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「laser ion source」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索
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laser ion sourceの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 32



例文

LASER ION SOURCE例文帳に追加

レーザ・イオン源 - 特許庁

LASER ION SOURCE AND METHOD OF DRIVING LASER ION SOURCE例文帳に追加

レーザ・イオン源及びレーザ・イオン源の駆動方法 - 特許庁

FRIT LASER ION SOURCE例文帳に追加

FRIT−レーザーイオン源 - 特許庁

TARGET FOR LASER PLASMA ION SOURCE, AND LASER PLASMA ION GENERATING APPARATUS例文帳に追加

レーザプラズマイオン源用ターゲットおよびレーザプラズマイオン発生装置 - 特許庁

例文

A laser beam source allows a laser beam to enter the ion transportation channel so as to be propagated in the opposite direction to the ion transportation direction.例文帳に追加

レーザ光源が、イオン輸送路内に、イオンの輸送方向とは反対の方向に伝搬するようにレーザビームを入射させる。 - 特許庁


例文

The stimulation light source uses a first semiconductor laser stimulation light source which stimulates the ion from a ground level to a lower laser level or an energy level higher than the lower laser level and a second laser semiconductor laser stimulation light source which stimulates the ion from the lower laser level to an upper laser level.例文帳に追加

励起光源に、イオンを基底準位からレーザ下準位又はそれより上方のエネルギレベルへ励起する第1の半導体レーザ励起光源と、第1励起光源とは異なる波長を有し、イオンをレーザ下準位からレーザ上準位へ励起する第2の半導体レーザ励起光源とを使用する。 - 特許庁

To provide a target for a laser plasma ion source capable of accelerating heavy ions to discharge the heavy ions at a further accelerated speed, and to provide a laser plasma ion generating apparatus.例文帳に追加

重イオンを加速して更に高速に放出することができるレーザプラズマイオン源用ターゲットおよびレーザプラズマイオン発生装置を提供する。 - 特許庁

A first laser radiation source 1 using a solid dielectric including an ion as a laser medium produces a double harmonic component of the fundamental wave which is emission-induced by the laser medium.例文帳に追加

イオンを含んだ固体誘電体をレーザ媒質として用いた第1のレーザ光源1が、レーザ媒質により誘導放出される基本波の2倍高調波を発生する。 - 特許庁

To shut up particles generated by laser irradiation into an ion source container and to restrain the particles from flowing out to the devices of latter stages connected to a vacuum evacuation system or ion source.例文帳に追加

レーザ照射の際に発生する微粒子をイオン源容器内に閉じ込め、真空排気系やイオン源に接続される後段の装置へ微粒子が流出するのを抑制する。 - 特許庁

例文

Since an ion source 6 is positioned on an end surface of a housing 5, the ion beam axis can be made coincident with the center axis of the ion source 6 and that of the extraction electrode 3 by adjusting the position of the extraction electrode 3 to maximize the intensity of the laser beam.例文帳に追加

イオン源6は、ハウジング5の端面で位置決めされるため、レーザビームの強度が最大となるように引出電極3を位置調整することにより、イオンビーム軸をイオン源6と引出電極3の中心軸と一致させることができる。 - 特許庁

例文

METHOD FOR DETERMINING RNA SEQUENCE BY ION-SOURCE DECAY USING MATRIX-ASSISTED LASER DESORPTION/IONIZATION TIME-OF-FLIGHT MASS SPECTROMETER例文帳に追加

マトリクス支援レーザー脱離イオン化飛行時間型質量分析装置を用いたイオン源内解裂によるRNA配列決定法 - 特許庁

To provide a mass spectrometer equipped with a MALDI (Matrix Assisted Laser Desorption/Ionization) ion source capable of performing easily individual management of a sample plate and mass calibration based on distortion information of the sample plate, and the sample plate for the MALDI ion source.例文帳に追加

サンプルプレートの個別管理や、サンプルプレートのゆがみ情報に基づく質量較正を容易に行なうことのできるMALDIイオン源を備えた質量分析装置およびMALDIイオン源用サンプルプレートを提供する。 - 特許庁

To provide an EUV light source device which can effectively collect high-speed ion debris generated when a laser beam is applied to a target.例文帳に追加

EUV光源装置において、ターゲットにレーザ光を照射することによって発生する高速なイオンデブリを効率良く回収する。 - 特許庁

Significantly improved measurement sensitivity is obtained by applying laser pulses to the ion source at a high pulse rate of about 500 Hz or higher.例文帳に追加

約500Hz以上の高いパルスレートでレーザパルスをイオンソースに付与することによって有意に向上した測定感度が得られる。 - 特許庁

This laser ablation mass spectrometer 1 of the present invention includes a sample stage 10, a laser irradiation part 20, a pneumatic conveying system 30, an ion source 40 and an analytical part 50.例文帳に追加

本発明にかかるレーザーアブレーション質量分析装置1は、試料ステージ10と、レーザー照射部20と、気流搬送系30と、イオン源40と、分析部50とを備えている。 - 特許庁

To provide a negative ion generator which advocates application to improvement in combustion efficiency of an engine, a health equipment, an electron exciting laser device, a DC power source device or the like.例文帳に追加

エンジンの燃焼効率改善、健康器具、電子励起レーザ装置、直流電源装置等への応用を提唱するマイナスイオン発生装置を提供する。 - 特許庁

In this mass spectrometry, fine particles are used, which are formed by coating with a polymer a metal oxide used as an ion source for irradiating and ionizing a sample with laser light.例文帳に追加

レーザー光を試料に照射してイオン化を行うイオン源となる金属酸化物がポリマーで被覆された微粒子を用いる質量分析法。 - 特許庁

In this embodiment, whether the center axis of a source head and that of an extraction electrode are aligned and made coaxial with an ion beam axis is confirmed by a laser beam.例文帳に追加

本実施の形態では、ソースヘッドと引出電極の中心軸が一直線となり、イオンビーム軸と同軸になっているか否かをレーザビームによって確認する。 - 特許庁

To solve a problem wherein an inclined pattern is formed due to absorption of the light by the photoresist resin at the wavelength used for the light source in a lithographic process using KrF or ArF laser, VUV rays, EUV rays, electron beams, ion beams or the like as the light source.例文帳に追加

KrF、ArF、VUV、EUV、電子線(E-beam)及びイオンビーム(ion beam)等の光源を利用したリソグラフィー工程時に、フォトレジスト樹脂が光源に用いられる波長の光を吸収して傾斜したパターンを形成することを解決する。 - 特許庁

Therefore, a light emitting part 55 emitting a laser beam on the ion beam axis is attached to a housing 5 instead of the source head, and a reflecting part 56 reflecting the laser beam is attached to the extraction electrode 3.例文帳に追加

このため、イオンビーム軸上にレーザビームを発射する発光部55をソースヘッドの代わりにハウジング5に取り付け、一方、引出電極3には、このレーザビームを反射する反射部56を取り付ける。 - 特許庁

After selecting precursor ions by capturing the ions in an ion trap 1, ethylene gas is introduced into the ion trap 1 from an introducing part 23 for gas to be excited, and is irradiated with laser beam having a prescribed wavelength (10.6 μm) oscillating and exciting the gas molecules from an exciting laser irradiating source 22.例文帳に追加

イオントラップ1内にイオンを捕捉してプリカーサイオンを選別した後、被励起ガス導入部23よりエチレンガスをイオントラップ1内に導入し、該ガス分子を振動励起させる所定波長(10.6μm)のレーザ光を励起レーザ照射源22から照射する。 - 特許庁

A MALDI ion source 10 includes a sample plate 15, a laser 30, a first optical element 32 arranged so as to direct the laser radiation along a first optical path toward the target area, and a second optical element 38 arranged along the first optical path to focus the laser radiation onto the target area.例文帳に追加

MALDIイオン源10は、サンプルプレート15と、レーザ30と、レーザ放射を第1の光路に沿って目標エリアに向けて誘導するよう配置された第1の光学素子32と、レーザ放射を目標エリア上に集束させるよう第1の光路に沿って配置された第2の光学素子38とを含む。 - 特許庁

A mass spectrometry quantitation technique enables high-throughput quantitation of small molecules using a laser-desorption (e.g., MALDI) ion source 20 coupled to a triplequadrupole mass analyzer 30.例文帳に追加

質量分析定量技術は、三連四重極質量分析部30に結合されたレーザ脱離(例えば、MALDI)イオンソース20を用いて小分子のハイスループット定量を可能にする。 - 特許庁

The ionization device which is an ion source used for ionizing a sample is equipped with (a) a laser and (b) a surface holding the sample and including a carbon nanotube material.例文帳に追加

本発明のイオン化装置は、サンプルをイオン化するために使用されるイオン源であって、a)レーザと、b)前記サンプルを保持し、カーボンナノチューブ材を含む面とを備えていることを特徴とする。 - 特許庁

Furthermore, laser beams L1 emitted from a laser source 7 are irradiated to a high temperature plasma material 8, and a low temperature plasma gas of an ion density of 10^17-10^20 cm^-3 level is supplied to a narrow discharge channel formed between the electrodes 2a, 2b.例文帳に追加

また、レーザ源7から放出されるレーザビームL1が高温プラズマ原料8に照射され、イオン密度が10^17〜10^20cm^-3程度の低温プラズマガスが、電極2a,2b間に形成されている細い放電チャンネルに供給される。 - 特許庁

To provide a transistor substrate for a liquid crystal display device preventing damage of a gate electrode when carrying out ion implantation in source/drain are of an active layer, and carrying out activation by irradiation of a laser beam.例文帳に追加

アクティブ層のソース/ドレイン領域にイオン注入を行い、レーザビームの照射による活性化を行う際に、ゲート電極の損傷を防止する液晶表示装置用トランジスタ基板を提供する。 - 特許庁

Peptides are measured through the use of α-cyano-3-hydroxy cinnamic acid or 3-hydroxy-4-nitrobenzoic acid by a mass spectrometer, having a MALDI (Matrix-Assisted Laser Desorption Ionization) ion source.例文帳に追加

MALDI(マトリックス支援レーザー脱離イオン化)イオン源を有する質量分析装置によって、ペプチドをα−シアノ−3−ヒドロキシケイ皮酸又は3−ヒドロキシ−4−ニトロ安息香酸を用いて測定する方法。 - 特許庁

The Raman strength of β-FeSi_2 which is measured at room temperature by Ar ion laser of 514.5 nm wave length as a light source for excitation, is 30% or more than that of Si as a substrate of β-FeSi_2.例文帳に追加

励起用光源に波長514.5nmのArイオンレーザーを用いた室温において測定されるβ-FeSi_2のラマン強度が、前記β-FeSi_2の基板であるSiのラマン強度の30%以上であることを特徴とする。 - 特許庁

To efficiently discharge charge particles of ion or the like discharged from plasma by magnetic field operation, and to suppress second-order creation of contaminant, in extreme ultraviolet optical source equipment of a laser generation plasma system.例文帳に追加

レーザ生成プラズマ方式の極端紫外光源装置において、磁場の作用によりプラズマから放出されるイオン等の荷電粒子を効率的に排出すると共に、汚染物質の2次的な発生を抑制する。 - 特許庁

This invention provides a technique effecting a soft ionization of an analyte substance by ESI, FI, FD, LIFDI, MALDI or a hybrid thereof with the same ion volume without replacing an ion source by appropriately adjusting pressure, laser radiation and electric field intensity to detect ions or radical ions formed by a mass spectrometry and/or an electron paramagnetic resonance spectroscopy.例文帳に追加

圧力、レーザ放射、および電界強度を適当に調整することにより、質量分析法および/または電子常磁性共鳴分光法により形成されたイオンまたはラジカル・イオンを検出し、イオン源を交換しないで、同じイオン容量で、ESI、FI、FD、LIFDIまたはMALDI、またはこれらのハイブリッドにより分析用物質をソフト・イオン化するための技術を提供する。 - 特許庁

The source drain junction of the extremely shallow rectangular high concentration impurity distribution is formed by liquidifying only the ion implantation amorphous region of the diffusing layer using the laser beam, in the wavelength which ensures deep attenuation for Si and makes difficult the direct heating of the Si itself and selectively and locally heating in direct the Si, by selectively allocating a metal film of shallow attenuation depth for the laser beam only to the contact region.例文帳に追加

更にSiに対し減衰深さが深く、従ってSi自身が直接加熱され難い波長のレーザー光を用い、該レーザー光において、減衰深さの浅い金属膜を該コンタクト領域にのみ選択的に配置することによりSiを間接的に選択局所加熱し、拡散層のイオン注入非晶質領域のみを液相化することにより極浅矩形高濃度不純物分布のソース・ドレイン接合の形成を可能とした。 - 特許庁

例文

An inlet of an evaporation pipe 52 is provided behind an ion transport pipe 17 which attracts ions from an atomizing chamber 13 and feeds them to a mass spectrometer 40, and a laser beam source part 50 and a light scattering detection unit 56 of an ELSD 4 are disposed outside a light incoming window 53 and a light outgoing window 54 formed in the evaporation pipe 52.例文帳に追加

また、霧化室13内からイオンを引き込んで質量分析部40へと送るイオン輸送管17よりも後方に蒸発管52の入口開口を設け、蒸発管52に形成した光入射窓53と光出射窓54の外側にELSD4のレーザ光源部50と光散乱検出部56とを配置する。 - 特許庁




  
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