例文 (999件) |
formation layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4330件
The silicon nitride film 41 cuts off the diffusion of hydrogen during the formation of upper-layer films to improve, specially, deterioration in the hot-carrier resistance of the N+ poly-NMOS 37 and the controllability and stability of the resistance value of the polysilicon resistor 35.例文帳に追加
シリコン窒化膜41は上層膜の形成時における水素の拡散を遮へいし、特に、N+ポリNMOS27のホットキャリア耐性の劣化を防止し、ポリシリコン抵抗体35の抵抗値の制御性及び安定性を向上させる。 - 特許庁
To provide a method and an apparatus for manufacturing optical thin film capable of suppressing the formation of a diffusion layer that brings about the degradation of reflectance, and reducing light absorption when forming an optical thin film according to an ion beam sputtering method.例文帳に追加
イオンビームスパッタ法により光学薄膜を形成するに際し、反射率低下を招く拡散層の形成を抑制し、光吸収の低減化を図ることが可能となる光学薄膜の製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁
In each of nanocolumns 6 forming a light-emitting diode after its formation, an actual light emission wavelength is measured by a photoluminescence method etc., and if the wavelength is deviated from the desired wavelength, the nanocolumn 6 is thermally oxidized to form a dimension-adjusting layer 10 on its surface.例文帳に追加
発光ダイオードを形成するナノコラム6において、その作成後、フォトルミネッセンス法などで実際の発光波長を測定し、所望とする波長からずれていれば、該ナノコラム6を熱酸化し、表面に径調整層10を形成する。 - 特許庁
In a first coating station ST1 upstream, each of robots 16a to 16c coats a protective layer formation material on a first area group 202 comprising a first roof area 200a, a second roof area 200b and a left bonnet area 200c.例文帳に追加
上流側の第1塗布ステーションST1では、第1ルーフエリア200a、第2ルーフエリア200b及び左ボンネットエリア200cからなる第1エリア群202に対して、各ロボット16a〜16cが保護層形成材を塗布する。 - 特許庁
To provide a pattern formation method capable of uniformly forming the film thickness for every pixel when pattern-transferring an organic layer of an organic EL element using letterpress, and preventing moire at displaying a panel emission, and to provide an organic EL display device.例文帳に追加
有機EL素子の有機層を凸版を用いてパターン転写する場合、画素ごとの膜厚を均一に形成し、パネル発光表示時のモアレを防ぐことが可能なパターン形成方法および有機EL表示装置を提供する。 - 特許庁
To provide a chip 1 of solid porous compact made of valve acting metal powder which ensures formation of a solid electrolytic layer deep into the chip 1.例文帳に追加
弁作用金属の粉末を多孔質に固め成形して成るチップ体1において、このチップ体1に対して固体電解質層を形成する場合に、当該チップ体のうち奥深い部分にまでも確実に固体電解質層を形成できるようにする。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a display device capable of achieving excellent display image quality by forming an organic EL layer having a relatively uniform film thickness in a pixel formation area for display pixels and by improving an aperture ratio of a display panel.例文帳に追加
表示画素の画素形成領域に膜厚が比較的均一な有機EL層を形成して表示パネルの開口率を向上させて、良好な表示画質を実現することができる表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a multilayer film reflecting mirror provided with a multilayer film exhibiting a high photocatalytic function, a manufacturing method for the multi-layer film reflecting mirror capable of realizing film formation of a photocatalytic material without destructing periodic structure of the multilayer, and the like.例文帳に追加
高い光触媒機能を発現した多層膜を具備する多層膜反射鏡、多層膜の周期構造を破壊することなく光触媒材料の成膜を実現できる多層膜反射鏡の製造方法等を提供する。 - 特許庁
The radiation sensitive composition for colored layer formation contains (A) a colorant, (B) a polymer including a repeating unit having a group represented by a formula (1-1) or (1-2), (C) a polyfunctional monomer, and (D) a photopolymerization initiator.例文帳に追加
(A)着色剤、(B)下記式(1−1)又は(1−2)で表される基を有する繰り返し単位を含む重合体、(C)多官能性単量体、(D)光重合開始剤を含有する着色層形成用感放射線性組成物。 - 特許庁
After the brazing, the heat radiation fin formation member 8 is cut at the middle in its height direction; thus simultaneously manufacturing two bases for power modules comprising the heat radiation substrates 2, the insulating substrate 3, the wiring layer 5, and a radiating fin 4.例文帳に追加
このろう付後、放熱フィン形成部材8をその高さ方向の中間部で切断することにより、放熱基板2、絶縁基板3、配線層5および放熱フィン4からなる2つのパワーモジュール用ベースを同時に製造する。 - 特許庁
To provide a developing device having simple constitution by which a good-quality developed image is obtained by realizing the stable control of the electrified amount of toner including a low specific charge area and the formation of a uniform toner layer.例文帳に追加
低比電荷領域を含めた極めて安定したトナーの帯電量制御と、均一なトナー層の形成とを実現することにより、良質な現像画像が得られるようにした構成簡易な現像装置を提供する。 - 特許庁
In the case of a curled print plate, it comes into contact with rollers 78, 80, and this prevents the image formation layer of the print plate from touching the ceiling of the groove 68.例文帳に追加
ここで、特に印刷版がカールしている場合には、誘込溝68内へ誘い込まれる印刷版にコロローラ78、80が接触することで、印刷版の画像形成層が誘込溝68の上壁面に接触することが阻止される。 - 特許庁
To provide a two-component developer that contains a resin coat carrier which does not cause peeling of a resin coating layer and enables stable toner charging even under an image formation environment of being always subjected to stress in a development apparatus like an on-demand printing.例文帳に追加
オンデマンド印刷の様に現像装置内で絶えずストレスを受ける画像形成環境下でも、樹脂コート層が剥離せず、安定したトナー帯電が行える樹脂コートキャリアを含有する二成分現像剤を提供する。 - 特許庁
To provide an electrode in which sufficiently good ohmic contact state can be sustained for the bonding face to the compositional body of a thermocouple even if a material susceptible to formation of an oxide film is employed in a diffusion preventive layer.例文帳に追加
拡散防止層の材料に酸化膜が形成されやすい材料が用いられていても、熱電対の構成体との接合面に対して十分に良好なオーミック接触状態を維持できる電極構造を提供する。 - 特許庁
In addition, the molding device 1 repeats formation of the material layer and emission of the light so as to arrange and form a number of molded objects with elasticity for micro probe on the base substrate 9 within a narrow range at a micro interval in highly positional accuracy.例文帳に追加
造形装置1は、材料層の形成と光の照射とを繰り返してベース基板9上に弾性を有する多数の微細なプローブ用の造形物を、狭範囲に微小間隔にて位置精度良く配列形成する。 - 特許庁
In addition to a first gate 13 for channel formation which is provided between a source 15 and a drain 14 of the MIS transistor, a second gate 20 is provided whose electric potential is fixed for controlling the electric potential of the silicon layer 12 by capacity coupling.例文帳に追加
MISトランジスタのソース15、ドレイン14間に配置されたチャネル形成のための第1のゲート13とは別に、シリコン層12の電位を容量結合により制御するための電位固定された第2のゲート20が設けられる。 - 特許庁
A gate insulated film 13 of a transistor is subjected to sintering treatment at a temperature of 450 to 600°C in a hydrogen atmosphere, only prior to the formation of a wiring layer which is liable to be adversely affected by a high-temperature thermal treatment that is carried out at a temperature of 450°C or higher.例文帳に追加
アルミニウム配線層等の450℃以上の高温の熱処理に弱い配線層を形成する前にのみ、温度条件450℃〜600℃の水素雰囲気中において、トランジスタのゲート絶縁膜13をシンタ処理する。 - 特許庁
To provide crepe confectionery obtained by folding dough into two into a semicircle, and sandwiching ingredients in the folded dough, winding the dough to be formed into almost a conical state so as to have multi-layer whirl formation comprising dough and ingredients to provide new palate feeling and freshness in its appearance.例文帳に追加
2つ折りして半円状とした生地間に具材を挟み、巻回して略円錐状としたことにより、生地と具材からなる複数層の渦巻き構造による新たな食感および外見上の新鮮さを提供する。 - 特許庁
To provide a method for producing a plated body by which the plated body having high corrosion resistance without causing peeling off of a plating layer can be produced with satisfactory workability hardly causing dross in the case of the formation of the plating film.例文帳に追加
高い耐食性を有することに加え、めっき層の剥離が生じ難いめっき体を製造することができ、かつ、めっき層形成の際にドロスが生じ難く、作業性が良好なめっき体の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a laser beam machining method which enables the formation of a large-area hole in a covering layer by a small number of shots and can remove a film, which stays on the hole bottom face, by a small number of shots without a substantial influence on a substrate member.例文帳に追加
被覆層に少ショット数で大面積の穴を開け、穴底面に残存する皮膜を少ショット数で除去するレーザ加工を、下地部材にほとんど影響を与えずに行うレーザ加工方法を提供する。 - 特許庁
According to this method of manufacture, an opening 10 for exposing a bonding pad 5 is formed in flattering film 8 and 9 of organic material which is formed on the top of the bonding pad 5, at formation of color filter layer 3 and on-chip microlenses 4.例文帳に追加
カラーフィルタ層3及びオンチップマイクロレンズ4を形成するに際してボンディングパッド部5の上部に形成された、有機系材料からなる平坦化膜8,9に、ボンディングパッド部5を露出させる開口10を形成する。 - 特許庁
To obtain a printed wiring board having a structure wherein the tone of color of the appearance of the board is less affected, even if a change occurs temporarily in the surface conditions of a core wiring pattern layer, as a result of modifications made to the wiring pattern formation and its pretreatment step.例文帳に追加
配線パターン形成やその前処理工程が変更されて、コア配線パターン層表面状態に仮に変化が生じても、基板の外観色調に影響が及びにくい構造を有するプリント配線基板を提供する。 - 特許庁
To provide a printed matter which has irregularity on its surface exhibiting excellent feeling of irregularity and is not hindered in respect of the formation of irregularity by an irregularity-forming layer even when the surface of a base material is a rough face having a PPS smoothness of 0.8 μm or more.例文帳に追加
基材の表面のPPS平滑度が0.8μm以上の粗面であっても、凹凸形成層による凹凸の形成が阻害されず、優れた凹凸感を有する表面に凹凸を有する印刷物を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a cold-cathode field electron emission element enabling formation of an electron emission part in a self-matching manner against an opening, at a bottom part of the opening formed at a gate electrode and an insulating layer.例文帳に追加
ゲート電極及び絶縁層に形成された開口部の底部に、開口部に対して自己整合的に電子放出部を形成することを可能とする冷陰極電界電子放出素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a diffusion agent composition excellent in coating film formation properties and discharge stability and capable of being applied suitably for a spray coating method, a method of forming an impurity diffusion layer using the diffusion agent composition, and a solar battery.例文帳に追加
優れた塗膜形成性および吐出安定性を有し、スプレー塗布法に好適に採用可能な拡散剤組成物、当該拡散剤組成物を用いた不純物拡散層の形成方法、および太陽電池を提供する。 - 特許庁
The coating liquid for color conversion layer formation is made of ultrafine particle dispersion liquid in which ultrafine particles and a fluorescent material are dispersed or dissolved in a solvent.例文帳に追加
本発明は、超微粒子および蛍光材料が溶剤に分散もしくは溶解された超微粒子分散液からなることを特徴とする色変換層形成用塗工液を提供することにより、上記目的を達成するものである。 - 特許庁
By suppressing the wire formation silicon layer 4 from being excessively oxidized by the silicon nitride film 20, it is possible to oxidize only a desired region and thus it is possible to prevent breakage of the nanowire 11 by excessive oxidation.例文帳に追加
このように、配線形成シリコン層4が過度に酸化されることをシリコン窒化膜20により抑制させることで、所望の領域のみ酸化させることができ、かくして、過度に酸化されることにより生じるナノワイヤ11の断線を防止できる。 - 特許庁
The surface foaming resin layer 13 regulates porous structure formation without reducing the burst strength of the tank by, for instance, properly regulating the application amount of a solvent, thereby improving gas permeability.例文帳に追加
表面発泡樹脂層13は、例えば、塗布する溶剤量を適切に調整することでタンクのバースト強度を低下させることなく多孔質構造の形態を調整することができ、ガス透過性を向上させることができる。 - 特許庁
To provide a multilayer printed wiring board with built-in component in which an electronic component is embedded in the inner layer by an embedding resin, where formation of even a slight void under the built-in component can be prevented.例文帳に追加
内層に電子部品を埋め込み樹脂で埋め込んだ部品内蔵型多層プリント配線板に於いて、内蔵した電子部品下の僅かなボイドの発生も抑制することができる部品内蔵型多層プリント配線板の提供。 - 特許庁
In the semiconductive member for image formation, the outermost layer contains at least a layered inorganic compound and a conductive agent, wherein the conductive agent contains at least an electronic conductive agent and fluoropolymer nanoparticles holding an ionic liquid.例文帳に追加
最外層が、少なくとも層状無機化合物と、導電剤とを含有してなり、該導電剤が、少なくとも電子伝導剤と、イオン液体を保持したフッ素系ポリマーナノ粒子とを含有する画像形成用半導電性部材である。 - 特許庁
After the epitaxial growth of the semiconductor layer based on the method of temperature difference, the heater 3 for temperature difference formation is separated from the molten semiconductor material M, a heater 6 is controlled and gradual cooling of the semiconductor wafer W is started.例文帳に追加
そして、温度差法による半導体層のエピタキシャル成長が行われた後、温度差形成用ヒータ3が溶融半導体材料Mから離間されるとともに、ヒータ6が制御されて半導体ウエハWの徐冷が開始される。 - 特許庁
In this case, the EL element formation region Rel of each display pixel PIX is defined by the partition wall layer 17 provided with an opening 17a from which only a pixel electrode (for instance, an anode electrode) 14 of the display pixel PIX is exposed.例文帳に追加
ここで、各表示画素PIXのEL素子形成領域Relは、各表示画素PIXの画素電極(例えばアノード電極)14のみが露出する開口部17aが設けられた隔壁層17により画定されている。 - 特許庁
To facilitate the alignment by photolithography in the pattern formation of resistors and to prevent the generation of inferior products caused by the disconnection of the resistors at the interface of a common electrode part and a glaze glass layer.例文帳に追加
抵抗体Rのパターン形成におけるフォトリソグラフィーによる位置合わせが容易であり、共通電極部分Mとグレースガラス層との界面での抵抗体Rの断線による不良品の発生を防ぐことができるサーマルヘッドを提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a film carrier tape for packaging electronic components where a slit is formed after a solder resist layer is formed and a film carrier cannot be damaged by the formation of the slit easily.例文帳に追加
ソルダーレジスト層を形成後にスリットを形成する電子部品実装用フィルムキャリアテープを製造する方法であって、スリットの形成によってフィルムキャリアが損傷を受けにくい電子部品実装用フィルムキャリアテープの製造方法を提供する - 特許庁
To provide a composition for a thermosetting silicon-containing film allowing formation of a silicon-containing film which can be used as a good dry etching mask and having good etching selectivity especially with a photoresist on an upper layer in a multilayer resist process.例文帳に追加
多層レジスト法において、良好なドライエッチングマスクとして使用できるケイ素含有膜を形成でき、特に上層のフォトレジストとのエッチング選択性が良好な熱硬化性ケイ素含有膜形成用組成物の提供。 - 特許庁
In the patterns 51, a conductive layer 5, formed in the entire wall surface of the opening 73, is formed by etching non-formed portions of the side patterns, with the side pattern formation portions covered with a side pattern resist film.例文帳に追加
側面パターン51は、搭載用開口部73の壁面全体に形成した導体層5を、側面パターン用レジスト膜により側面パターン形成部分を被覆した状態で側面パターン非形成部分をエッチングして形成したものである。 - 特許庁
A channel formation area 119, a source area 115, a drain area 116, lightly doped areas 117 and 118 are formed on the semiconductor layer so as to be self-aligned by using the gate electrode 111 as a doping mask.例文帳に追加
ゲート電極111をドーピングマスクに用いることにより、半導体層にチャネル形成領域119、ソース領域115、ドレイン領域116、低濃度不純物領域117、118が自己整合的に形成される。 - 特許庁
The absorptive wire-grid polarizer includes a substrate having protrusion in a grid-like formation and transparent to visible light, and a layer including absorption type polarizing components formed on the protrusion of the substrate and comprising a low reflective alloy.例文帳に追加
本発明の吸収型ワイヤグリッド偏光子は、格子状に凸部を有する可視光に対して透明な基材と、前記基材の凸部上に形成されており、低反射合金で構成された層と、を具備することを特徴とする。 - 特許庁
When a local impact force P2 acts upon the range where the formation density of the slits 7 is low, the impact force is dispersed to a wide region and is transmitted to the first layer 3 in the whole range corresponding to the wide region.例文帳に追加
スリット7の形成密度が低い範囲に局部的な衝撃力P2が作用すると、広い領域に衝撃力が分散し、その広い領域に対応する範囲全体で衝撃力が第1層3へと伝わる。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a semiconductor device which can ensure a photolithography and etching margin during contact hole formation and can carry out good wiring without exposing a wiring layer inside a contact hole.例文帳に追加
コンタクトホール形成時の写真製版およびエッチングのマージンを確保することができ、配線層がコンタクトホール内において露出することがなく、良好な配線を行なうことのできる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a glass pane machining device capable of positively applying machining such as removal of a membrane layer and formation of a cutting line to a glass pane by applying predetermined pressing force to the surface of the glass pane by a machining tool.例文帳に追加
加工具によりガラス板の面に予め決められた押圧力を与えることができ、而して、ガラス板に対して皮膜層の除去、切り線形成等の加工を確実に施し得るガラス板の加工装置を提供すること。 - 特許庁
An acid is generated in the first resist frame 6 by heat or light irradiation, and a crosslinking layer formed between the first resist frame 6 and the minute pattern formation material 8 covers the first resist frame 6.例文帳に追加
加熱または光照射により第1のレジストフレーム6中に酸を発生させ、第1のレジストフレーム6と微細パターン形成材料8との界面に生じた架橋層で第1のレジストフレーム6を被覆するように構成する。 - 特許庁
Ceramic layers and electrode providing layers containing electrode units that compose internal electrodes are alternately laminated into unit laminates 11, and the unit laminates 11 are stacked up by interposing a bonding material layer 19 between them for the formation of the stacked piezoelectric element 10.例文帳に追加
積層型圧電素子10は,セラミック層と,内部電極を構成する電極部を含む電極配設層とを交互に積層してなるユニット積層体11を,接合材層19を介設して複数積層してなる素子である。 - 特許庁
An embodiment includes the formation of a flexible layer (12) having first and second ends (13, 14), an intermediate section (70) connecting the first and second ends, and upper and lower surfaces (48, 15).例文帳に追加
実施形態は、第1および第2の端部分(13、14)、第1および第2の端部分を連結する中間部分(70)、ならびに上側および下側の表面(48、15)を有する柔軟な層(12)を形成することを含む。 - 特許庁
To provide a manufacturing method which contributes to conversion efficiency without dropping photoelectric conversion by not removing a thick part, occurring by a dip coating method useful for formation of an underlying layer, but utilizing the thick part effectively.例文帳に追加
下地層形成で有用であるディップコーティング法にて生じる膜厚の厚い部分に対し、当該箇所を除去するのではなく、有効に利用することで光電変換を落とすことなく変換効率に寄与する製法を提供する。 - 特許庁
To provide a saw blade having a long serviceable life and preventing the formation of an undercut right under a cemented carbide abrasion resistant coating layer stuck and formed in the outer circumferential part of a base plate which includes a brazing part right under segments.例文帳に追加
セグメントの直下のろう付け部分を含む基板の外周部に付着形成された超硬質合金の耐摩耗性被覆層のさらに直下にアンダーカットが発生することを防止する寿命の長いソーブレードを提供する。 - 特許庁
Contact holes 12 and 13 are formed and patterning formation of a pixel electrode 16a is performed and patterning of a current source line 18 and an electroluminescence line 19 is performed by an electrolytic plating method, to the surface layer of a prepared transistor array substrate 1.例文帳に追加
この製造したトランジスタアレイ基板1の表層に対して、コンタクトホール12,13を形成し、更に画素電極16aをパターニング形成し、電解メッキ法により電流源ライン18及びELライン19をパターニングする。 - 特許庁
Since anodic oxidation is accelerated on the exposed surfaces PC and PD of the anode 11 at the time of formation treatment, the dielectric layer parts 12C and 12D are formed with high quality to cover the exposed surfaces PC and PD sufficiently.例文帳に追加
化成処理時に陽極11の露出面PC,PDにおいて陽極酸化反応が促進されるため、その露出面PC,PDを十分に覆うように誘電体層部分12C,12Dが高品質に形成される。 - 特許庁
The method for manufacturing the SiC semiconductor device prevents the formation of the n-type high concentration layer on the bottom of the trench 6 when the trench 6 is rounded to configure the trench gate structure.例文帳に追加
したがって、トレンチゲート構造を構成するためのトレンチ6を丸め処理する際等に、トレンチ6の底部にn型高濃度層が形成されることを防止することが可能なSiC半導体装置の製造方法とすることができる。 - 特許庁
In addition, by removing simple oxides such as ZnO and FeO and hydroxide such as Fe(OH)_2 from the oxide layer as much as possible, non-uniform formation of chemical conversion crystals and a large number of scales can be prevented.例文帳に追加
さらに、本発明では、ZnO、FeOなどの単純酸化物や、Fe(OH)_2などの水酸化物を極力酸化物層から除くことにより、形成化成結晶の不均一形成や、スケが多数を防止することができる。 - 特許庁
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