例文 (999件) |
formation layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4330件
Latent image formation is performed by bias application simultaneously with photoirradiation using the image carrier having a photosensitive layer 12 containing at least a hole transport material, an electron transport material and a charge generating material on a conductive support 11.例文帳に追加
導電性支持体11上に、少なくとも正孔輸送物質、電子輸送物質、電荷発生物質を含有する感光層12を有する像担持体を用いて、光照射と同時にバイアス印加により潜像形成を行なう。 - 特許庁
A thermal processing apparatus 1 comprises: a cylindrical reaction tube 3; a boat 5 for loading a wafer W to hold it; a heater 2 installed at an outer periphery of the reaction tube 3; and a vacuum insulating layer formation body 10 installed at an outer periphery of the heater 2.例文帳に追加
熱処理装置1は筒状の反応管3と、ウエハWを装填して保持するボート5と、反応管3の外周に設けられたヒータ2と、ヒータ2の外周に設けられた真空断熱層形成体10とを備えている。 - 特許庁
The process for forming the color filter layer includes a process for sticking a dry film for the third color filter on the transparent substrate while pressing in a first direction 70 after formation of a first color filter 56 and a second color filter 58.例文帳に追加
カラーフィルタ層を形成する工程は、第1カラーフィルタ56および第2カラーフィルタ58を形成した後に、透明基板上に第3カラーフィルタ用ドライフィルムを第1方向70に向かって押圧しながら貼り合わせる工程を含む。 - 特許庁
In this substrate for a touch panel and a touch panel using it, according to a roughened surface formation method, a roughened surface layer 3 obtained by performing micro-uneven surface transfer after resin varnish is applied to the substrate 1 is attached to a side opposite to an electrode surface.例文帳に追加
粗面を形成する方法が、基板1への樹脂ワニス塗布乾燥後に微細凹凸面転写を行う方法で得られた粗面化層3を電極面とは反対側に付与したタッチパネル用基板およびこれを用いたタッチパネル。 - 特許庁
To provide a liquid circulation system capable of extending a replacement cycle of an ion filter to extend service life and reduce cost, and of eliminating formation of a resin coating layer on the inside surface of a passage of a heat exchanger.例文帳に追加
イオンフィルタの交換サイクルを延ばして長寿命化を図ると共にコスト低下を実現し、さらに、熱交換器の流路内面への樹脂コーティング層の形成を廃止することのできる液体循環システムを提供する。 - 特許庁
In the production process, current block layers 17 and 18 are formed by epitaxial growth, following to formation of the ridge 1 excepting the upper surface of the ridge 1, the support layer 2 is formed by next epitaxial growth, and then the recess 2a is formed by etching.例文帳に追加
その作製工程は、リッジ1形成後の結晶成長によりリッジ1の上面以外に電流ブロック層17、18が積層され、次の結晶成長によりサポート層2が積層され、凹部2aがエッチングにより形成される。 - 特許庁
At the time, through the crystal defects 8 are recovered at positions where the silicide films are formed, since the acquisition layer formation region Y is masked with the silicon oxide film 10, the crystal defects 8 are not recovered in the region.例文帳に追加
このとき、シリサイド膜が形成された位置において結晶欠陥8が回復するが、捕捉層形成領域Yをシリコン酸化膜10によってマスクしているため、この領域においては結晶欠陥8が回復しない。 - 特許庁
To provide a method for efficiently producing dithienobenzodithiophene which is a raw material of dithienobenzodithiophene derivatives giving a high carrier mobility and also enabling the film formation of an organic semiconductor layer easily and in a good efficiency by applying the same.例文帳に追加
塗布で高いキャリア移動度を与えると共に容易に効率よく有機半導体層を製膜することが可能となるジチエノベンゾジチオフェン誘導体の原材料であるジチエノベンゾジチオフェンを効率よく製造する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a base for mounting a light-emitting element which can favorably radiate light emitted from the light-emitting element 4 to the outside over a long term by restraining the formation of a pinhole at the surface of a metal layer 2, and to provide a light-emitting device.例文帳に追加
金属層2の表面にピンホールが発生するのを抑制し、発光素子4が発する光を長期間にわたって良好に外部に放射することができる発光素子搭載用基体および発光装置を提供する。 - 特許庁
To obtain a liquid-crystal device which can has the formation area of a seal material set within a specific range by making use of a wire passing through the lower-layer side area of the seal material and the projection type display device using it.例文帳に追加
シール材の下層側領域を通る配線を利用して、シール材の形成領域を所定の範囲内に設定することのできる液晶装置、およびそれを用いた投射型表示装置を提供することにある。 - 特許庁
Accordingly, only the single cycle of the input and output is required after formation of the element to the electrons (or holes) for the floating gate and thereafter read and write of the information are conducted only with the mechanical operation of the floating gate layer, thereby requiring the input and output of electrons no longer.例文帳に追加
これにより浮遊ゲートに対する電子(または正孔)の出し入れは素子形成後1回のみ行えばよく、その後の読み書きは浮遊ゲート層の機械的動作によってのみ行い電子の出し入れが不要となる。 - 特許庁
To provide a nitrided component capable of obtaining strength close to that of a carburized component even in the case nitriding treatment is performed under the conditions where the formation of a compound layer causing its expansion and made into an obstacle to the attainment of low strain is suppressed as far as possible.例文帳に追加
生成後に膨張の原因となり、低歪達成の障害となる化合物層の生成を極力抑える条件で窒化処理を行った場合においても、浸炭品に近い強度の得られる窒化部品の提供。 - 特許庁
Each packaging component 4 makes opposing outside face input/output section formation side 9, a components loading recess 7 is loaded with them, it is mounted in the state that the adhesion resin layer 8 is fixed in its periphery, and it is laid under the silicon substrate 3.例文帳に追加
各実装部品4が入出力部形成面9を外方に臨ませて部品装填凹部7に装填され、外周部を接着樹脂層8によって固定されてシリコン基板3に埋設された状態で実装される。 - 特許庁
To prevent formation of an interception layer by back fill concrete when a retaining wall is constructed by use of porous laying blocks and enable intrusion of water, air, small animals, microbes, etc., in the front face side and natural ground side of the blocks.例文帳に追加
ポーラスコンクリート製の積みブロックを用いて擁壁を建設する場合裏込めコンクリートによって遮断層が形成されるのを防止し、ブロック前面側と地山側との水、空気、小動物、微生物等の往来を可能にする。 - 特許庁
Then, after a magnetic film 17a' for formation of an upper pole chip is formed so as to cover the photoresist pattern 31 and the recording gap layer 9, the film is applied to anisotropic etching to form a side wall on the side end face of the photoresist pattern 31.例文帳に追加
次に、フォトレジストパターン31および記録ギャップ層9を覆うようにして上部ポールチップ形成用磁性膜17a′を形成したのち、異方性エッチングを施し、フォトレジストパターン31の側端面にサイドウォールを形成する。 - 特許庁
The formation of an upper electrode 42 is performed by transforming a liquid 2 containing fine metallic particles into a metallic film through heat treatment after the liquid 2 is applied directly to the surface of a piezoelectric layer 40 in a pattern by means of an ink-jet head 101.例文帳に追加
上部電極42の形成を、インクジェットヘッド101により金属微粒子を含有する液体2を圧電体層40の上に直接パターン塗布した後、熱処理を施して液体2を金属膜に変換することで行なう。 - 特許庁
To provide a structure and a manufacturing method for preventing an uneven structure between memory cells, and entire performance reduction of the memory cells, due to overetching of a phase change layer in the memory cells during the formation of the memory cells.例文帳に追加
メモリセルの形成中にメモリセル内の相変化層がオーバーエッチングされることによって、メモリセル間における構造が不均一になり、メモリセルの全体的な性能に影響を及ぼすことを防ぐ構造及び製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a stuck wafer in which even formation of a blister due to an air bubble on a sticking interface is suppressed even when an active layer is thin and when an oxide film is thin.例文帳に追加
本発明の目的は、活性層が薄い場合や酸化膜が薄い場合においても、貼り合わせ界面の気泡によるブリスターの発生についても抑制することのできる貼り合わせウェーハの製造方法を提供することにある。 - 特許庁
After the formation of an aluminum oxide thin film 8 having adhesive properties on the metallic bonding film composed of MCrAlY, a ceramic layer 10 is formed on the aluminum oxide thin film by a physical vapor deposition method, and its structure is formed into the columnar one.例文帳に追加
前記のMCrAlYから成る金属結合膜上に接着性を有する酸化アルミニウム薄膜を形成した後、物理的蒸着法により前記酸化アルミニウム薄膜上にセラミック層を形成し柱状構造にする。 - 特許庁
Then, etching is performed in three steps: (1) patterning of the ITO film along the resist pattern 8, (2) formation of the lower layer contact hole 41 by an etching liquid such as buffered hydrofluoric acid, and (3) removal of an "eaves-like part" 6a of the ITO film.例文帳に追加
そして、(1)レジストパターン8に沿ったITO膜のパターニング、(2)バッファードフッ酸等のエッチング液による下層コンタクトホール41の作成、及び(3)ITO膜の「ひさし状部分」6aの除去という3段階のエッチングを行う。 - 特許庁
A sound absorbing layer 20 with thickness of 0.2-1.0 mm made of a porous material having porosity of 10 μm or less and hole rate of 50% or more and covering at least a thin groove formation area Y, is provided on the inner face 10S.例文帳に追加
又前記内面10Sに、気孔径が10μm以下かつ空孔率が50%以上の多孔質材からなりかつ少なくとも細溝形成領域Yを被覆する厚さ0.2〜1.0mmの吸音層20を具える。 - 特許庁
After a surface of an N-type epitaxial layer 12 of a wafer 20 is covered with a first oxide film 13 and a formation region of a vertical hole 16 is removed, the vertical hole 16 is formed by RIE by using the first oxide film 13 as a mask.例文帳に追加
ウエハ20のN型エピタキシャル層12表面を第1酸化膜13で被覆し、垂直穴16形成領域を除去した後、第1酸化膜13をマスクとしてRIEにより垂直穴16を形成する。 - 特許庁
To enable satisfactory image formation by reducing effects exerted on a process which acts in contact with a photoreceptor drum, even in case of a change in the gravity center of the photoreceptor drum which has a layer inside in order to prevent vibration and a speed change.例文帳に追加
重りを内蔵して振動や速度変動を防止するようにした感光体ドラムの重心が変化した場合でも、これに接触して作用するプロセスが受ける影響を軽減し、良好な画像形成を可能にする。 - 特許庁
To provide a radiation detector assembly which is low-cost and of high reliability by a method wherein the production process and the number of the radiation detector assembly are simplified and the creep of moisture to an element formation layer in a photoelectric conversion part from a scintillator substrate is prevented.例文帳に追加
放射線検出装置の製造工程・部材を簡略にし、シンチレータ基板から光電変換部の素子形成層への水分進入を防止し、低コストで高信頼性の放射線検出装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a multilayer ceramic wiring board which can avoid the formation of a rough surface of a substrate even when laminated by a multiplicity of sheets of ceramic tape, and can reduce the generation of bleeding or the like when printing is carried out on its outermost layer.例文帳に追加
多数枚のセラミックテープを積層しても基板表面に凹凸が形成されず、最外層に印刷する場合ににじみ等の発生を低減することができる多層セラミック配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁
This skin care composition which is used for external use and promotes the formation and/or maturity of cornified envelope to improve troubles such as skin parakeratosis and/or horny layer barrier function deterioration contains an amidinosulfonic acid of formula (1) [A is sulfur atom or oxygen atom; (n) is an integer of 1 to 5] and/or its salt.例文帳に追加
下記一般式(1)のアミジノスルホン酸及び/またはその塩を含有する、コーニファイドエンベロープの形成及び/または成熟化を促進し、皮膚の不全角化及び/または皮膚バリアー機能を改善する皮膚外用組成物。 - 特許庁
The process for production comprises a surface roughening treatment step of subjecting the surface layer parts 9 of the palatal parts of the dentures 5a and 5b and the denture plate to rough surface formation by a sandblasting treatment and a polishing finishing step of buffing the rugged surfaces formed by the stage described above.例文帳に追加
当該製造方法は、義歯及び義歯床口蓋部表層部をサンドブラスト処理により粗面形成する粗面処理工程と、前記工程により形成された凹凸面をバフ摩きする摩き仕上工程とから成る。 - 特許庁
To provide a positive planographic printing plate original plate for an infrared laser for direct plate having high sensitivity and storage stability, and having a recording layer of superior latitude in image formation by development and which is capable of forming images having superior contrast.例文帳に追加
現像による画像形成時のラチチュードに優れ、コントラストに優れた画像の形成が可能な記録層を備え、且つ、感度・保存安定性に優れたダイレクト製版用の赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版原版を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing an ink ejection head in which half-curing or curing of the position of a nozzle formation layer used as a nozzle hole is prevented, and which can prevent the generating of an inferior good in an ultraviolet irradiation process of photolithography.例文帳に追加
フォトリソグラフィー法の紫外線照射工程において、ノズル孔となる位置のノズル形成層の半硬化又は硬化を防止し、不良品の発生を防止することができるインク吐出ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁
The NiSi layer 110 is provided to be contacted with the element formation surface; and made up of a NiSi region 111 substantially not containing nitrogen and a nitride region 117 provided to be contacted with the upper part of the NiSi region 111, and containing nitrogen.例文帳に追加
NiSi層110は、素子形成面に接して設けられ、窒素を実質的に含まないNiSi領域111と、NiSi領域111の上部に接して設けられ、窒素を含む窒化領域117と、からなる。 - 特許庁
To provide a wiring formation method capable of easily forming a wiring having high conductivity with high adhesiveness to a substrate, without addition of another process to form an adhesion layer etc. on a resin substrate.例文帳に追加
樹脂基板上に、接着層等を形成するための別の工程を加えることなく、基板との密着性の高い導電性配線を簡単に形成することができる配線形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
A polyimide resin film 3 of a heat resistant resin layer is applied to the surface of a gallium arsenide(GaAs) substrate 1, and a stripe-shaped opening 4 is formed at a position corresponding to the formation region of the ridge of the polyimide resin film 3.例文帳に追加
砒化ガリウム(GaAs)基板1の表面上に、耐熱性樹脂層であるポリイミド樹脂膜3を塗布し、このポリイミド樹脂膜3のリッジ部の形成領域に対応する位置にストライプ状の開口部4を形成する。 - 特許庁
The semiconductor layer employs a group III-V semiconductor compound represented in a general form Al_xGa_yIn_zN (0≤x<1, 0<y<1, 0<z<1, x+y+z=1) as its main constituent and its film formation takes place through laser assist metal-organic vapor phase growth.例文帳に追加
本発明の半導体層は、一般式Al_xGa_yIn_zN(式中、0≦x<1,0<y<1,0<z<1,x+y+z=1)で表されるIII−V族半導体化合物を主成分とし、レーザアシスト有機金属気相成長法により成膜されたものである。 - 特許庁
To provide a substrate for an electronic parts device for preventing position relationship among a plurality of electrode pads from being changed even if a strip-like insulating layer opening is formed off in x and y directions from a desired formation position.例文帳に追加
帯状絶縁層開口部が所望の形成位置からx方向やy方向にずれて形成された場合においても、複数の電極パッド間の位置関係が変わることがない電子部品装置用基板を提供する。 - 特許庁
To provide a method for forming a tungsten layer capable of increasing an apparent film forming rate on the whole by the elimination of incubation time after the formation of a nuclear crystal film and moreover capable of increasing the inter facial uniformity (reproducibility) of the film thickness.例文帳に追加
核結晶膜成膜後のインキュベーションタイムをなくして全体の見かけ上の成膜速度を高めると共に、膜厚の面間均一性(再現性)を高めることができめるタングステン層の形成方法を提供する。 - 特許庁
In the Schottky barrier penetration single electronic transistor, a silicide formation is carried out concerning at least one part of an insulating layer 110 and source/drain regions 120a/120b formed on a substrate 100, and consequently a Schottky junction is carried out with a channel region 120c.例文帳に追加
ショットキー障壁貫通単電子トランジスタは、基板100上に形成された絶縁層110と、ソース/ドレイン領域120a/120bの少なくとも一部分はシリサイド化されてチャネル領域120bとショットキー接合される。 - 特許庁
A part of a stress line of the remained tensile stress existing at an inner diameter side portion of the cured layer is cut by formation of the recession hole 17 and a value of the remained tensile stress applied to the inner diameter side portion can be reduced.例文帳に追加
この凹孔17を形成する事により、上記硬化層の内径側部分に存在する残留引っ張り応力の応力線の一部を切断し、この内径側部分に作用する残留引っ張り応力の値を低くできる。 - 特許庁
To maintain film thickness at a predetermined thickness together with measuring the film thickness with high accuracy in equipment that travels a base film with a magnet film in a vacuum layer to form a DLC film on this base film by a film-formation source.例文帳に追加
真空槽1内で磁性膜付ベースフィルム7を走行させ、これに成膜源8によってDLC膜を成膜するものにおいて、高精度の膜厚測定が行えるとともに、膜厚を一定厚に保つことができるようにする。 - 特許庁
To provide a photosensitive original printing plate for relief printing which has excellent printing characteristics for any of water ink and solvent ink, and to provide a composition for ink receiving layer formation used therefor, and a method for manufacturing a relief printing plate.例文帳に追加
水系インクおよび溶剤インクの何れのインクに対しても印字特性が良好な凸版印刷用感光性印刷原版、これに用いるインク受容層形成用組成物、及び凸版印刷版の製造方法を提供すること。 - 特許庁
The lowering of resistance of electrode wire is realized without using vacuum film formation equipment and a vacuum etching device by plating the copper on the exposed electrode wire (a scanning line and a signal line) and then, forming an organic insulation layer on the wire by electrodeposition.例文帳に追加
露出した電極線(走査線と信号線)上に銅を鍍金で、引き続き有機絶縁層を電着で形成することにより、真空製膜装置と真空食刻装置を用いることなく電極線の低抵抗化が実現する。 - 特許庁
To provide a highly reliable multilayer ceramic electronic component which can restrict slackening of external terminal electrodes or formation of voids between a substrate ceramic layer and an external terminal electrode inside a slackened portion.例文帳に追加
外部端子電極にたるみが生じたり、たるみ部分の内側の基材セラミック層と外部端子電極の間に空隙が形成されたりすることを抑制することが可能で、信頼性の高い積層セラミック電子部品を提供する。 - 特許庁
After this, a second heating treatment is performed and the catalyst element is gettered in the gettering region, whereby the catalyst element can be efficiently moved from a semiconductor layer, specially a region which is used as a channel formation region, to the gettering region.例文帳に追加
この後、第2加熱処理を行い、前記ゲッタリング領域に触媒元素をゲッタリングすることにより、効率的に触媒元素を半導体層、特にチャネル形成領域となる領域からゲッタリング領域に移動させることができる。 - 特許庁
The image formation is performed by supplying transfer paper 6 having a toner image 7 formed by the toner to the heating pressure contact type fixing machine provided with the fixing member having the polybenzimidazole-containing surface layer.例文帳に追加
画像形成は、このトナーで形成されたトナー画像7を有する転写紙6を、ポリベンズイミダゾール含有表層2を有する定着部材を備えた加熱圧着式定着機に供給して定着することによって行われる。 - 特許庁
Nitric acid water accelerating formation of sludge contained in blow-by gas turning in the oil separator is neutralized by forming the sludge inhibition layer formed out of calcium carbonate for neutralizing acid material such as nitric acid water.例文帳に追加
硝酸水などの酸性物質を中和するための炭酸カルシウムからなるスラッジ抑制層を内壁面に形成することにより、オイルセパレータ内部で旋回するブローバイガスに含まれるスラッジの発生を促進する硝酸水が中和される。 - 特許庁
To provide a sulfide solid electrolyte particle capable of suppressing formation of a high resistance layer caused by reactions of an oxide active material and a sulfide solid electrolyte material, and low in interface resistance.例文帳に追加
本発明は、酸化物活物質および硫化物固体電解質材料の反応によって生じる高抵抗層の生成を抑制でき、界面抵抗の低い硫化物固体電解質粒子を提供することを主目的とする。 - 特許庁
To provide a dispensing method which can deal with various composition systems such as dispersed system and highly viscous system, and can collectively form uniform thickness to desired regions, thereby can be suitably used, for example, for formation of culture layer of a microorganism culture sheet.例文帳に追加
分散系や高粘度などの種々の組成系に対応可能なディスペンス方法であり、所望の領域に均一な厚みを一括形成できるので、例えば微生物培養シートの培養層の形成に好適に使用できる。 - 特許庁
To provide a positive image forming material excellent in latitude in image formation by development and in scratch resistance and to provide a positive original plate of a planographic printing plate for an infrared laser for direct plate making with a recording layer having such properties.例文帳に追加
現像による画像形成時のラチチュード、及び、耐キズ性に優れたポジ型画像形成材料、及び、そのような特性を有する記録層を備えたダイレクト製版用の赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版原版を提供する。 - 特許庁
To provide a method for filling the holes of a flat body in which reliability of the product and flatness of the upper layer are enhanced without causing any problem of contamination by preventing formation of a significant recess on or under a filler.例文帳に追加
充填物の上や下にさほど大きな凹みができないようにして,製品の信頼性や上層の平坦性の向上を図り,また汚染の問題も生じないようにした板状体の穴埋め方法を提供すること。 - 特許庁
In this way, the sticking-up of the green pellet GP' into the roller interval 42 and the formation of a stuck layer A on the surface of the roller 41, are both restrained and the roller interval 42 is not excessively closed, and good screening efficiency is kept.例文帳に追加
これにより、ローラ間隙42への生ペレットGP’の滞留もローラ41表面への付着層Aの形成も、ともに抑制され、ローラ間隙42が過度に閉塞されることがなくなり、良好な篩い効率が維持される。 - 特許庁
To provide a conductive paste hardly generating fault of internal structure and short circuit on a laminated ceramic capacitor, coping with the reduction of the size of the laminated ceramic capacitor and the increase of the capacity thereof, and suitable for the formation of an internal conductive layer.例文帳に追加
内部構造欠陥が発生しにくいだけでなく、ショート不良が生じにくく、積層セラミックコンデンサの小型化かつ大容量化に対応できる内部導電体層形成に適した導電性ペーストを提供する。 - 特許庁
例文 (999件) |
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