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extreme typeとは 意味・読み方・使い方
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「extreme type」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 61件
STRAP-TYPE EXTREME EMERGENCY CHARGER FOR PORTABLE TELEPHONE例文帳に追加
携帯電話用ストラップ型超緊急充電器 - 特許庁
DRIVER LASER FOR EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE APPARATUS AND LPP-TYPE EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE APPARATUS例文帳に追加
極端紫外光源装置用ドライバーレーザ及びLPP型極端紫外光源装置 - 特許庁
IMPROVED TYPE LUBRICANT FORMULATION COMPRISING EXTREME PRESSURE ADDITIVE例文帳に追加
極圧添加剤を含んだ改良型潤滑剤調合物 - 特許庁
EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE DEVICE EQUIPPED WITH GAS FLOW TYPE SPF例文帳に追加
ガスフロー式SPFを備えた極端紫外光源装置 - 特許庁
So due to extreme shock or high levels of stress, it could be a type of例文帳に追加
だから極端なショックとかストレスの高いレベルの為に - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書
SLAB TYPE AMPLIFICATION DEVICE, LASER DEVICE, AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE DEVICE例文帳に追加
スラブ型増幅装置、レーザ装置および極端紫外光源装置 - 特許庁
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「extreme type」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 61件
With this lubricating oil composition, the anti-seizing characteristics are good and the extreme-pressure characteristics are the same as or better than with sulphur/phosphorus type extreme-pressure agents.例文帳に追加
この潤滑油組成物は、耐焼き付き性能が良好で、硫黄−リン系極圧剤と同等以上の極圧性を有する。 - 特許庁
Notably, this invention can be also applied to other light sources like an extreme ultra-violet light source of a plasma focus type and a Z-pinch type.例文帳に追加
なお、本発明は、プラズマフォーカス型やZ−ピンチ型の極端紫外光源等のその他の光源にも適用することができる。 - 特許庁
REFLECTTION TYPE PHOTOTMASK BLANK, METHOD OF MANUFACTURING SAME, REFLECTION TYPE PHOTOTMASK, METHOD OF MANUFACTURING SAME AND EXPOSURE METHOD OF EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT例文帳に追加
反射型フォトマスクブランク及びその製造方法、反射型フォトマスク及びその製造方法、並びに、極端紫外光の露光方法 - 特許庁
The mats are arranged in the vicinity of a peripheral part on the extreme inside of the chamber on a rotary type torque transmission mechanism (clutch).例文帳に追加
回転式トルク伝達機構(クラッチ)では、マットは、チャンバーの最内側周辺部の近傍に設置される。 - 特許庁
The refrigerating machine oil composition comprises a prescribed base oil, a phosphorus type extreme pressure agent and an oily agent.例文帳に追加
本発明の冷凍機油組成物は、所定基油と、リン系極圧剤と、油性剤と、を含有することを特徴とする。 - 特許庁
To provide a manufacturing technique of a semiconductor integrated circuit apparatus utilizing a defect modification technique of a reflection-type mask which uses an extreme ultra violet light (EUV) with a wavelength near 13.5 nm as an exposure light source.例文帳に追加
波長が13.5nm付近の極端紫外(Extreme Ultra Violet:EUV)光を露光光源とする反射型マスクの欠陥修正技術を利用した半導体集積回路装置の製造技術を提供する。 - 特許庁
To provide an LPP type extreme ultra violet light source device that produces an EUV light having a stable energy used for exposure.例文帳に追加
露光のために用いるエネルギーの安定したEUV光を発生するLPP型極端紫外光源装置を提供する。 - 特許庁
To stably form a target jet having a shape close to a hollow tube in an LPP type extreme ultraviolet light source device.例文帳に追加
LPP型極端紫外光源装置において、中空円筒に近い形状を有するターゲットジェットを安定して形成する。 - 特許庁
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