deposition of silicaとは 意味・読み方・使い方

To provide a scale deposition inhibitor effective to prevent scale deposition in a boiler water system, a cooling water system, etc., and having an effect of particularly preventing the deposition of both calcium scale and silica scale and to provide a method for preventing scale deposition.例文帳に追加

ボイラ水系、冷却水系などにおけるスケール付着防止に有効であり、特にカルシウム系スケールとシリカ系スケールの両方の付着防止に効果を発揮するスケール付着防止剤及びスケール付着防止法を提供する。 - 特許庁

To provide a system for treating water capable of more securely reducing deposition of silica to a reverse osmosis membrane.例文帳に追加

逆浸透膜へのシリカの析出の抑制を一層確実に行うことができる水処理システムを提供すること。 - 特許庁

In the deposition film, on a thin film resin layer, at least two kinds of metal oxide different in deposition film characteristics, preferably alumina indicating deposition film characteristics of high barrier properties and silica indicating deposition film characteristic of so-called barrier properties enduring stretching are deposited multi-dimensionally, and the deposition film characteristics are developed synergistically.例文帳に追加

樹脂薄膜層に、２種以上のそれぞれ蒸着膜特性の異なる金属酸化物、好ましくは高バリア性の蒸着膜特性を示すアルミナと、伸びに耐えるバリア性と言う蒸着膜特性を示すシリカとを多元蒸着し、各金属酸化物の蒸着膜特性を相乗的に発現させた蒸着膜。 - 特許庁

The invention relates especially to a final optical-fibre preform comprising a primary preform 3 obtained by a VAD (vapor-phase axial deposition) process or an OVD (outside vapor deposition) process, a silica sleeve tube 4 surrounding the primary preform 3, and a built-up layer 5 made of silica particles surrounding the silica sleeve tube 4.例文帳に追加

本発明は、ＶＡＤ堆積法またはＯＶＤ堆積法によって得られる一次プリフォーム３と、一次プリフォーム３を取り囲むシリカスリーブチューブ４と、シリカスリーブチューブ４を取り囲むシリカ粒子でできたビルトアップ層５とを含む、光ファイバ最終プリフォームに特に関する。 - 特許庁

The deposition-preventing layer 6 has a thin layer formed of hydrophobic wet silica particles made by imparting hydrophobicity to wet silica particles and having an average particle size of 2.0-7.0 μm, and having a uniform particle distribution in which the silica particles adhere at an rate of 0.1-1.0 g/m^2.例文帳に追加

該付着防止層６は、湿式シリカ粒子に疎水性を付与した平均粒径２．０〜７．０μｍの疎水性湿式シリカ粒子をもって該粒子の付着量が０．１〜１．０ｇ／ｍ^２である粒子分布の均一な薄い層に形成する。 - 特許庁

The deposition-preventing layer 6 has a thin layer formed of hydrophobic wet silica particles made by imparting hydrophobicity to wet silica particles and having an average particle size of 0.5-7.0 μm, and having a uniform particle distribution in which the silica particles adhere at an rate of 0.1-0.5 g/m^2.例文帳に追加

該付着防止層６は、湿式シリカ粒子に疎水性を付与した平均粒径０．５〜７．０μｍの疎水性湿式シリカ粒子をもって該粒子の付着量が０．１〜０．５ｇ／ｍ^２である粒子分布の均一な薄い層に形成する。 - 特許庁

In the method of forming the mesoporous silica thick film on the surface of a substrate by electrophoretic deposition of mesoporous silica in an organic solvent, acetone having ≤0.45% water content is used as the organic solvent.例文帳に追加

有機溶媒中でメソポーラスシリカを泳動電着させて基板表面にメソポーラスシリカ厚膜を製造する方法において、有機溶媒として、水分含有量が０．４５％以下のアセトンを用いる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of hydrogen separation membrane capable of forming a silica separation membrane having high hydrogen selective permeability by a CVD (chemical vapor deposition) method.例文帳に追加

CVD法により高い水素選択透過性を有するシリカ分離膜を形成せしめる水素分離膜の製造法を提供する。 - 特許庁