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etch- backとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 エッチバック
「etch- back」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 121件
The color filter layer 28R is subjected to etch-back processing.例文帳に追加
カラーフィルタ層２８Ｒをエッチバック処理する。 - 特許庁
In order to securely carry out an etch back, the reference edge is used in two etch back stages.例文帳に追加
エッチバックを確実に遂行するため、この基準エッジは、２つのエッチバック段階中に用いられる。 - 特許庁
To easily specify the end point of planarizing processing (etch-back processing).例文帳に追加
平坦化処理（エッチバック処理）の終点を容易に特定する。 - 特許庁
Then, the space provided with the etch back is filled with gate material.例文帳に追加
その後，エッチバックにて設けられたスペースにゲート材を充填する。 - 特許庁
The transparent film 14 is used for detection of the end point of etch-back processing, so that the end point of etch-back processing can be easily predetermined.例文帳に追加
透明膜１４をエッチバック処理の終点検出に用いることで、エッチバック処理の終点を容易に特定することができる。 - 特許庁
Etch-back is executed by depositing polycrystalline silicon 16 in the trench.例文帳に追加
トレンチの内部に多結晶シリコン１６を堆積してエッチバックを行う。 - 特許庁
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Weblio例文辞書での「etch- back」に類似した例文 |
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etch back
はね返る.
go back over
（着物なら）to turn a coat inside out―（誤ってなら）―turn a coat the wrong side out―（遊里の詞にては）―make a second visit （to a prostitute）
to send someone or something back
振り返る.
ひっくり返る
ひっくり返すこと
「etch- back」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 121件
METHOD FOR IMPROVEMENT OF ALUMINUM METALLIZED STRUCTURE FOR TUNGSTEN ETCH BACK PROCESS例文帳に追加
タングステン・エッチ・バック処理のためのアルミニウム金属化組織の改良方法。 - 特許庁
The inter-layer insulating film is thinned by the etch-back of the polysilicon film 33.例文帳に追加
ポリシリコン膜３３のエッチバックにより層間絶縁膜が薄くなる。 - 特許庁
When plasma light emission of Sif produced by the etch-back processing of the transparent film 14 is detected, it is determined that the etch-back processing has reached the end point.例文帳に追加
透明膜１４がエッチバック処理された際に生成されるＳｉＦのプラズマ発光が検出されたら、エッチバック処理が終点に達したと判定する。 - 特許庁
BACK-CHANNEL-ETCH TYPE THIN-FILM TRANSISTOR, SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHODS THEREOF例文帳に追加
バックチャネルエッチ型の薄膜トランジスタ、半導体装置、及びこれらの製造方法 - 特許庁
The side surface of the memory gate 115 in contact with the control gate 126 is formed by etch back.例文帳に追加
コントロールゲート１２６と接するメモリーゲート１１５の側面をエッチバックにより形成する。 - 特許庁
This is applicable to a BCETFT (back channel etch thin film transistor) device and an ESTFT (etch stop thin film transistor) device as well.例文帳に追加
これは、ＢＣＥＴＦＴ（バックチャンネルエッチ型薄膜トランジスタ）デバイスにもＥＳＴＦＴ（エッチストップ型薄膜トランジスタ）デバイスにも応用可能である。 - 特許庁
Next, first side walls 35 are formed on the side walls of the support holes by using an etch back method.例文帳に追加
次に、エッチバック法を用いて、支持体穴の側壁に第１サイドウォール３５を形成する。 - 特許庁
Then, etch back is performed and the interlayer insulation film 7 is allowed to remain only on the surface of the gate electrode 5.例文帳に追加
ついで、エッチバックを行い、ゲート電極５の表面にのみ層間絶縁膜７を残す。 - 特許庁
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