formation regionとは 意味・読み方・使い方

After a mask 9 is formed at an nMOS formation region and a pMOS formation region, the mask 9 at the pMOS formation region is removed, and a prescribed amount of metal 11 is deposited at the nMOS formation region and the pMOS formation region, thus silicifying a gate electrode 3b at the pMOS formation region fully.例文帳に追加

ｎＭＯＳ形成領域とｐＭＯＳ形成領域にマスク９を形成した後、ｐＭＯＳ形成領域にあるマスク９を除去し、ｎＭＯＳ形成領域とｐＭＯＳ形成領域に所定量の金属１１を堆積して、ｐＭＯＳ形成領域のゲート電極３ｂをフルシリサイド化する。 - 特許庁

A coating-unnecessary region 54 is present in a region other than an organic EL element 20 formation region.例文帳に追加

有機ＥＬ素子２０の形成領域以外の領域に塗布不要領域５４が存在する。 - 特許庁

Then, after forming a source/drain region 9 in the logic formation region, the TEOS oxide film 5b of the logic formation region is removed.例文帳に追加

次に、ロジック形成領域にソース・ドレイン領域９を形成した後、ロジック形成領域のＴＥＯＳ酸化膜５ｂを除去する。 - 特許庁

Gate electrodes 9a, 9b, 9c are formed in a high-speed transistor formation region HSn, a low leakage transistor formation region LLn, and a medium voltage transistor formation region MVn.例文帳に追加

高速トランジスタ形成領域ＨＳｎ、低リークトランジスタ形成領域ＬＬｎ及び中電圧トランジスタ形成領域ＭＶｎにゲート電極９ａ，９ｂ，９ｃを形成する。 - 特許庁

To suppress damages to a thin film on a device formation region, and a device being formed in the device formation region.例文帳に追加

デバイス形成領域上の薄膜およびデバイス形成領域に作り込まれたデバイスへのダメージを抑制する。 - 特許庁

The second potential gradient formation region is juxtaposed to the first potential gradient formation region in the second direction.例文帳に追加

第２電位勾配形成領域は、第１電位勾配形成領域に対し第２方向に並置されている。 - 特許庁

A circuit board 20 includes a ground electrode formation region GA and a ground electrode non-formation region NGA.例文帳に追加

回路基板２０はグランド電極形成領域ＧＡとグランド電極非形成領域ＮＧＡを備えている。 - 特許庁

Formation of the source region 36 leaves a ring-shaped p^+ type region 84.例文帳に追加

ソース領域３６の形成に伴いリング状のｐ^+型領域８４が残る。 - 特許庁