surface reaction processとは 意味・読み方・使い方

The surface voltage of the focus ring is selected to be a minimum voltage or over so as to avoid a reaction product by the wafer process from being deposited.例文帳に追加

フォーカスリングの表面電圧は、ウエハプロセスによる反応生成物が堆積しない為の最低電圧以上とする。 - 特許庁

As the etching reaction advances, the concentration of the fluorine radical decreases, and in due course, an atmosphere in the reaction vessel is replaced by the thin-film formation process gas, a deposition reaction is started, and a film grows on the thin-film formation surface of the substrate.例文帳に追加

エッチング反応の進行によりフッ素ラジカルの濃度は減少し、やがて、薄膜形成用プロセスガスに反応容器内の雰囲気が置換されて、堆積反応が開始し、基板の被形成面に膜が成長する。 - 特許庁

To provide a manufacturing process of a surface-fluorinated substrate by which a fluorination reaction is conducted efficiently at a high enough reaction rate commercially and economically.例文帳に追加

本発明は、工業的または経済的に十分な反応速度で効率よくフッ素化反応を行うことが可能な表面フッ素化基材の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The laminated porous body is manufactured by a process for forming the oxidation resistant coating film on the surface of the porous carbonized material and a process for forming the alkali corrosion resistant layer on the surface of the oxidation corrosion resistant coating film by a vapor phase reaction.例文帳に追加

積層多孔質体は、多孔質炭素化物の表面に耐酸化皮膜を形成する工程と、耐酸化皮膜の表面に耐アルカリ腐食層を気相反応により形成する工程とにより製造することができる。 - 特許庁

The method includer a process for applying a reaction mixture containing a pore forming agent containing a polyol, an isocyanate compound, and a volatile silicone oil on the surface of the base material 12 and a process in which the reaction mixture is subjected to reaction between the polyol and the isocyanate compound to form a porous coated layer 14 on the base material 12.例文帳に追加

基材１２の表面に、ポリオール、イソシアネート化合物、および揮発性シリコーン油を包含する気孔形成剤を含有する反応混合物を適用する工程、および該反応混合物を該ポリオールと該イソシアネート化合物との反応条件に供して基材１２上に多孔質被覆層１４を形成する方法。 - 特許庁

In addition, they have a process for introducing the reaction gas into the discharge space and a process for activating the reaction gas by supplying the pulse or the rectangular wave modulated high-frequency power into the discharge space and are characterized in that the ashing treatment is performed on the surface of the substrate with the activated reaction gas.例文帳に追加

また放電空間に反応ガスを導入する工程と、前記放電空間にパルスもしくは矩形波変調された高周波電力を供給して前記反応ガスを活性化する工程と、を有し、前記活性化された反応ガスが基体の表面にアッシング処理をすることを特徴とする。 - 特許庁

Blast treatment is applied to the weather resistance steel by blasting process, so that mill scale is removed from the surface of the weather resistance steel, the surface is activated, further the formation of unevenness on the surface enlarges reaction area.例文帳に追加

ブラスト工程により耐候性鋼材にブラストが施され、耐候性鋼材表面のミルスケール等が除去されると共に、表面が活性にされ、さらに表面に凹凸が形成されて反応面積が増大する。 - 特許庁

To prevent a reaction product from adhering to and depositing on a passage forming surface in equipment having a complicated shape and structure like a pump, and to prevent a process of manufacture from stopping.例文帳に追加

ポンプのような複雑な形状、構造を持つ機器内の流路形成面に反応生成物が付着・堆積させず、且つ、製造プロセスを停止させない。 - 特許庁