり、アノード電極４とウエハ１の間に、楕円型の中央開口部９を有する絶縁性環状遮蔽板５を配置するものである。 - 特許庁

In a formation process of the photocatalytic film, the trifunctional silane and the tetrafunctional silane are hydrolyzed or polycondensed in the presence of an alcohol or other organic solvents, water and an acid catalyst to form a photocatalytic film-forming sol.例文帳に追加

光触媒皮膜は、式ＲＳｉ（Ｘ）_3 で表される３官能シランと、式Ｓｉ（Ｘ）_4 で表される４官能シランとの加水分解・重縮合物と、光触媒としての二酸化チタン粒子とよりなる。 - 特許庁

Then, the semiconductor substrate 1 which is formed with the coat film 12 is taken out from the wafer container, and undergoes a thin film formation process 13 after the coat film 12 is removed from the surface of the semiconductor substrate 11 by pyrolysis.例文帳に追加

そして、この被覆膜１２が形成された半導体基板１をウェハ容器から取り出し、被覆膜１２を熱分解により当該半導体基板１１表面から除去してから、薄膜形成工程１３を行う。 - 特許庁

The inner edge of each control opening is retreated as compared with the inner edge of the insulation layer opening of the insulation layer 401 to prevent sag of silver paste for the gate electrodes into the insulation layer opening in a formation process of the gate electrodes 201.例文帳に追加

この制御開口の内縁は絶縁層４０１の絶縁層開口の内縁よりも後退させ、ゲート電極２０１の形成工程で、当該ゲート電極用の銀ペーストの絶縁層開口への垂れを防止する。 - 特許庁

Further, disclosed are a manufacturing method of a polyimide wiring board including a wiring formation process of forming a wiring pattern after the manufacturing method of the metal thin film is implemented, and the polyimide wiring board manufactured by the same method.例文帳に追加

該金属薄膜の製造方法を実施した後に、配線パターンを形成する配線形成工程を含むことを特徴とするポリイミド配線板の製造方法、および該方法によって製造されたポリイミド配線板。 - 特許庁

This invention concerns a highly efficient feat absorbing substrate, and includes formation of extrusions and indentations on the surface of the heat absorbing substrate and the etching medium used in this process. 例文帳に追加

この発明は、熱吸収効率の高い基板を得るためのものであって、スパッタリングによって熱吸収基板の表面をエッチングして凹凸を形成する方法と、その時に使用されるガス状エッチング媒体である。 - 特許庁

To provide a high reliability thin film capacitor by preventing the exfoliation of the periphery of a thin film upper electrode and a dielectric layer from a support substrate, in a photolithographic etching process, after the formation of the thin film upper electrode layer.例文帳に追加

薄膜上部電極層形成後のフォトリソエッチング工程において、薄膜上部電極及び誘電体層の外周部の支持基板からの剥離を防止し、信頼性の高い薄膜コンデンサを提供する。 - 特許庁

In a cutting process K4, regions corresponding to boundary regions between the circuit formation regions are cut to a prescribed depth from the surface opposite from the circuit-formed one, to form parts left untouched on the circuit-formed surface of the substrate.例文帳に追加

切削工程Ｋ４では、反対側表面から回路形成領域間の境界領域に対応する領域を、所定の深さまで切削手段で切削して回路形成面側に切り残し部を形成する。 - 特許庁

To obtain phosphor which has reduced luminance deterioration by baking of a fluorescent screen formation process and high luminous efficiency and emits a blue light, a phosphor paste composition and a VUV-excited light-emitting element using the phosphor.例文帳に追加

蛍光膜形成工程のベーキング処理による輝度劣化が少なく、発光効率の高い青色発光を呈する蛍光体、この蛍光体を用いた蛍光体ペースト組成物並びにＶＵＶ励起発光素子の提供。 - 特許庁

To provide a manufacturing technique for minimizing weaving in winding an electrode group into a nearly oval shape when a winding type manufacturing method is employed in formation of the electrode group in a manufacturing process of a rectangular battery.例文帳に追加

角形電池の製造工程における極板群の形成に際して巻回式の製造方法を採用する場合に、略長円形状に巻回する際の巻きズレを最小限に抑える製造技術を提供する。 - 特許庁

The casting die 41 is used and thereby the stay of a casting dope near the outlet 41a is inhibited so that the formation of a skin coating of a casting dope can be prevented in a casting process.例文帳に追加

流延ダイ４１を用いることにより、流出口４１ａ近傍における流延ドープの滞留が抑制されるため、流延工程において流延ドープに皮張りが生成することを防ぐことができる。 - 特許庁

In the image formation system 1, when a process 31 targeted for retrieval of the log information operates, the log information about this operation is written into a file system (ring file system) 32 in ring buffer format for storage.例文帳に追加

画像形成システム１において、ログ情報取得の対象となるログ取得対象プロセス３１が動作すると、その動作のログ情報をリングバッファ形式のファイルシステム（リングファイルシステム）３２に書き込んで記憶する。 - 特許庁

The slope produced in a part along the reserved region in the processed region in the preceding step is removed by the process of the succeeding step, which prevents the formation of projections by adjacent slopes in opposite directions.例文帳に追加

先の工程で加工した領域のうち保存した領域に沿う部位に生じていた傾斜面が後の工程の加工で除去されて、逆向きの傾斜面が隣接して成す突起が生じるのが避けられる。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern-like thin film layer which has a mask layer material having a high heat resistance by a lift-off process and has a good stripping property, while preventing generation of a decomposed gas at its processing temperature upon formation of the thin film.例文帳に追加

マスク層材料の耐熱性が高く、又薄膜形成時の処理温度下での分解ガスの発生もなく、さらに、剥離性が良好なリフトオフ方式のパターン状薄膜層の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polyphenylsulfone porous membrane excellent in a pure water permeation performance, a fractioning performance, strength, heat resistance, a low water absorption property and chemical resistance and further excellent in a process controlling property, a cost efficiency and a pore formation property, and to provide its production method.例文帳に追加

純水透過性能や分画性能、強度、耐熱性、低吸水性、耐薬品性に優れ、さらに工程制御性、コスト性、孔形成性に優れたポリフェニルスルホン多孔膜およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the fixing device, a control part 70 drives the pressurizing mechanism 60 through a driver 71 only in the execution of the image formation process concerned with a printing request and the pressure roller 36b is made away from the heating roller 36a.例文帳に追加

また、印刷要求に係る画像形成プロセスの実行中にのみ制御部７０がドライバ７１を介して加圧機構６０を駆動させるとともに加圧ローラ３６ｂを加熱ローラ３６ａから離間させる。 - 特許庁

Moreover, by including a heat treatment process in the formation of an element, hydrogen is released and emitted from the carbon-hydrogen bonds in an outside base layer 6, which increases the density of carriers in the outside base layer 6 and thereby realizes a low base resistance.例文帳に追加

さらに、素子形成時に熱処理工程を入れることにより、外部ベース層中のＣ−ＨのＨを解離、放出することにより、外部ベース層中のキャリア濃度を増加させ、低いベース抵抗を実現する。 - 特許庁

An insulating film 47 contains an organic functional group such as a methyl group (CH_3) and the temperature during film formation can be decreased compared with a process of forming an insulating 47 comprising only an organic material.例文帳に追加

絶縁膜４７は、メチル基（ＣＨ_３）等の有機官能基を含んでおり、無機材料のみからなる絶縁膜を絶縁膜４７として形成する場合に比べて、成膜時における温度を下げることが可能である。 - 特許庁

To provide a printing plate, capable of coping with high-quality printing with a special ink for printable electronics and durable against plate washing, after printing in a printing plate which utilizes resist pattern formation by a photolithographic process.例文帳に追加

フォトリソグラフィー法によるレジストパターン形成を利用した印刷版において、プリンタブルエレクトロニクスの特殊なインクによる高品質印刷に対応でき、さらに印刷後の版の洗浄にも耐えうる印刷版を提供すること。 - 特許庁

To provide a blank holder which enables the user to process the other side, keeping a pattern already made at one side of a blank for formation of an exposure mask in non-break condition, and a method of manufacturing the exposure mask.例文帳に追加

露光マスク形成用のブランクスの一方の面に既に形成されたパターンを非破壊に保った状態で、他面の加工を行うことが可能なブランクス保持具および露光マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a light scanning optical device capable of reducing a relative difference of signal detection precision between a plurality of synchronization detection means by eliminating to the extent possible the influence of thermal strain of weld lines on a housing during the process of resin formation.例文帳に追加

樹脂成形時に筺体に生じるウェルドラインの熱歪みによる影響を極力排除して、複数の同期検出手段による信号検出精度の相互差を小さくできる光走査光学装置を得る。 - 特許庁

To provide a high-durability and high-performance image carrier having a longer operating life and capable of high-quality image formation over a prolonged period of time, and an image forming method, an image forming apparatus and a process cartridge using the same.例文帳に追加

高耐久性で長期間にわたり高画質の画像形成が可能な長寿命で高性能な像担持体と、それを用いた画像形成方法、画像形成装置およびプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To form an aperture exposing a PAD (pad) in one process and to reliably measure the contact resistance by specifying the vertical position of the PAD, a contact hole or the like in an inspection element formation region.例文帳に追加

検査素子形成領域におけるＰＡＤ及びコンタクトホール等の垂直位置を規定することによって、ＰＡＤを露出させる開孔部を１工程で形成すると共に、確実なコンタクト抵抗の測定を可能にする。 - 特許庁

In the process of forming a protecting layer 8 composed of a metal oxide MgO film, the film formation is carried out within a definite range of a partial pressure, for example of oxygen gas partial pressure in a vapor deposition room 21 which is the film forming room.例文帳に追加

金属酸化膜であるＭｇＯ膜による保護層８を形成する工程において、その際の成膜は、成膜室である蒸着室２１内の、例えば酸素ガスの分圧を一定範囲内として行う。 - 特許庁