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JP4875565B2 - Cap for crucible of molecular beam source cell - Google Patents
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JP4875565B2 - Cap for crucible of molecular beam source cell - Google Patents

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JP4875565B2 JP2007204235A JP2007204235A JP4875565B2 JP 4875565 B2 JP4875565 B2 JP 4875565B2 JP 2007204235 A JP2007204235 A JP 2007204235A JP 2007204235 A JP2007204235 A JP 2007204235A JP 4875565 B2 JP4875565 B2 JP 4875565B2
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Description

本発明は、真空中で所望の蒸着物質(分子線材料)を加熱、蒸発させることにより分子線を発生、放出し、これを基板上に衝突、堆積させて薄膜を形成するために使用される分子線源セルの坩堝用キャップに関する。 The present invention is used to form a thin film by generating and emitting a molecular beam by heating and evaporating a desired vapor deposition material (molecular beam material) in a vacuum, and colliding and depositing the molecular beam on a substrate. The present invention relates to a crucible cap for a molecular beam source cell.

分子線エピキタシー装置(MBE装置)は、超高真空中に基板を置いて加熱すると共に、原料となる堆積したい物質をそれぞれ異なる坩堝に入れてヒータで加熱、蒸発させて分子線として基板上に照射して結晶成長させる装置である。   Molecular beam epitaxy equipment (MBE equipment) puts a substrate in an ultra-high vacuum and heats it, and puts the material to be deposited as raw materials in different crucibles, heats them with a heater, evaporates them, and irradiates the substrate as molecular beams This is a device for crystal growth.

図14はこのようなMBE装置の従来例を示す図である(特許文献1参照)。この図14に示す従来のMBE装置では、真空容器(図示せず)中に坩堝10,20と基板33が配置されている。各坩堝10,20には各蒸発材料a,bがそれぞれ充填されている。各坩堝10,20をヒータ15,16,25,26で加熱して各蒸発材料を蒸発させ、蒸発分子を各坩堝10,20の各開口部14,24から分子線として基板33方向に放出させることにより、基板33上に薄膜が形成される。この図14の従来例では、図示左側に配置された坩堝10には主成分の蒸着材料aが充填され、それが加熱されると蒸発して坩堝10の開口部14から分子線が基板33方向に放出される。他方、図示右側に配置された坩堝20には副成分の蒸着材料bが充填され、それが加熱されると蒸発して坩堝20の開口部24から分子線が基板33方向に放出されるが、その際、前記坩堝20の開口部に複数の絞り穴32が形成されたキャップ(前記開口部を閉止する閉止部材)31が嵌め込まれているため、前記蒸発分子はその量が所定量に絞り込まれて分子線として放出されるようになっている。
特開2003−34591号公報
FIG. 14 is a diagram showing a conventional example of such an MBE apparatus (see Patent Document 1). In the conventional MBE apparatus shown in FIG. 14, crucibles 10 and 20 and a substrate 33 are arranged in a vacuum vessel (not shown). The crucibles 10 and 20 are filled with the evaporation materials a and b, respectively. The crucibles 10 and 20 are heated by the heaters 15, 16, 25 and 26 to evaporate each evaporation material, and evaporated molecules are emitted from the openings 14 and 24 of the crucibles 10 and 20 as molecular beams toward the substrate 33. As a result, a thin film is formed on the substrate 33. In the conventional example of FIG. 14, the crucible 10 disposed on the left side of the figure is filled with a vapor deposition material a as a main component, and when it is heated, it evaporates and the molecular beam is directed from the opening 14 of the crucible 10 toward the substrate 33. To be released. On the other hand, the crucible 20 arranged on the right side of the figure is filled with the vapor deposition material b as a subcomponent, and when it is heated, it evaporates and a molecular beam is emitted from the opening 24 of the crucible 20 toward the substrate 33. At that time, since the cap (closing member for closing the opening) 31 having a plurality of throttle holes 32 formed in the opening of the crucible 20 is fitted, the amount of the evaporated molecules is reduced to a predetermined amount. Are emitted as molecular beams.
JP 2003-34591 A

ところで、前述のような従来のMBE装置においては、前記各坩堝10,20の開口部は基板33の中心に向くように配置されており、且つ、前記各坩堝10,20内で蒸着材料が加熱、蒸発して発生した蒸発分子は、そのまま又は前記絞り穴32により所定量に制限されて前記坩堝10,20の開口部14,24から分子線として放出されるだけなので、基板33上に形成される薄膜の膜厚は基板33の中心部分だけが大きく基板中心から離れた周辺部分では小さくなってしまうというように、基板上に形成される薄膜の膜厚が不均一となってしまうという問題があった。   By the way, in the conventional MBE apparatus as described above, the opening of each of the crucibles 10 and 20 is disposed so as to face the center of the substrate 33, and the vapor deposition material is heated in each of the crucibles 10 and 20. The evaporated molecules generated by evaporation are formed on the substrate 33 because they are emitted as molecular beams from the openings 14 and 24 of the crucibles 10 and 20 as they are or limited to a predetermined amount by the throttle hole 32. There is a problem that the thickness of the thin film formed on the substrate becomes non-uniform so that only the central portion of the substrate 33 is large and small in the peripheral portion away from the center of the substrate. there were.

本発明はこのような従来技術の問題点に着目してなされたものであって、低コストで基板上に形成する薄膜の膜厚の均一性を向上させることができ、しかも有機材料の蒸着のためだけでなく高温工程が必要な無機材料の蒸着のためにも使用することができる分子線源セルの坩堝用キャップを提供することを目的とする。 The present invention has been made paying attention to such problems of the prior art, and can improve the uniformity of the film thickness of the thin film formed on the substrate at low cost, and further allows the deposition of organic materials. Therefore, an object of the present invention is to provide a crucible cap for a molecular beam source cell that can be used not only for vapor deposition of inorganic materials that require high-temperature processes.

以上のような課題を解決するための本発明による分子線源セルの坩堝用キャップは、坩堝内に充填された分子線材料が加熱、蒸発することにより発生する蒸発分子を、前記坩堝の開口部から被蒸着基板の方向に、分子線として放出させる分子線源セルの坩堝用キャップであって、前記坩堝の開口部に取り付けられたときに前記開口部から前記基板方向に突出する突出部分を有しており、前記坩堝の開口部に取り付けられたときに前記開口部の中心軸方向に6mm以上の深さを有し且つキャップ下面の略中央部分から前記突出部分の前記基板に対向しない側面に向かうように略放射状に延びる複数の絞り穴であって、前記坩堝の開口部に取り付けられたときに前記坩堝の開口部の中心軸方向に対して15〜60度の範囲内で傾斜する複数の絞り穴が形成されている、ことを特徴とするものである。A crucible cap of a molecular beam source cell according to the present invention for solving the above-described problems is obtained by heating the evaporated molecular beam material filled in the crucible and evaporating molecules generated by evaporation. A crucible cap for a molecular beam source cell that emits as a molecular beam in the direction of the substrate to be vapor-deposited, having a protruding portion that protrudes from the opening toward the substrate when attached to the opening of the crucible. And having a depth of 6 mm or more in the direction of the central axis of the opening when attached to the opening of the crucible, and from a substantially central portion of the lower surface of the cap to a side surface not facing the substrate. A plurality of throttle holes extending substantially radially so as to be directed to each other, wherein the plurality of throttle holes are inclined within a range of 15 to 60 degrees with respect to a central axis direction of the crucible opening when attached to the crucible opening. Aperture There has been formed, it is characterized in.

また、本発明による分子線源セルの坩堝用キャップにおいては、前記絞り穴は、その内径が蒸発分子の進行方向に沿って徐々に増大するように形成されていることが望ましい。In the crucible cap of the molecular beam source cell according to the present invention, it is preferable that the throttle hole is formed so that the inner diameter thereof gradually increases along the traveling direction of the evaporated molecules.

また、本発明による分子線源セルの坩堝用キャップにおいては、その外形が、前記坩堝の開口部の中心軸に対して垂直な断面の面積が蒸発分子の進行方向に沿って徐々に増大するように形成されていることが望ましい。Further, in the crucible cap of the molecular beam source cell according to the present invention, the outer shape of the crucible cap is such that the area of the cross section perpendicular to the central axis of the opening of the crucible gradually increases along the traveling direction of the evaporated molecules. It is desirable that it is formed.

さらに、本発明による分子線源セルの坩堝用キャップにおいては、その全体がセラミック材料により一体に成形されていることが望ましい。Furthermore, the crucible cap of the molecular beam source cell according to the present invention is preferably integrally formed of a ceramic material.

本発明によれば、前記坩堝の開口部に、その全体が前記開口部の中心軸方向に約6mm以上の厚みを有するキャップを配置し、このキャップの内部に、前記坩堝の開口部の中心軸方向に対して約15〜60度だけ傾斜する複数の絞り穴を、前記キャップの底部の略中心から坩堝の開口部の外周又はその近傍へ向かう方向に(例えば被蒸着基板(特にその周辺部)に向かう方向に)、略放射状に形成するようにしている。したがって、本発明によれば、蒸発分子は前記キャップの各絞り穴から基板方向に分子線として放出されるが、前記各絞り穴はそれぞれ前記坩堝の開口部(被蒸着基板に対向している)の中心軸に対して約15〜60度だけ傾斜するように形成されているので、前記分子線は前記基板の中心部から外れた周辺部の方向に(基板表面に対して約15〜60度だけ傾斜した方向に)照射されるようになる。実際には、前記分子線は拡散しながら進行するので、前記基板の周辺部だけでなく中心部にもほぼ均等に照射される。よって、本発明によるときは、基板上に堆積される薄膜の膜厚が基板の中心部のみが大きくなってその周辺部が小さくなってしまうという不都合が防止され、基板上に形成される薄膜全体の膜厚の均一性を向上させることができる。   According to the present invention, a cap having a thickness of at least about 6 mm in the central axis direction of the opening is disposed in the opening of the crucible, and the central axis of the opening of the crucible is disposed inside the cap. A plurality of throttle holes inclined by about 15 to 60 degrees with respect to the direction in the direction from the approximate center of the bottom of the cap toward the outer periphery of the opening of the crucible or in the vicinity thereof (for example, the substrate to be deposited (particularly the periphery thereof) (In the direction toward the surface), it is formed so as to be substantially radial. Therefore, according to the present invention, the evaporated molecules are emitted as molecular beams in the direction of the substrate from the apertures of the cap, but the apertures of the crucibles (opposite the deposition target substrate), respectively. Is formed so as to be inclined by about 15 to 60 degrees with respect to the central axis of the substrate, so that the molecular beam is directed in the direction of the peripheral portion away from the central portion of the substrate (about 15 to 60 degrees with respect to the substrate surface). Only in a tilted direction). Actually, since the molecular beam travels while diffusing, not only the peripheral portion of the substrate but also the central portion is irradiated almost uniformly. Therefore, according to the present invention, it is possible to prevent the inconvenience that the thickness of the thin film deposited on the substrate is increased only in the central portion of the substrate and the peripheral portion is reduced, and the entire thin film formed on the substrate is prevented. The film thickness uniformity can be improved.

また、特に、本発明において、前記キャップの絞り穴の内径を蒸発分子の進行方向に沿って徐々に拡大するように形成したときは、前記絞り穴から放出される分子線は前記絞り穴の内径形状に沿って拡がりながら進行するので、基板上に形成される薄膜の膜厚の均一性をより一層向上させることができる。   In particular, in the present invention, when the inner diameter of the throttle hole of the cap is formed so as to gradually expand along the traveling direction of the evaporated molecules, the molecular beam emitted from the throttle hole is the inner diameter of the throttle hole. Since it progresses while expanding along the shape, the uniformity of the film thickness of the thin film formed on the substrate can be further improved.

また、本発明において、前記キャップは、その外形が、前記開口部の中心軸に対して垂直な断面の面積が蒸発分子の進行方向に沿って徐々に増大するように形成されているので、前記坩堝の開口部の下方近傍部分を基板方向に向かって徐々に内径が拡大するテーパ状に形成した場合でも、前記キャップの取り付けを容易に行うことができる。   In the present invention, the outer shape of the cap is formed such that the area of a cross section perpendicular to the central axis of the opening gradually increases along the traveling direction of the evaporated molecules. The cap can be easily attached even when the vicinity of the lower part of the opening of the crucible is formed in a tapered shape whose inner diameter gradually increases toward the substrate.

さらに、本発明において、前記キャップを耐熱性を有する公知のセラミック材料により一体に成形するようにしたときは、前記キャップの製造を極めて安価に行うことができると共に、有機材料の蒸着のためだけでなく坩堝を高温に加熱する必要がある無機材料の蒸着のためにも使用できる、という効果が得られる。   Furthermore, in the present invention, when the cap is integrally formed of a known heat-resistant ceramic material, the cap can be manufactured at a very low cost and only for the vapor deposition of an organic material. In addition, an effect is obtained that it can be used for vapor deposition of inorganic materials that require heating the crucible to a high temperature.

本発明を実施するための最良の形態は、以下の実施例1について述べるような形態である。   The best mode for carrying out the present invention is a mode as described in Example 1 below.

図1(a)は本発明の実施例1に係る分子線源セルに使用される坩堝を示す側断面図、図1(b)は図1(a)の坩堝に後述のキャップ2を装着した状態を示す側断面図、図2(a)は図1の坩堝の開口部に配置されるキャップ2を示す平面図、図2(b)は前記キャップ2の側断面図、図2(c)は前記キャップ2の底面を示す図、図3(a)は前記キャップ2を斜め上方から示す斜視図、図3(b)は前記キャップ2を斜め下方から示す斜視図である。   FIG. 1 (a) is a side sectional view showing a crucible used in the molecular beam source cell according to Example 1 of the present invention, and FIG. 1 (b) is a crucible shown in FIG. FIG. 2 (a) is a plan view showing a cap 2 arranged in the opening of the crucible of FIG. 1, FIG. 2 (b) is a side sectional view of the cap 2, and FIG. 2 (c). FIG. 3A is a perspective view showing the cap 2 obliquely from above, and FIG. 3B is a perspective view showing the cap 2 obliquely from below.

図1(a)(b)において、1は有底で略円筒状の坩堝、1aは坩堝1の開口部、1bは坩堝1の開口部1aの近傍の内径が他の部分より小さく形成された括れ部、である。本実施例1においては、真空容器(図示せず)内に、前記坩堝1が、その開口部1aが被蒸着基板(図示せず)に対向するように配置されている。また、本実施例1では、前記坩堝1の開口部1aの下方近傍部分1cは、その内径が図示上方に向かって徐々に拡大するテーパ状に形成されている。   1 (a) and 1 (b), 1 is a bottomed, substantially cylindrical crucible, 1a is an opening of the crucible 1, and 1b is formed with an inner diameter in the vicinity of the opening 1a of the crucible 1 smaller than other portions. The tie-down part. In the first embodiment, the crucible 1 is arranged in a vacuum vessel (not shown) so that the opening 1a faces the deposition target substrate (not shown). In the first embodiment, the lower vicinity 1c of the opening 1a of the crucible 1 is formed in a tapered shape whose inner diameter gradually increases upward in the figure.

また、図2(a)(b)(c)において、2は前記坩堝1の開口部1aに配置する例えばセラミック材料で一体成形されて成るキャップ、2aは前記キャップ2の内部に略放射状に形成された複数の絞り穴、2bは前記キャップ2の底部2cに形成され前記各絞り穴2aの図示下方部分と連続するように形成された共通穴、である。本実施例1においては、前記坩堝1内で分子線材料が加熱、蒸発することにより発生する蒸発分子は、前記キャップ2の共通穴2b及びそれに連続する各絞り穴2aを通過して、分子線として前記基板方向へ放出される。   2A, 2B, and 2C, reference numeral 2 denotes a cap that is placed in the opening 1a of the crucible 1 and is integrally formed of, for example, a ceramic material, and 2a is formed substantially radially inside the cap 2. The plurality of throttle holes 2b are common holes formed in the bottom 2c of the cap 2 so as to be continuous with the illustrated lower portion of each throttle hole 2a. In the first embodiment, the evaporated molecules generated by heating and evaporating the molecular beam material in the crucible 1 pass through the common hole 2b of the cap 2 and the respective constricted holes 2a. Is emitted toward the substrate.

本実施例1では、前記キッャプ2は、その図示上下方向の厚さ(前記坩堝1の開口部1aの中心軸A方向の厚さ)が、例えば8.6mmとなるように形成されている。よって、本実施例1では、前記キャップ2内に形成された絞り穴2aは、それぞれ前記基板に照射される分子線に指向性を与えるのに十分な長さを有している。   In the first embodiment, the cap 2 is formed so that its vertical thickness (thickness in the direction of the central axis A of the opening 1a of the crucible 1) is, for example, 8.6 mm. Therefore, in the first embodiment, the aperture 2a formed in the cap 2 has a length sufficient to give directivity to the molecular beam irradiated to the substrate.

また、本実施例1において、前記キッャプ2の絞り穴2aは、キャップ2の図示上下方向(前記坩堝1の開口部1aの中心軸A方向)に対して例えば約45度だけ傾斜するように、形成されている。また、本実施例1では、計12個の絞り穴2aが、前記坩堝1の開口部1aの近傍の括れ部1bの略中心から開口部1aの外周又はその近傍へ向かう方向(被蒸着基板の周辺部へ向かう方向)に、略放射状に形成されている。すなわち、本実施例1では、前記各絞り穴2aは、前記キャップ2の共通穴3bから斜め上方向(徐々に外周に近づく方向)に向かって延びて行き、前記キャップ2の上面の一部(外周に近い側)に開口している。   Further, in the first embodiment, the throttle hole 2a of the cap 2 is inclined by, for example, about 45 degrees with respect to the illustrated vertical direction of the cap 2 (the direction of the central axis A of the opening 1a of the crucible 1). Is formed. Further, in the first embodiment, a total of 12 throttle holes 2a are directed from the approximate center of the constricted portion 1b in the vicinity of the opening 1a of the crucible 1 toward the outer periphery of the opening 1a or in the vicinity thereof (on the deposition substrate). In a direction toward the peripheral part), it is formed substantially radially. That is, in the first embodiment, each of the throttle holes 2a extends from the common hole 3b of the cap 2 in an obliquely upward direction (a direction gradually approaching the outer periphery), and a part of the upper surface of the cap 2 ( Open to the side near the outer periphery.

以上より、本実施例1では、前記坩堝1で発生した蒸発分子は、前記絞り穴2aを通過するとき、基板の中心部にではなく基板の周辺部に向かうように、指向性を付与されて分子線として放出される。なお、本実施例1では、前記各絞り穴2aの内径は全て略同一に形成されている。また、本実施例1において、前記キャップ2は、前記坩堝1の開口部1aの下方近傍部分1cのテーパ状に形成された内壁面に対応するように、その外径が図示上方向(基板の方向)に沿って徐々に拡大するテーパ状に形成されている(図2(b)参照)。   As described above, in Example 1, the evaporated molecules generated in the crucible 1 are given directivity so as to go to the peripheral part of the substrate instead of the central part of the substrate when passing through the throttle hole 2a. Released as a molecular beam. In the first embodiment, the inner diameters of the respective throttle holes 2a are all formed substantially the same. Further, in the first embodiment, the cap 2 has an outer diameter in the upward direction in the figure (corresponding to the substrate) so as to correspond to the tapered inner wall surface of the lower vicinity 1c of the opening 1a of the crucible 1. It is formed in a tapered shape that gradually expands along the direction (see FIG. 2B).

以上のように、本実施例1においては、前記坩堝1の開口部1aに例えば8.6mmの厚さを有するキャップ2が配置され、且つ、前記キャップ2には基板に向かう方向(前記坩堝1の開口部1aの中心軸A方向)に対して例えば約45度だけ傾斜する複数の絞り穴2aが形成されている。したがって、本実施例1では、前記坩堝1内で分子線材料が加熱、蒸発して発生した蒸発分子は、前記キャップ2内の各絞り穴2aの中を所定の長さ(指向性を与えるのに十分な長さ)だけ通過することにより、基板の中心部だけでなく基板の周辺部に向かうように指向性を与えられて、分子線として放出される(これに対して、例えば特許文献1の閉止部材31に形成された絞り穴32は、前記絞り穴32の長さが極めて短いため、分子線に指向性を与えることはできない)。したがって、本実施例1によれば、基板の周辺部と中心部とに渡ってほぼ均一に蒸着分子(分子線)を衝突、堆積させることができ、基板表面にほぼ均一の膜厚を有する薄膜を形成することができる。また、本実施例1においては、前記キャップ2は公知のセラミック材料で一体成形するようにしているので、極めて安価に製造することができると共に、例えば1,700℃などの高温でも耐えられるので有機材料の蒸着だけでなく高温工程が必要な無機材料の蒸着のためにも使用することができる。   As described above, in the first embodiment, the cap 2 having a thickness of, for example, 8.6 mm is disposed in the opening 1a of the crucible 1, and the cap 2 has a direction toward the substrate (the crucible 1 A plurality of apertures 2a are formed which are inclined by, for example, about 45 degrees with respect to the central axis A direction of the opening 1a. Therefore, in the first embodiment, the evaporated molecules generated by heating and evaporating the molecular beam material in the crucible 1 are given a predetermined length (giving directivity) in each throttle hole 2a in the cap 2. For example, a directivity is given not only to the center part of the substrate but also to the peripheral part of the substrate and emitted as a molecular beam (for example, Patent Document 1). The restriction hole 32 formed in the closing member 31 has a very short length, so that directivity cannot be given to the molecular beam). Therefore, according to the first embodiment, vapor deposition molecules (molecular beams) can be collided and deposited almost uniformly over the periphery and center of the substrate, and a thin film having a substantially uniform film thickness on the substrate surface. Can be formed. In the first embodiment, since the cap 2 is integrally formed of a known ceramic material, it can be manufactured at a very low cost and can withstand high temperatures such as 1,700 ° C. It can be used not only for the deposition of materials but also for the deposition of inorganic materials that require high temperature processes.

なお、本発明者は、前記坩堝1に前記キャップ2を装着して基板にAgなどの金属薄膜を形成した場合と前記キャップ2を装着しないで基板に金属薄膜を形成した場合(いずれも分子線の基板への付着速度は0.5Å/s)とにおける膜厚分布形状を測定して比較する実験を行った。図4はこの結果を示すグラフである。図4においては、前記キャップ2を使用した場合と、前記キャップ2を使用しない場合との膜厚分布形状を示している。図4に示すように、前記キャップ2を使用しない場合はセル中心(坩堝1の開口部1aの中心軸Aと基板とが交差する位置)からの距離が大きくなるに従って膜厚が比較的急激に小さくなっているが、前記キャップ2を使用した場合はセル中心からの距離が大きくなっても膜厚分布が比較的緩やかに下降している(膜厚分布形状がN=3よりも向上している)。よって、本実施例1のキャップ2を使用することにより、基板上に形成される薄膜の膜厚分布の均一性を向上させることができることが確認できた。   In addition, this inventor is the case where the cap 2 is attached to the crucible 1 and a metal thin film such as Ag is formed on the substrate, and the case where the metal thin film is formed on the substrate without attaching the cap 2 (both are molecular beams) An experiment was conducted in which the film thickness distribution shape was measured and compared at a deposition rate of 0.5 mm / s). FIG. 4 is a graph showing the results. FIG. 4 shows film thickness distribution shapes when the cap 2 is used and when the cap 2 is not used. As shown in FIG. 4, when the cap 2 is not used, the film thickness becomes relatively abrupt as the distance from the cell center (the position where the central axis A of the opening 1a of the crucible 1 intersects the substrate) increases. When the cap 2 is used, the film thickness distribution decreases relatively slowly even when the distance from the cell center is increased (the film thickness distribution shape is improved from N = 3). ) Therefore, it was confirmed that the uniformity of the film thickness distribution of the thin film formed on the substrate can be improved by using the cap 2 of Example 1.

次に、図5(a)は本発明の実施例2に係る分子線源セルに使用される坩堝を示す側断面図、図5(b)は図5(a)の坩堝に後述のキャップを装着した状態を示す側断面図、図6(a)は図5の坩堝の開口部に配置されるキャップを示す平面図、図6(b)はその側断面図、図6(c)はその底面を示す図、図6(d)はその側面図(内部の絞り穴を破線及び一点鎖線で示す)、図7(a)は本実施例2に使用されるキャップを斜め上方から示す斜視図、図7(b)はそのキャップを斜め下方から示す斜視図である。   Next, FIG. 5 (a) is a side sectional view showing a crucible used in the molecular beam source cell according to Example 2 of the present invention, and FIG. 5 (b) shows a later-described cap on the crucible of FIG. 5 (a). FIG. 6 (a) is a plan view showing a cap disposed in the opening of the crucible in FIG. 5, FIG. 6 (b) is a side sectional view thereof, and FIG. 6 (c) is a sectional view thereof. FIG. 6 (d) is a side view (inner drawing hole is indicated by a broken line and a one-dot chain line), and FIG. 7 (a) is a perspective view showing a cap used in the second embodiment obliquely from above. FIG. 7B is a perspective view showing the cap obliquely from below.

図5〜7において、図1〜3と共通する部分には同一の符号を付して説明を省略する。図5〜7において、3は前記坩堝1の開口部1aに配置する例えばセラミック材料で一体成形されて成るキャップ、3aは前記キャップ3の内部に形成された複数の絞り穴、3bは前記キャップ3の底部3cの中央に形成され前記各絞り穴3aの図示下方部分と連続する共通穴、である。本実施例2においては、前記坩堝1内で分子線材料が加熱、蒸発して発生する蒸発分子が、前記キャップ3の共通穴3b及びそれに連続する各絞り穴3aを通過することにより、分子線となって前記基板方向へ放出される。   5-7, the same code | symbol is attached | subjected to the part which is common in FIGS. 1-3, and description is abbreviate | omitted. 5 to 7, reference numeral 3 denotes a cap which is disposed in the opening 1 a of the crucible 1 and is integrally formed of, for example, a ceramic material, 3 a is a plurality of throttle holes formed inside the cap 3, and 3 b is the cap 3. This is a common hole formed in the center of the bottom 3c and continuous with the illustrated lower part of each throttle hole 3a. In the second embodiment, the molecular beam generated by heating and evaporating the molecular beam material in the crucible 1 passes through the common hole 3b of the cap 3 and the respective constricted holes 3a. And discharged toward the substrate.

本実施例2では、前記キッャプ3は、その図示上下方向の厚さ(前記坩堝1の開口部1aの中心軸A方向の厚さ)が、例えば12.6mmとなるように形成されている。よって、本実施例2では、前記キャップ3内に形成された各絞り穴3aは、それぞれ所定の長さ(前記坩堝1の開口部1aから放出される分子線に指向性を与えるのに十分な長さ)が確保されている。また、本実施例2において、前記キッャプ3の各絞り穴3aは、キャップ3の図示上下方向(前記坩堝1の開口部1aの中心軸Aの方向)に対して例えば約45度だけ傾斜するように、形成されている(図6(b)参照)。また、本実施例2では、計12個の絞り穴3aが、前記坩堝1の括れ部1cの中心から被蒸着基板へ向かう方向に、略放射状に形成されている。すなわち、本実施例2では、前記各絞り穴3aは、前記キャップ3の共通穴3bから斜め上方向(徐々に外周に近づく方向)に向かって延びて行き、前記キャップ3の図示上方部分の側面3dと上面3eの一部に開口している。   In the second embodiment, the cap 3 is formed so that its vertical thickness (thickness in the direction of the central axis A of the opening 1a of the crucible 1) is 12.6 mm, for example. Therefore, in the second embodiment, each throttle hole 3a formed in the cap 3 has a predetermined length (sufficient to give directivity to the molecular beam emitted from the opening 1a of the crucible 1). Length) is secured. In the second embodiment, each throttle hole 3a of the cap 3 is inclined by, for example, about 45 degrees with respect to the illustrated vertical direction of the cap 3 (the direction of the central axis A of the opening 1a of the crucible 1). (See FIG. 6B). In the second embodiment, a total of twelve throttle holes 3a are formed substantially radially in the direction from the center of the constricted portion 1c of the crucible 1 toward the deposition target substrate. That is, in the second embodiment, each of the throttle holes 3a extends from the common hole 3b of the cap 3 in an obliquely upward direction (a direction gradually approaching the outer periphery), and the side surface of the upper portion of the cap 3 in the figure. 3d and a part of upper surface 3e are opened.

以上より、本実施例2では、前記坩堝1内で発生した蒸発分子は、前記絞り穴3aにより、基板の中心部にではなく基板の周辺部に向かうように指向性を付与された分子線として放出される。なお、本実施例2では、前記各絞り穴3aの内径は全て同一に形成されている。また、前記キャップ3の図示下方部分は、図6(b)に示すように、前記坩堝1の開口部1aの下方近傍部分1cのテーパ状の内壁面に対応するように、その外径が図示上方向(基板の方向)に沿って徐々に拡大するテーパ状に形成されている。   As described above, in Example 2, the evaporated molecules generated in the crucible 1 are molecular beams that are given directivity so as to go to the peripheral part of the substrate instead of the central part of the substrate by the throttle hole 3a. Released. In the second embodiment, the inner diameters of the throttle holes 3a are all the same. Further, as shown in FIG. 6 (b), the lower part of the cap 3 shown in the figure has an outer diameter corresponding to the tapered inner wall surface of the lower vicinity 1c of the opening 1a of the crucible 1. It is formed in a tapered shape that gradually expands along the upward direction (the direction of the substrate).

以上のように、本実施例2においては、前記坩堝1の開口部1aに例えば12.6mmの厚さを有するキャップ3が配置され、且つ、前記キャップ3には基板方向(前記坩堝1の開口部1aの中心軸A方向)に対して例えば約45度だけ傾斜する複数の絞り穴3aが略放射状に形成されている。したがって、本実施例2では、前記坩堝1内で分子線材料が加熱、蒸発することにより発生した蒸発分子が、前記キャップ3内の各絞り穴3aの中を所定の長さ(指向性を与えるのに十分な長さ)だけ通過することにより、基板の中心部にではなく基板の周辺部に向かうように指向性を与えられ、分子線として放出される。このように分子線が基板の周辺部の方向への指向性を与えられた場合でも、実際には、分子線は基板に向かう途中で徐々に拡散するので、分子線は基板の周辺部だけでなくその中心部にもほぼ均等に衝突し、堆積する。したがって、本実施例2によれば、基板の周辺部と中心部とにほぼ均一に、分子線を衝突させ蒸着分子を堆積させることができるので、基板表面にほぼ均一な膜厚の薄膜を形成することができる。また、本実施例2においては、前記キャップ3は公知のセラミック材料で一体成形できるので、極めて安価に製造することができると共に、例えば1,700℃などの高温でも耐えられるので有機材料の蒸着だけでなく高温工程が必要な無機材料の蒸着のためにも使用することができる。   As described above, in the second embodiment, the cap 3 having a thickness of 12.6 mm, for example, is disposed in the opening 1a of the crucible 1, and the cap 3 has a substrate direction (opening of the crucible 1). A plurality of throttle holes 3a inclined by about 45 degrees, for example, with respect to the central axis A direction of the portion 1a are formed substantially radially. Therefore, in the second embodiment, the evaporated molecules generated by heating and evaporating the molecular beam material in the crucible 1 have a predetermined length (giving directivity) in each throttle hole 3a in the cap 3. (A sufficient length), the directivity is given to the peripheral portion of the substrate, not to the central portion of the substrate, and it is emitted as a molecular beam. Even if the molecular beam is given directivity in the direction of the peripheral part of the substrate in this way, in fact, the molecular beam gradually diffuses on the way to the substrate, so the molecular beam is only in the peripheral part of the substrate. It collides almost evenly in the center and accumulates. Therefore, according to the second embodiment, it is possible to deposit the vapor deposition molecules by colliding the molecular beam substantially uniformly with the peripheral portion and the central portion of the substrate, so that a thin film having a substantially uniform film thickness is formed on the substrate surface. can do. In the second embodiment, since the cap 3 can be integrally formed with a known ceramic material, it can be manufactured at a very low cost and can withstand high temperatures such as 1,700 ° C., so that only organic material is deposited. It can also be used for vapor deposition of inorganic materials that require high temperature processes.

次に、図8は本発明の実施例3に係る分子線源セルに使用されるキャップを示す側断面図である。本実施例3においては、図8に示すように、坩堝1の開口部1aに配置されるキャップ4の構造が前記実施例1と異なっているだけで、それ以外の基本構成は前記実施例1と同様である。本実施例3で使用されるキャップ4は、その底部4cの中央に形成されている共通穴4bから図8の斜め上方に(且つ放射状に)延びる複数の絞り穴4aの内部形状(内壁面)が、前記実施例1の絞り穴2aのようなストレートの形状(図2(b)参照)ではなく蒸発分子の進行方向に沿って徐々に内径が拡大するテーパ状に形成されている点に特徴がある。   Next, FIG. 8 is a side sectional view showing a cap used in the molecular beam source cell according to Embodiment 3 of the present invention. In the third embodiment, as shown in FIG. 8, the structure of the cap 4 disposed in the opening 1a of the crucible 1 is different from the first embodiment, and the other basic configuration is the first embodiment. It is the same. The cap 4 used in the third embodiment has an inner shape (inner wall surface) of a plurality of throttle holes 4a extending obliquely upward (and radially) in FIG. 8 from a common hole 4b formed at the center of the bottom portion 4c. However, it is not a straight shape like the throttle hole 2a of the first embodiment (see FIG. 2B), but is characterized in that it is formed in a tapered shape in which the inner diameter gradually increases along the traveling direction of the evaporated molecules. There is.

本実施例3においては、前述のように前記各絞り穴4aがテーパ状に形成されているため、前記各絞り穴4aを通過する蒸発分子は、前記各絞り穴4aを通過する過程で指向性を付与されながら同時にテーパ状の内壁面に沿って拡散しながら分子線として基板方向に放出される。よって、本実施例3によれば、基板表面に分子線が均等に衝突することになり、基板上の薄膜の膜厚の均一性をより向上させることが可能になる。   In the third embodiment, since each throttle hole 4a is tapered as described above, evaporated molecules passing through each throttle hole 4a have directivity in the process of passing through each throttle hole 4a. Are simultaneously diffused along the tapered inner wall surface and emitted as molecular beams toward the substrate. Therefore, according to the third embodiment, molecular beams collide evenly with the substrate surface, and the uniformity of the film thickness of the thin film on the substrate can be further improved.

次に、図9は本発明の実施例4に係る分子線源セルに使用されるキャップを示す側断面図である。本実施例4においては、図9に示すように、坩堝1の開口部1aに配置されるキャップ5の構成が前記実施例2と異なっているだけで、それ以外の基本構成は前記実施例2と同様である。本実施例4で使用されるキャップ5は、その底部5cの中央に形成されている共通穴5bから図9の斜め上方に(且つ放射状に)延びる複数の絞り穴5aの内部形状(内壁面)が、前記実施例2の絞り穴3aのようなストレートの形状(図6(b)参照)ではなく蒸発分子の進行方向に沿って徐々に内径が拡大するテーパ状に形成されている点に特徴がある。   Next, FIG. 9 is a side sectional view showing a cap used in the molecular beam source cell according to Embodiment 4 of the present invention. In the fourth embodiment, as shown in FIG. 9, the configuration of the cap 5 disposed in the opening 1a of the crucible 1 is different from the second embodiment, and the other basic configuration is the second embodiment. It is the same. The cap 5 used in the fourth embodiment has an inner shape (inner wall surface) of a plurality of throttle holes 5a extending obliquely upward (and radially) in FIG. 9 from a common hole 5b formed at the center of the bottom 5c. However, it is not a straight shape (see FIG. 6B) like the throttle hole 3a of the second embodiment, but is characterized in that it is formed in a tapered shape in which the inner diameter gradually increases along the traveling direction of the evaporated molecules. There is.

本実施例4においては、前述のように前記各絞り穴5aがテーパ状に形成されているため、前記各絞り穴5aを通過する蒸発分子は、前記各絞り穴5aを通過する過程で指向性を付与されながら同時にテーパ状の内壁面に沿って拡散しながら分子線として基板方向に放出される。よって、本実施例4によれば、基板表面に分子線が均等に衝突することになり、基板上の薄膜の膜厚の均一性をより向上させることが可能になる。   In the fourth embodiment, since each throttle hole 5a is tapered as described above, the evaporated molecules passing through each throttle hole 5a have directivity in the process of passing through each throttle hole 5a. Are simultaneously diffused along the tapered inner wall surface and emitted as molecular beams toward the substrate. Therefore, according to the fourth embodiment, molecular beams collide evenly with the substrate surface, and the uniformity of the film thickness of the thin film on the substrate can be further improved.

次に、図10は本発明の実施例5に係る分子線源セルに使用されるキャップを示す側断面図である。本実施例5においては、図10に示すように、坩堝1の開口部1aに配置されるキャップ6の外形が前記実施例1と異なっているだけで、それ以外の基本構成は前記実施例1と同様である。本実施例5においては、前記キャップ6の外形が円筒形状に形成されている。これは、前記キャップ6が装着される坩堝1の開口部1aの下方近傍部分(図1の1c参照)の形状が図1などに示すようなテーパ状でなくストレートの円筒状に形成されている場合を想定して、それに適合するようにキャップ6の外形を形成したものである。なお、前記キャップ6にはその底部6cの中央に形成されている共通穴6bから図10の斜め上方に(且つ放射状に)向かうように複数の絞り穴6aが形成されているが、この点は前記実施例1と同様である。よって、本実施例5によっても前記実施例1と同様の作用効果を奏することができる。   Next, FIG. 10 is a side sectional view showing a cap used in the molecular beam source cell according to Embodiment 5 of the present invention. In the fifth embodiment, as shown in FIG. 10, only the outer shape of the cap 6 arranged in the opening 1a of the crucible 1 is different from that of the first embodiment, and the other basic configuration is the first embodiment. It is the same. In the fifth embodiment, the outer shape of the cap 6 is formed in a cylindrical shape. This is because the shape of the lower portion (see 1c in FIG. 1) of the opening 1a of the crucible 1 to which the cap 6 is mounted is not a taper as shown in FIG. 1 but a straight cylindrical shape. Assuming the case, the outer shape of the cap 6 is formed so as to be adapted thereto. A plurality of throttle holes 6a are formed in the cap 6 so as to extend obliquely upward (and radially) in FIG. 10 from a common hole 6b formed in the center of the bottom 6c. The same as in the first embodiment. Therefore, the same effects as those of the first embodiment can be achieved by the fifth embodiment.

次に、図11は本発明の実施例6に係る分子線源セルに使用されるキャップを示す側断面図である。本実施例6においては、図11に示すように、坩堝1の開口部1aに配置されるキャップ7の外形が前記実施例2と異なっているだけで、それ以外の基本構成は前記実施例2と同様である。本実施例6においては、前記キャップ7の外形は円筒形状に形成されている。これは、前記キャップ7が装着される坩堝1の開口部1aの下方の近傍部分(図5の1c参照)の形状が図5などに示すようなテーパ状でなくストレートの円筒状に形成されている場合を想定して、それに適合するようにキャップ7の外形を形成したものである。なお、前記キャップ7にはその底部7cの中央に形成されている共通穴7bから図11の斜め上方に(且つ放射状に)向かうように複数の絞り穴7aが形成されているが、この点は前記実施例2と同様である。よって、本実施例6によっても前記実施例2と同様の作用効果を奏することができる。   Next, FIG. 11 is a side sectional view showing a cap used in the molecular beam source cell according to Embodiment 6 of the present invention. In the sixth embodiment, as shown in FIG. 11, only the outer shape of the cap 7 disposed in the opening 1a of the crucible 1 is different from that of the second embodiment, and the other basic configuration is the second embodiment. It is the same. In the sixth embodiment, the outer shape of the cap 7 is formed in a cylindrical shape. This is because the shape of the vicinity of the lower part of the opening 1a of the crucible 1 to which the cap 7 is mounted (see 1c in FIG. 5) is not a tapered shape as shown in FIG. In this case, the outer shape of the cap 7 is formed so as to match it. A plurality of throttle holes 7a are formed in the cap 7 so as to extend obliquely upward (and radially) in FIG. 11 from a common hole 7b formed in the center of the bottom 7c. The same as in the second embodiment. Therefore, the same operational effects as those of the second embodiment can be achieved by the sixth embodiment.

次に、図12は本発明の実施例7に係る分子線源セルに使用されるキャップを示す側断面図である。本実施例7においては、図12に示すように、坩堝1の開口部1aに配置されるキャップ8の外形が前記実施例3と異なっているだけで、それ以外の基本構成は前記実施例3と同様である。本実施例7においては、前記キャップ8の外形は円筒形状に形成されている。これは、前記キャップ8が装着される坩堝1の開口部1aの下方の近傍部分(図1の1c参照)の形状が図1などに示すようなテーパ状でなくストレートの円筒状に形成されている場合を想定して、それに適合するようにキャップ8の外形を形成したものである。なお、前記キャップ8には、その底部8cの中央に形成されている共通穴8bから図12の斜め上方に(且つ放射状に)向かうように、蒸発分子の進行方向に沿って徐々に内径が拡大する絞り穴8aが複数、形成されているが、この点は前記実施例3と同様である。よって、本実施例7によっても前記実施例3と同様の作用効果を奏することができる。   Next, FIG. 12 is a side sectional view showing a cap used in the molecular beam source cell according to Embodiment 7 of the present invention. In the seventh embodiment, as shown in FIG. 12, only the outer shape of the cap 8 arranged in the opening 1a of the crucible 1 is different from the third embodiment, and the other basic configuration is the third embodiment. It is the same. In the seventh embodiment, the outer shape of the cap 8 is formed in a cylindrical shape. This is because the shape of the vicinity of the lower part of the opening 1a of the crucible 1 to which the cap 8 is mounted (see 1c in FIG. 1) is not a tapered shape as shown in FIG. In this case, the outer shape of the cap 8 is formed so as to be adapted thereto. Note that the inner diameter of the cap 8 gradually increases along the traveling direction of the evaporated molecules from the common hole 8b formed in the center of the bottom portion 8c toward diagonally upward (and radially) in FIG. A plurality of aperture holes 8a to be formed are formed. This is the same as in the third embodiment. Therefore, the same operational effects as those of the third embodiment can be achieved by the seventh embodiment.

次に、図13は本発明の実施例8に係る分子線源セルに使用されるキャップを示す側断面図である。本実施例8においては、図13に示すように、坩堝1の開口部1aに配置されるキャップ9の外形が前記実施例4と異なっているだけで、それ以外の基本構成は前記実施例4と同様である。本実施例8においては、前記キャップ9の外形は円筒形状に形成されている。これは、前記キャップ9が装着される坩堝1の開口部1aの下方の近傍部分(図5の1c参照)の形状が図5などに示すようなテーパ状でなくストレートの円筒状に形成されている場合を想定して、それに適合するようにキャップ9の外形を形成したものである。なお、前記キャップ9にはその底部9cの中央に形成されている共通穴9bから図13の斜め上方に(且つ放射状に)向かうように、蒸発分子の進行方向に沿って徐々に内径が拡大する絞り穴9aが複数、形成されているが、この点は前記実施例4と同様である。よって、本実施例8によっても前記実施例4と同様の作用効果を奏することができる。   Next, FIG. 13 is a side sectional view showing a cap used in the molecular beam source cell according to Example 8 of the present invention. In the eighth embodiment, as shown in FIG. 13, only the outer shape of the cap 9 arranged in the opening 1a of the crucible 1 is different from the fourth embodiment, and the other basic configuration is the fourth embodiment. It is the same. In the eighth embodiment, the outer shape of the cap 9 is formed in a cylindrical shape. This is because the shape of the vicinity of the lower part of the opening 1a of the crucible 1 to which the cap 9 is mounted (see 1c in FIG. 5) is not a tapered shape as shown in FIG. In this case, the outer shape of the cap 9 is formed so as to match it. Note that the inner diameter of the cap 9 gradually increases along the traveling direction of the evaporated molecules from the common hole 9b formed in the center of the bottom portion 9c toward diagonally upward (and radially) in FIG. A plurality of throttle holes 9a are formed. This is the same as in the fourth embodiment. Therefore, the same operational effects as those of the fourth embodiment can be achieved by the eighth embodiment.

以上、本発明の各実施例について説明したが、本発明及び本発明を構成する各構成要件は、それぞれ、前記の各実施例及び前記の各実施例を構成する各要素として述べたものに限定されるものではなく、様々な修正及び変更が可能である。例えば、前記実施例1においては、前記キャップ2を公知のセラミック材料により製造した例を示したが、本実施例1ではこれに限られるものではなく、例えば公知の金属材料により製造するようにしてもよいことは勿論である。   The embodiments of the present invention have been described above. However, the present invention and the constituent elements constituting the present invention are limited to those described as the respective embodiments and the respective elements constituting the respective embodiments, respectively. Various modifications and changes are possible. For example, in the first embodiment, an example in which the cap 2 is manufactured from a known ceramic material is shown. However, the first embodiment is not limited to this, and for example, the cap 2 is manufactured from a known metal material. Of course, it is also good.

また、前記実施例1〜8においては、坩堝1の開口部1aに配置するキャップ2,3,4,5,6,7,8,9の前記開口部1aの中心軸A方向の厚さを8.6mm(実施例1など)又は12.6mm(実施例2など)としたが、本発明では、これらに限られるものではない。すなわち、本発明においては、前記キャップは、前記絞り穴2a,3a,4a,5a,6a,7a,8a,9aにその中を通過する蒸発分子に十分な指向性を与えることができるような長さを確保できるだけの厚さを有していればよいので、結局、前記キャップの厚さは約6mm以上の厚みを有するものであればよい。また、そもそもキャップとは開口部を閉止するためのものであるからその厚さ寸法は常識的な範囲に止まるべきことや製造コストなどの観点から、本発明におけるキャップについても過大な必要以上の厚さ寸法は採用すべきではない(その中を通過する蒸発分子に十分な指向性を付与できる長さを前記絞り穴に確保できるような厚さであれば必要十分である)ので、結局、本発明におけるキャップの厚さは約6〜15mm程度の厚みを有するように形成すればよいし、それが望ましい。   Moreover, in the said Examples 1-8, the thickness of the direction of the central axis A of the said opening part 1a of the caps 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, and 9 arrange | positioned at the opening part 1a of the crucible 1 is set. Although it was set to 8.6 mm (Example 1 etc.) or 12.6 mm (Example 2 etc.), in this invention, it is not restricted to these. That is, in the present invention, the cap is long enough to give sufficient directivity to the evaporated molecules passing through the throttle holes 2a, 3a, 4a, 5a, 6a, 7a, 8a, 9a. Therefore, the thickness of the cap may be any thickness as long as it has a thickness of about 6 mm or more. In addition, since the cap is intended to close the opening, the thickness of the cap should be kept in a common sense range and from the viewpoint of manufacturing cost, the cap in the present invention is too thick. The thickness should not be adopted (thickness that can secure a sufficient length for the evaporating molecules passing therethrough in the throttle hole is sufficient). The thickness of the cap in the invention may be formed so as to have a thickness of about 6 to 15 mm, and it is desirable.

また、前記実施例1〜8においては、前記キャップ2,3,4,5,6,7,8,9の内部に形成する各絞り穴2a,3a,4a,5a,6a,7a,8a,9aを、前記坩堝1の括れ部1cの略中心から開口部1aの外周方向に向かって、前記開口部1aの中心軸A方向に対して約45度だけ傾斜するように形成するようにしているが、本発明では、これに限られるものではなく、分子線の放出方向を基板の中心ではなく基板の周辺部とすることができれば良いので、結局、前記キャップの内部に形成する各絞り穴は前記開口部1aの中心軸A方向に対して約15〜60度の範囲内(より望ましくは約30〜50度の範囲内)で傾斜するように形成すればよいし、それが望ましい。   Moreover, in the said Examples 1-8, each aperture hole 2a, 3a, 4a, 5a, 6a, 7a, 8a, formed in the inside of the said cap 2,3,4,5,6,7,8,9, 9a is formed so as to be inclined by approximately 45 degrees with respect to the direction of the central axis A of the opening 1a from the approximate center of the constricted portion 1c of the crucible 1 toward the outer periphery of the opening 1a. However, the present invention is not limited to this, and it suffices that the molecular beam emission direction is not the center of the substrate but the peripheral portion of the substrate. What is necessary is just to form so that it may incline within the range of about 15-60 degrees (more desirably within the range of about 30-50 degrees) with respect to the central axis A direction of the said opening part 1a, and it is desirable.

(a)は本発明の実施例1に係る分子線源セルに使用される坩堝を示す側断面図、(b)は(a)の坩堝にキャップを装着した状態を示す側断面図。(A) is a sectional side view showing a crucible used in the molecular beam source cell according to Example 1 of the present invention, and (b) is a sectional side view showing a state where a cap is attached to the crucible of (a). (a)は本実施例1に使用されるキャップを示す平面図、(b)はその側断面図、(c)はその底面を示す図。(A) is a top view which shows the cap used for the present Example 1, (b) is the sectional side view, (c) is the figure which shows the bottom face. (a)は本実施例1に使用されるキャップを斜め上方から示す斜視図、(b)はそのキャップを斜め下方から示す斜視図。(A) is a perspective view which shows the cap used for the present Example 1 from diagonally upward, (b) is a perspective view which shows the cap from diagonally downward. 本実施例1の作用効果を説明するためのグラフ。6 is a graph for explaining the operational effects of the first embodiment. (a)は本発明の実施例2に係る分子線源セルに使用される坩堝を示す側断面図、(b)は(a)の坩堝にキャップを装着した状態を示す側断面図。(A) is a sectional side view which shows the crucible used for the molecular beam source cell which concerns on Example 2 of this invention, (b) is a sectional side view which shows the state which mounted | wore the crucible of (a). (a)は本実施例2に使用されるキャップを示す平面図、(b)はその側断面図、(c)はその底面を示す図、(d)はその側面図(内部の絞り穴を破線及び一点鎖線で示す)。(A) is a plan view showing a cap used in the second embodiment, (b) is a sectional side view thereof, (c) is a diagram showing a bottom surface thereof, (d) is a side view thereof (with an internal throttle hole). (Indicated by a dashed line and a dashed line). (a)は本実施例2に使用されるキャップを斜め上方から示す斜視図、(b)はそのキャップを斜め下方から示す斜視図。(A) is a perspective view which shows the cap used for the present Example 2 from diagonally upward, (b) is a perspective view which shows the cap from diagonally downward. 本発明の実施例3に使用されるキャップを示す側断面図。The sectional side view which shows the cap used for Example 3 of this invention. 本発明の実施例4に使用されるキャップを示す側断面図。The sectional side view which shows the cap used for Example 4 of this invention. 本発明の実施例5に使用されるキャップを示す側断面図。The sectional side view which shows the cap used for Example 5 of this invention. 本発明の実施例6に使用されるキャップを示す側断面図。Side sectional drawing which shows the cap used for Example 6 of this invention. 本発明の実施例7に使用されるキャップを示す側断面図。The sectional side view which shows the cap used for Example 7 of this invention. 本発明の実施例8に使用されるキャップを示す側断面図。The sectional side view which shows the cap used for Example 8 of this invention. 従来の分子線源セルを説明するための図。The figure for demonstrating the conventional molecular beam source cell.

符号の説明Explanation of symbols

1 坩堝
1a 開口部
1b 括れ部
1c 開口部の下方近傍部分(括れ部・テーパ状部分)
2,3,4,5,6,7,8,9 キャップ
2a,3a,4a,5a,6a,7a,8a,9a 絞り穴
2b,3b,4b,5b,6b,7b,8b,9b 共通穴
2c,3c,4c,5c,6c,7c,8c,9c キャップの底部
3d キャップの側面
3e キャップの上面
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Crucible 1a Opening part 1b Constriction part 1c The downward vicinity part of an opening part (constriction part and taper-shaped part)
2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 Cap 2a, 3a, 4a, 5a, 6a, 7a, 8a, 9a Restriction hole 2b, 3b, 4b, 5b, 6b, 7b, 8b, 9b Common hole 2c, 3c, 4c, 5c, 6c, 7c, 8c, 9c Cap bottom 3d Cap side surface 3e Cap top surface

Claims (4)

坩堝内に充填された分子線材料が加熱、蒸発することにより発生する蒸発分子を、前記坩堝の開口部から被蒸着基板の方向に、分子線として放出させる分子線源セルの坩堝用キャップであって、
前記坩堝の開口部に取り付けられたときに前記開口部から前記基板方向に突出する突出部分を有しており、
前記坩堝の開口部に取り付けられたときに前記開口部の中心軸方向に6mm以上の深さを有し且つキャップ下面の略中央部分から前記突出部分の前記基板に対向しない側面に向かうように略放射状に延びる複数の絞り穴であって、前記坩堝の開口部に取り付けられたときに前記坩堝の開口部の中心軸方向に対して15〜60度の範囲内で傾斜する複数の絞り穴が形成されている、
ことを特徴とする分子線源セルの坩堝用キャップ。
This is a crucible cap for a molecular beam source cell that releases evaporated molecules generated by heating and evaporation of the molecular beam material filled in the crucible as molecular beams from the opening of the crucible toward the deposition target substrate. And
Having a protruding portion that protrudes from the opening toward the substrate when attached to the opening of the crucible;
When attached to the opening of the crucible, it has a depth of 6 mm or more in the direction of the central axis of the opening, and extends from a substantially central portion of the lower surface of the cap to a side surface of the protruding portion that does not face the substrate. A plurality of squeezing holes extending radially, wherein a plurality of squeezing holes are formed that are inclined within a range of 15 to 60 degrees with respect to a central axis direction of the opening of the crucible when attached to the opening of the crucible. Being
A crucible cap for a molecular beam source cell.
請求項1において、前記絞り穴は、その内径が蒸発分子の進行方向に沿って徐々に増大するように形成されている、ことを特徴とする分子線源セルの坩堝用キャップ。 2. The crucible cap for a molecular beam source cell according to claim 1, wherein the throttle hole is formed so that the inner diameter thereof gradually increases along the traveling direction of the evaporated molecules . 請求項1において、その外形が、前記坩堝の開口部の中心軸に対して垂直な断面の面積が蒸発分子の進行方向に沿って徐々に増大するように形成されている、ことを特徴とする分子線源セルの坩堝用キャップ。 2. The outer shape according to claim 1, wherein the outer shape of the crucible is formed such that an area of a cross section perpendicular to the central axis of the opening of the crucible gradually increases along the traveling direction of the evaporated molecules. Cap for crucible of molecular beam source cell. 請求項1において、その全体がセラミック材料により一体に成形されている、ことを特徴とする分子線源セルの坩堝用キャップ。 2. The crucible cap for a molecular beam source cell according to claim 1, wherein the whole is integrally formed of a ceramic material .
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