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Si nonとは 意味・読み方・使い方
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「Si non」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 111件
The non-dissolved structure of Al-Sn is an atomized structure with Sn flake-like or crescent shape, and in the non-solved structure of Al-Si, Si is a substantially circular grain or an uneven grain.例文帳に追加
Al-Snの未溶解組織はSnが片状、三日月状などとのアトマイズ組織となり、Al-Siの未溶解組織はSiが円に近い粒上、凹凸がある粒状などとなる。 - 特許庁
A non-SI unit detection deletion part 105 deletes the industrial unit codes of non-SI units detected from among the device specifications.例文帳に追加
また、非ＳＩ単位検出削除部１０５は、デバイス仕様の中より検出した非ＳＩ単位の工業単位コードを削除する。 - 特許庁
A non-SI unit detection deletion part 105 detects the industrial unit codes of non-SI units from among device specifications acquired by a field equipment data acquisition part 104 by using a non-SI unit definition dictionary file 103.例文帳に追加
非ＳＩ単位検出削除部１０５が、非ＳＩ単位定義辞書ファイル１０３を用い、フィールド機器データ取得部１０４が取得したデバイス仕様の中より、非ＳＩ単位の工業単位コードを検出する。 - 特許庁
The non-metal Ge compound layer contains, for example, a compound of Sr and Ge, a compound of Ba and Ge, or a compound of Ba, Si, and Ge.例文帳に追加
非金属Ge化合物層は、例えばSrとGeの化合物、BaとGeの化合物もしくはBaとSiとGeの化合物を有する。 - 特許庁
The intermediate layer 14 is constituted of a non-magnetic alloy consisting essentially of Co and Cr and oxides of Al, Cr, Hf, Mg, Nb, Si, Ta, Ti, Zn and the like.例文帳に追加
中間層14はCoおよびCrを主原料とする非磁性合金と、Al, Cr, Hf, Mg, Nb, Si, Ta, Ti, Zr等の酸化物で構成される。 - 特許庁
The aluminum-based thermal spraying sliding material has the composition consisting of (a) 5-20% Sn, (b) 5-20% Sn and 1-15% Si, or (c) 8-17% Si, and the balance Al with inevitable impurities, with non-dissolved structure and dissolved structure mixed therein.例文帳に追加
(イ)5〜20％Sn、(ロ)5〜20％Sn及び1〜15％Si、又は(ハ)8〜17％Siを含有し、残部がAl及び不可避的不純物からなり、未溶解組織と溶解組織が混在するアルミニウム系溶射摺動材料。 - 特許庁
The semiconductor device 20 comprises an SiO_2 film 3; a MOS non-single crystal Si thin film transistor 1a, containing a non-single crystal Si thin film 5' of polycrystalline Si; a MOS single-crystal Si thin-film transistor 16a provided with a single-crystal Si thin-film 14a; and a metal wiring 22 on an insulation substrate 2.例文帳に追加
半導体装置２０は、絶縁基板２上に、ＳｉＯ_2膜３、多結晶Ｓｉからなる非単結晶Ｓｉ薄膜５’を含むＭＯＳ型の非単結晶Ｓｉ薄膜トランジスタ１ａ、単結晶Ｓｉ薄膜１４ａを備えたＭＯＳ型の単結晶Ｓｉ薄膜トランジスタ１６ａ、金属配線２２を備えている。 - 特許庁
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Weblio例文辞書での「Si non」に類似した例文 |
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si non
もし違うなら
じゃないと
そうでない
It is not so―It is otherwise―That is not the case―（相手の言葉次第で）―No, I am not―No, you are not―No, he is not.
いません
しません
やだやだ
してない
してない
ないよ
Nothing!
まさかの
I think not―（悪いことを打消せば）―I hope not―（好いことを打消せば）―I fear not―I am afraid not.
してません
してません
せかさないで
ないです
ないです
Nothing
それなしで
決して…ない.
sinon
じゃないと
any
しまいに
some
「Si non」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 111件
The negative electrode material for the non-aqueous electrolyte secondary battery uses the Si-C-O-based composite.例文帳に追加
このＳｉ−Ｃ−Ｏ系コンポジットを用いた非水電解質二次電池用負極材。 - 特許庁
A porous Si layer 29 is formed on a non-porous Si layer 28 by anodizing an Si wafer, and epitaxial Si layers 24 and 25 are formed on the porous Si layer 29, and the epitaxial Si layer 25 and an A151 adhered to a supporting substrate 52 are thermally melt-stuck and alloyed so that the A151 and the epitaxial Si layer 52 can be strongly adhered to each other.例文帳に追加
Ｓｉウェハを陽極化成して非多孔質Ｓｉ層２８上に多孔質Ｓｉ層２９形成し、多孔質Ｓｉ層２９上に、エピタキシャルＳｉ層２４，２５を形成して、エピタキシャルＳｉ層２５と、支持基板５２に密着したＡｌ５１を熱溶着して合金化しＡｌ５１とエピタキシャルＳｉ層２５を強固に密着させる。 - 特許庁
Furthermore, the yoke portion 2 is made of a non-oriented magnetic steel plate, having a Si content exceeding 6.2 to 6.6 mass%, while the teeth portions 1 are made of the non-oriented magnetic steel sheet, having a Si content of 6.2 mass% or lower.例文帳に追加
さらに、ヨーク部２がＳｉ含有量：６．２超〜６．６mass％の無方向性電磁鋼板からなり、ティース部１がＳｉ含有量：６．２mass％以下の無方向性電磁鋼板からなる。 - 特許庁
Then, while the back face of the non-porous Si layer is fixed by a vacuum chuck 26, the supporting substrate 52 is pulled, and the porous Si layer 29 is separated.例文帳に追加
つぎに、非多孔質Ｓｉ層の裏面を真空チャック２６で固定しながら、支持基板５２を引っ張り、多孔質Ｓｉ層２９で分離する。 - 特許庁
Subsequently, the a-Si film is so subjected to a heat treatment in a high-vacuum reaction furnace that an HSG-Si comprising a plurality of irregular crystal grains is formed based on HSG nuclei on the surface of the non-doped a-Si film.例文帳に追加
次に、高真空の反応炉中で熱処理が施され、ノンドープａ−Ｓｉ膜表面にＨＳＧ核をもとに複数の凹凸状の結晶粒であるＨＳＧ−Ｓｉが形成される。 - 特許庁
Compressive stress of ≥5 MPa is applied to the surface of a non-oriented electrical steel sheet comprising 0.1 to 4 mass% Si, having a sheet thickness of 0.10 to 1.0 mm, and having specified magnetic properties.例文帳に追加
Siを0.1〜４mass％含有する、板厚が0.10〜1.0mmで特定の磁気特性を有する無方向性電磁鋼板の表面に、５MPa以上の圧縮応力を付与する。 - 特許庁
Thereafter, the chemical oxide film of the surface of the non-doped a-Si film is so removed therefrom by using an argon-excimer lamp that the cleaned surface of the a-Si film appears thereon.例文帳に追加
その後、アルゴンエキシマランプを用いてノンドープａ−Ｓｉ膜の表面のケミカル酸化膜の除去がなされ、ａ−Ｓｉ膜の清浄表面が現れる。 - 特許庁
The film with non-transparency is a polycrystalline Si film which is formed by the low-pressure vapor phase growth method.例文帳に追加
非透明性を有する膜は、低圧気相成長法で形成された多結晶Ｓｉ膜である。 - 特許庁
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