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JP7793354B2 - Measurement method - Google Patents
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JP7793354B2 - Measurement method - Google Patents

Measurement method

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JP7793354B2 JP2021200930A JP2021200930A JP7793354B2 JP 7793354 B2 JP7793354 B2 JP 7793354B2 JP 2021200930 A JP2021200930 A JP 2021200930A JP 2021200930 A JP2021200930 A JP 2021200930A JP 7793354 B2 JP7793354 B2 JP 7793354B2
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Description

本発明は、上面と下面と側面とを有したチップの強度を測定する測定方法に関する。 The present invention relates to a measurement method for measuring the strength of a chip having a top surface, a bottom surface, and a side surface.

半導体ウェーハの裏面研削に伴いウェーハ裏面には研削歪みが生成される。更に、研削後の切削ブレードによるダイシングに伴い半導体デバイスチップ側面には切削歪みが生成される。 Grinding the backside of a semiconductor wafer generates grinding strain on the backside of the wafer. Furthermore, dicing with a cutting blade after grinding generates cutting strain on the side of the semiconductor device chip.

半導体デバイスチップの強度を測定する手法として一般的にSEMI規格G86-0303で既定される3点曲げが広く利用されている。しかしながら、従来はマニュアル式の試験装置しか市場に流通しておらず、チップに分割されたウェーハから作業者が所定のチップを取り出し、試験装置にセットして強度を測定しており、手間であった。 The three-point bending method specified in SEMI standard G86-0303 is commonly used to measure the strength of semiconductor device chips. However, until now, only manual testing equipment was available on the market, and workers had to remove the desired chip from a wafer divided into chips, set it in the testing equipment, and measure its strength, which was time-consuming.

また、作業者によるチップのピックアップの方法や載置の仕方によってはチップに目視では確認できない損傷が生じるおそれもある。チップ毎にピックアップの具合や載置の具合が変わると、正確な強度比較が難しいという問題がある。 In addition, depending on how the worker picks up and places the chips, there is a risk of damage to the chips that cannot be seen with the naked eye. If the way the chips are picked up and placed varies from chip to chip, it becomes difficult to make accurate strength comparisons.

そこで、本願出願人は、ウェーハからチップをピックアップし、ピックアップしたチップの強度を測定する試験装置を開発した(例えば、特許文献1参照)。 The applicant of this application therefore developed a testing device that picks up chips from a wafer and measures the strength of the picked-up chips (see, for example, Patent Document 1).

特開2020-094833号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2020-094833

特許文献1に示された試験装置では、強度を測定するチップの側面を測定するカメラを有し、チップを破壊する前に側面の撮像画像を形成している。しかし、チップ中の撮像位置は固定であり、相対比較するチップにおいて互いに同一の位置を測定するにとどまっていた。 The testing equipment shown in Patent Document 1 has a camera that measures the side of the chip whose strength is to be measured, and takes an image of the side before destroying the chip. However, the imaging position within the chip is fixed, and the equipment only measures the same position on each of the chips being compared.

一方で、圧子の押圧位置の直下にチッピングがある場合と、圧子の押圧位置の直下にはチッピングがない場合とではチッピングによって強度が左右されるが、破壊後のチップは粉々に粉砕されているため破壊されたチップのどの位置にチッピングが形成されていたかを検知するのは難しい。 On the other hand, the strength of a chip will be affected by the presence of a chip directly below the pressing position of the indenter compared to when there is no chip directly below the pressing position of the indenter. However, since the chip is broken into small pieces after destruction, it is difficult to detect where the chip was formed on the broken chip.

チップを破壊する前に、圧子が押圧する位置とチップのチッピングとの関係情報を蓄積しておきたいという要望がある。 There is a need to accumulate information on the relationship between the position where the indenter presses and chipping of the chip before destroying the chip.

本発明の目的は、圧子が押圧する位置とチップのチッピングとの関係情報を蓄積することができる測定方法を提供することである。 The object of the present invention is to provide a measurement method that can accumulate information on the relationship between the position where the indenter presses and chipping of the chip.

上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の測定方法は、上面と下面と側面とを有したチップの強度を測定する測定方法であって、所定の間隔を有して配設された一対の支持部上にチップを載置し該支持部でチップの該下面を支持するチップ載置ステップと、該支持部上に載置されたチップより上方且つ一対の該支持部の間に配置された圧子を該支持部で支持されたチップに向かって近接移動させ該圧子でチップの該上面を押圧し破壊するとともに該圧子がチップを破壊した際の荷重を荷重計測器で検出するチップ破壊ステップと、該圧子がチップを破壊する前までに、チップの該上面の該圧子が押圧する位置に対応したチップの該側面を撮像する側面撮像ステップと、該側面撮像ステップを実施した後、チップの該側面を撮像した撮像画像をもとにチップの該下面側のチッピングを検出し、該チッピングと該チップの該圧子が押圧する位置との距離を算出するチッピング検出ステップと、を備えたことを特徴とする。 In order to solve the above-mentioned problems and achieve the object, the measurement method of the present invention is a measurement method for measuring the strength of a chip having an upper surface, a lower surface, and a side surface, and is characterized by comprising: a chip mounting step in which the chip is mounted on a pair of supports arranged at a predetermined distance and the lower surface of the chip is supported by the supports; a chip breaking step in which an indenter arranged above the chip mounted on the supports and between the pair of supports is moved toward the chip supported by the supports, pressing the upper surface of the chip with the indenter to break it, and detecting the load at which the indenter breaks the chip with a load measuring instrument; a side surface imaging step in which the side surface of the chip corresponding to the position on the top surface of the chip where the indenter presses before the indenter breaks the chip; and a chipping detection step in which, after the side surface imaging step, chipping on the lower surface of the chip is detected based on the image of the side surface of the chip and the distance between the chip and the position on the chip where the indenter presses.

前記測定方法において、チップは、矩形状であり、該圧子は、一対の該支持部が整列する方向と直交する方向に伸長するバー状であり、該側面撮像ステップでは少なくとも該圧子の伸長方向に交差する互いに対面したチップの2側面を撮像しても良い。 In the above-described measurement method, the chip may be rectangular, the indenter may be bar-shaped and extend in a direction perpendicular to the direction in which the pair of support portions are aligned, and the side surface imaging step may image at least two side surfaces of the chip that face each other and intersect with the extension direction of the indenter.

本発明の測定方法は、上面と下面と側面とを有したチップの強度を測定する測定方法であって、所定の間隔を有して配設された一対の支持部上にチップを載置し該支持部でチップの該下面を支持するチップ載置ステップと、該支持部上に載置されたチップより上方且つ一対の該支持部の間に配置された圧子を該支持部で支持されたチップに向かって近接移動させ該圧子でチップの該上面を押圧し破壊するとともに該圧子がチップを破壊した際の荷重を荷重計測器で検出するチップ破壊ステップと、該圧子がチップを破壊する前までに、チップの該上面の該圧子が押圧する位置に対応したチップの該側面を撮像する側面撮像ステップと、該側面撮像ステップを実施した後、チップの該側面を撮像した撮像画像をもとにチップの該下面側のチッピングを検出するチッピング検出ステップと、を備え、該チッピング検出ステップを実施した後、該圧子がチップを破壊する前に、該チッピング検出ステップで検出された最大チッピングに対応する位置を該圧子が押圧するようにチップを該支持部上に載置し、該チップ破壊ステップでは、該最大チッピングに対応する位置を該圧子で押圧することを特徴とするThe measuring method of the present invention is a method for measuring the strength of a chip having an upper surface, a lower surface, and a side surface, and includes a chip placing step of placing the chip on a pair of supports arranged at a predetermined interval and supporting the lower surface of the chip with the supports; a chip breaking step of moving an indenter arranged above the chip placed on the supports and between the pair of supports toward the chip supported by the supports, pressing the upper surface of the chip with the indenter to break it, and detecting the load when the indenter breaks the chip with a load measuring device; and a chip breaking step of detecting the upper surface of the chip before the indenter breaks it. and a chipping detection step of detecting chipping on the underside of the chip based on the image of the side of the chip after the side imaging step is performed, wherein after the chipping detection step is performed and before the indenter destroys the chip, the chip is placed on the support part so that the indenter will press the position corresponding to the maximum chipping detected in the chipping detection step, and in the chip destroying step, the indenter presses the position corresponding to the maximum chipping .

前記測定方法において、チップは、矩形状であり、該圧子は、一対の該支持部が整列する方向と直交する方向に伸長するバー状であり、該側面撮像ステップでは少なくとも該圧子の伸長方向に交差する互いに対面したチップの2側面を撮像しても良い。 In the measurement method, the chip is rectangular, the indenter is bar-shaped and extends in a direction perpendicular to the direction in which the pair of support portions are aligned, and the side imaging step may image at least two side surfaces of the chip that face each other and intersect the extension direction of the indenter .

本発明は、圧子が押圧する位置とチップのチッピングとの関係情報を蓄積することができるという効果を奏する。 The present invention has the advantage of being able to store information relating to the position where the indenter presses and chipping of the chip.

図1は、実施形態1に係る測定方法を実施する試験装置の構成例の一部を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing a part of a configuration example of a test apparatus for carrying out a measurement method according to the first embodiment. 図2は、図1に示された試験装置の要部の斜視図である。FIG. 2 is a perspective view of the main part of the testing device shown in FIG. 図3は、図1に示された試験装置の測定対象のチップに分割されたウェーハを備えるウェーハユニットの斜視図である。FIG. 3 is a perspective view of a wafer unit including a wafer divided into chips to be measured by the test device shown in FIG. 図4は、実施形態1に係る測定方法の測定対象のチップの斜視図である。FIG. 4 is a perspective view of a chip to be measured in the measurement method according to the first embodiment. 図5は、図1に示された試験装置の突き上げユニット等を模式的に示す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing a push-up unit and the like of the testing device shown in FIG. 図6は、図1に示された試験装置の強度測定機構の支持ユニットの斜視図である。6 is a perspective view of a support unit of the strength measuring mechanism of the testing apparatus shown in FIG. 1. FIG. 図7は、実施形態1に係る測定方法の流れを示すフローチャートである。FIG. 7 is a flowchart showing the flow of the measurement method according to the first embodiment. 図8は、図7に示された測定方法のピックアップステップにおいて、ウェーハユニットのテープの測定対象のチップの周囲を突き上げユニットのテープ保持部の上面に吸引保持した状態を模式的に示す断面図である。8 is a cross-sectional view schematically showing a state in which the periphery of the chip to be measured on the tape of the wafer unit is suction-held on the upper surface of the tape holding portion of the push-up unit in the pickup step of the measurement method shown in FIG. 図9は、図7に示された測定方法のピックアップステップにおいて、測定対象のチップを突き上げユニットの突き上げ部で突き上げた状態を模式的に示す断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view schematically showing a state in which the chip to be measured is pushed up by the push-up portion of the push-up unit in the pick-up step of the measuring method shown in FIG. 図10は、図7に示された測定方法のピックアップステップにおいて、測定対象のチップを保持具の下面に吸引保持した状態を模式的に示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view that schematically shows a state in which the chip to be measured is held by suction on the lower surface of the holder in the pick-up step of the measurement method shown in FIG. 図11は、図7に示された測定方法の裏面撮像ステップにおいて、保持具に吸引保持したチップの裏面を下方撮像カメラに対面させた状態を模式的に示す斜視図である。FIG. 11 is a perspective view schematically showing a state in which the back surface of the chip held by the holder by suction is faced to the downward imaging camera in the back surface imaging step of the measurement method shown in FIG. 図12は、図7に示された測定方法の裏面撮像ステップにおいて、チップを吸引保持した保持具を下降させた状態を模式的に示す斜視図である。FIG. 12 is a perspective view schematically showing a state in which the holder holding the chip by suction is lowered in the backside imaging step of the measuring method shown in FIG. 図13は、図7に示された測定方法の側面撮像ステップにおいて、保持具に吸引保持された側面と側方撮像ユニットとを対面させた状態を模式的に示す側面図である。FIG. 13 is a side view schematically showing a state in which the side surface held by the holder by suction and the side imaging unit are made to face each other in the side imaging step of the measuring method shown in FIG. 図14は、図7に示された測定方法の側面撮像ステップにおいて取得された撮像画像を模式的に示す図である。FIG. 14 is a diagram schematically showing an image acquired in the side image capturing step of the measurement method shown in FIG. 図15は、図7に示された測定方法のチッピング検出ステップにおいて、検出したチッピングを検出した撮像画像を模式的に示す図である。FIG. 15 is a diagram schematically showing a captured image in which chipping is detected in the chipping detection step of the measurement method shown in FIG. 図16は、図7に示された測定方法のチップ載置ステップを模式的に示す断面図である。FIG. 16 is a cross-sectional view schematically showing the chip mounting step of the measurement method shown in FIG. 図17は、図7に示された測定方法のチップ破壊ステップにおいて、圧子に押圧されてチップの裏面が支持部の支持突起の上端に接触した状態を模式的に示す断面図である。FIG. 17 is a cross-sectional view schematically showing a state in which the back surface of the chip is pressed by the indenter and comes into contact with the upper end of the support protrusion of the support portion in the chip destruction step of the measurement method shown in FIG. 図18は、図7に示された測定方法のチップ破壊ステップにおいて、チップが破壊された状態を模式的に示す断面図である。FIG. 18 is a cross-sectional view schematically showing a state in which the chip is destroyed in the chip destruction step of the measurement method shown in FIG. 図19は、実施形態1の変形例に係る測定方法のチップ載置ステップを模式的に示す断面図である。FIG. 19 is a cross-sectional view schematically showing a chip mounting step of a measurement method according to a modified example of the first embodiment. 図20は、実施形態1の変形例に係る測定方法のチップ破壊ステップにおいて、チップの側面の裏面側の最大チッピングを圧子の先端の下方に位置付けた状態を模式的に示す断面図である。FIG. 20 is a cross-sectional view schematically showing a state in which the maximum chipping on the back surface of the side surface of the chip is positioned below the tip of the indenter in the chip destruction step of the measurement method according to a modified example of the first embodiment.

本発明を実施するための形態(実施形態)につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成は適宜組み合わせることが可能である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。 Modes for carrying out the present invention (embodiments) will be described in detail with reference to the drawings. The present invention is not limited to the contents described in the following embodiments. Furthermore, the components described below include those that would be easily imagined by a person skilled in the art and those that are substantially identical. Furthermore, the configurations described below can be combined as appropriate. Furthermore, various omissions, substitutions, or modifications to the configuration can be made without departing from the spirit of the present invention.

〔実施形態1〕
本発明の実施形態1に係る測定方法を図面に基づいて説明する。図1は、実施形態1に係る測定方法を実施する試験装置の構成例の一部を示す斜視図である。図2は、図1に示された試験装置の要部の斜視図である。図3は、図1に示された試験装置の測定対象のチップに分割されたウェーハを備えるウェーハユニットの斜視図である。図4は、実施形態1に係る測定方法の測定対象のチップの斜視図である。図5は、図1に示された試験装置の突き上げユニット等を模式的に示す断面図である。図6は、図1に示された試験装置の強度測定機構の支持ユニットの斜視図である。図7は、実施形態1に係る測定方法の流れを示すフローチャートである。
[Embodiment 1]
A measurement method according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view showing a portion of an example configuration of a test apparatus for carrying out the measurement method according to the first embodiment. FIG. 2 is a perspective view of a main part of the test apparatus shown in FIG. 1. FIG. 3 is a perspective view of a wafer unit including a wafer divided into chips to be measured by the test apparatus shown in FIG. 1. FIG. 4 is a perspective view of a chip to be measured by the measurement method according to the first embodiment. FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing a push-up unit and the like of the test apparatus shown in FIG. 1. FIG. 6 is a perspective view of a support unit of a strength measurement mechanism of the test apparatus shown in FIG. 1. FIG. 7 is a flowchart showing the flow of the measurement method according to the first embodiment.

実施形態1に係る測定方法は、図1及び図2に示す試験装置1により実施される。図1及び図2に示す試験装置1は、図3に示すウェーハユニット17のテープ15から試験片である図4に示すチップ14をピックアップし、少なくともチップ14を撮像するとともに、撮像したチップ14を破壊して、チップ14の抗折強度(強度に相当)を測定する装置である。 The measurement method according to the first embodiment is carried out by the test apparatus 1 shown in Figures 1 and 2. The test apparatus 1 shown in Figures 1 and 2 is an apparatus that picks up a test piece, a chip 14 shown in Figure 4, from the tape 15 of the wafer unit 17 shown in Figure 3, takes an image of at least the chip 14, and destroys the imaged chip 14 to measure the flexural strength (equivalent to strength) of the chip 14.

(ウェーハユニット)
実施形態1では、ウェーハユニット17は、図3に示すように、複数のチップ14に分割されたウェーハ10と、ウェーハ10が貼着されたテープ15と、テープ15の外周が貼着されることで開口内にウェーハ10を収容する環状フレーム16とを備える。ウェーハ10は、シリコン、サファイア、ガリウムなどを基板11とする円板状の半導体ウェーハや光デバイスウェーハ等である。
(wafer unit)
3, the wafer unit 17 includes a wafer 10 divided into a plurality of chips 14, a tape 15 to which the wafer 10 is attached, and an annular frame 16 to which the outer periphery of the tape 15 is attached to house the wafer 10 within an opening. The wafer 10 is a disk-shaped semiconductor wafer, an optical device wafer, or the like, with a substrate 11 made of silicon, sapphire, gallium, or the like.

ウェーハ10は、基板11の表面11-1に格子状に形成された複数の分割予定ライン12によって区画された領域にデバイス13が形成されている。実施形態1において、ウェーハ10は、外周に環状フレーム16が装着された円板状のテープ15が表面11-1の裏側の裏面11-2に貼着されて、環状フレーム16に支持されて、ウェーハユニット17を構成している。 The wafer 10 has devices 13 formed in areas defined by a plurality of planned division lines 12 formed in a grid pattern on the surface 11-1 of the substrate 11. In embodiment 1, the wafer 10 has a disk-shaped tape 15 with an annular frame 16 attached to its outer periphery, attached to the back surface 11-2 behind the surface 11-1, and is supported by the annular frame 16 to form a wafer unit 17.

また、ウェーハ10は、分割予定ライン12に沿って切削加工等が施されて、個々のチップ14に個片化されている。即ち、ウェーハ10は、チップ14間にウェーハ10自体を貫通した切削溝18が形成されている。チップ14は、図4に示すように、基板11の一部とデバイス13とで構成され、平面形状が矩形状である。チップ14は、表面11-1(実施形態1では上面に相当)と、表面11-1の裏側の裏面11-2(実施形態1では下面に相当)と、表面11-1から裏面11-2とに至る複数の側面11-3とを有している。 The wafer 10 is also cut along the planned division lines 12 to separate it into individual chips 14. That is, the wafer 10 has cut grooves 18 formed between the chips 14, penetrating the wafer 10 itself. As shown in FIG. 4, the chip 14 is composed of a portion of the substrate 11 and a device 13, and has a rectangular planar shape. The chip 14 has a surface 11-1 (corresponding to the top surface in embodiment 1), a back surface 11-2 (corresponding to the bottom surface in embodiment 1) behind the surface 11-1, and multiple side surfaces 11-3 extending from the surface 11-1 to the back surface 11-2.

なお、実施形態1では、ウェーハ10は、基板11の表面11-1にデバイス13が形成されているが、本発明では、試験装置1がウェーハ10を個々のチップ14に分割する所謂後工程の加工条件の妥当性を評価するために用いられる場合には、表面11-1にデバイス13が形成されていなくても良い。 In embodiment 1, the wafer 10 has devices 13 formed on the surface 11-1 of the substrate 11. However, in the present invention, if the test device 1 is used to evaluate the appropriateness of the processing conditions for the so-called post-processing step of dividing the wafer 10 into individual chips 14, the devices 13 do not need to be formed on the surface 11-1.

(試験装置)
試験装置1は、図1に示すように、装置本体2上に設けられウェーハユニット17を複数収容するカセット4が載置されるカセット載置台3と、カセット4にウェーハユニット17を出し入れする搬出入ユニット5と、カセット4から搬出されたウェーハユニット17又はカセット4に搬入される前のウェーハユニット17が仮置きされる一対の仮置きレール6と、フレーム固定ユニット7と、フレーム固定ユニット7をY軸方向とX軸方向とに移動する移動機構30と、突き上げユニット40と、撮像カメラ50と、ピックアップ機構60と、保持具移動ユニット70(図2に示す)と、撮像装置100と、強度測定機構200と、制御ユニット400とを備える。
(Test equipment)
As shown in FIG. 1, the testing apparatus 1 includes a cassette mounting table 3 provided on an apparatus main body 2 and on which a cassette 4 containing a plurality of wafer units 17 is placed, a transfer unit 5 for transferring the wafer units 17 into and out of the cassette 4, a pair of temporary placement rails 6 on which the wafer units 17 transferred out of the cassette 4 or the wafer units 17 before being transferred into the cassette 4 are temporarily placed, a frame fixing unit 7, a moving mechanism 30 for moving the frame fixing unit 7 in the Y-axis direction and the X-axis direction, a push-up unit 40, an imaging camera 50, a pickup mechanism 60, a holder moving unit 70 (shown in FIG. 2), an imaging device 100, a strength measuring mechanism 200, and a control unit 400.

カセット4は、複数のウェーハユニット17を鉛直方向と平行なZ軸方向に間隔をあけて収容する収容容器であって、ウェーハユニット17を出し入れする開口8が設けられている。カセット載置台3は、上面にカセット4が載置され、カセット4をZ軸方向に昇降させる。 The cassette 4 is a storage container that stores multiple wafer units 17 at intervals in the Z-axis direction, which is parallel to the vertical direction, and is provided with an opening 8 for inserting and removing the wafer units 17. The cassette 4 is placed on the upper surface of the cassette mounting table 3, which raises and lowers the cassette 4 in the Z-axis direction.

一対の仮置きレール6は、装置本体2上でかつカセット載置台3に載置されるカセット4の開口8の幅方向の両端に設けられ、水平方向と平行なY軸方向に直線状に延びている。一対の仮置きレール6は、互いに平行に配置され、Y軸方向に直交しかつ水平方向と平行なX軸方向に沿って互いに間隔をあけて配置されている。一対の仮置きレール6は、ウェーハユニット17の環状フレーム16が仮置きされる。 A pair of temporary placement rails 6 are provided on both widthwise ends of the opening 8 of the cassette 4 placed on the cassette placement table 3 on the apparatus main body 2, and extend linearly in the Y-axis direction, which is parallel to the horizontal direction. The pair of temporary placement rails 6 are arranged parallel to each other and spaced apart along the X-axis direction, which is perpendicular to the Y-axis direction and parallel to the horizontal direction. The annular frame 16 of the wafer unit 17 is temporarily placed on the pair of temporary placement rails 6.

搬出入ユニット5は、図示しない移動機構によりY軸方向に移動自在に設けられている。搬出入ユニット5は、カセット4からウェーハユニット17を搬出して、仮置きレール6上に仮置きした後、フレーム固定ユニット7の降下したフレーム支持部材22の上面までウェーハユニット17を搬出して、フレーム支持部材22の上面に載置する。また、搬出入ユニット5は、フレーム固定ユニット7の降下したフレーム支持部材22の上面上のウェーハユニット17を仮置きレール6を介してカセット4内に搬入する。 The carry-in/out unit 5 is movable in the Y-axis direction by a movement mechanism (not shown). The carry-in/out unit 5 carries the wafer unit 17 out of the cassette 4 and temporarily places it on the temporary placement rails 6, then carries the wafer unit 17 to the upper surface of the lowered frame support member 22 of the frame fixing unit 7 and places it on the upper surface of the frame support member 22. The carry-in/out unit 5 also carries the wafer unit 17 from the upper surface of the lowered frame support member 22 of the frame fixing unit 7 into the cassette 4 via the temporary placement rails 6.

(フレーム固定ユニット)
フレーム固定ユニット7は、ウェーハユニット17のテープ15のウェーハ10の周囲に配置された環状フレーム16を保持し、固定するものである。フレーム固定ユニット7は、移動テーブル21上に設置されている。フレーム固定ユニット7は、環状のフレーム支持部材22と、フレーム支持部材22の上方に配置されかつ固定された環状のフレーム押さえ部材23と、フレーム支持部材22を昇降させる図示しない昇降機構とを備える。
(frame fixing unit)
The frame fixing unit 7 holds and fixes the annular frame 16 arranged around the wafers 10 on the tape 15 of the wafer unit 17. The frame fixing unit 7 is installed on a moving table 21. The frame fixing unit 7 includes an annular frame support member 22, an annular frame pressing member 23 arranged above and fixed to the frame support member 22, and an elevating mechanism (not shown) that raises and lowers the frame support member 22.

フレーム支持部材22は、上昇される前では上面が仮置きレール6の上面と同一平面上に位置して、ウェーハユニット17の環状フレーム16が載置される。フレーム固定ユニット7は、フレーム支持部材22の上面にウェーハユニット17の環状フレーム16が載置されると、昇降機構がフレーム支持部材22を上昇させて、フレーム押さえ部材23とフレーム支持部材22との間に環状フレーム16を挟み込む。フレーム固定ユニット7は、フレーム押さえ部材23とフレーム支持部材22との間に環状フレーム16を挟み込んで、テープ15のウェーハ10の周囲に配置された環状フレーム16を保持、固定し、ウェーハユニット17を固定する。 Before being raised, the upper surface of the frame support member 22 is flush with the upper surface of the temporary placement rail 6, and the annular frame 16 of the wafer unit 17 is placed on it. When the annular frame 16 of the wafer unit 17 is placed on the upper surface of the frame support member 22, the frame fixing unit 7 uses the lifting mechanism to raise the frame support member 22, sandwiching the annular frame 16 between the frame holding member 23 and the frame support member 22. The frame fixing unit 7 sandwiches the annular frame 16 between the frame holding member 23 and the frame support member 22, holding and fixing the annular frame 16 arranged around the wafer 10 on the tape 15, and fixing the wafer unit 17.

(移動機構)
移動機構30は、装置本体2上に設けられかつ移動テーブル21をX軸方向に移動するX軸移動機構31と、X軸移動機構31によりX軸方向に移動される移動テーブル21上に設けられかつフレーム固定ユニット7をY軸方向に移動するY軸移動機構32とを備える。X軸移動機構31は、一対の仮置きレール6とY軸方向に並ぶ位置と一対の仮置きレール6から離れる位置とに亘って移動テーブル21即ちフレーム固定ユニット7をX軸方向に移動する。各移動機構31,32は、軸心回りに回転自在に設けられた周知のボールねじ33,34、ボールねじ33,34を軸心回りに回転させる周知のモータ35,36及び移動テーブル21又はフレーム固定ユニット7をX軸方向又はY軸方向に移動自在に支持する周知のガイドレール37,38を備える。
(Moving mechanism)
The movement mechanism 30 includes an X-axis movement mechanism 31 that is provided on the apparatus main body 2 and moves the movement table 21 in the X-axis direction, and a Y-axis movement mechanism 32 that is provided on the movement table 21 that is moved in the X-axis direction by the X-axis movement mechanism 31 and moves the frame fixing unit 7 in the Y-axis direction. The X-axis movement mechanism 31 moves the movement table 21, i.e., the frame fixing unit 7, in the X-axis direction between a position aligned with the pair of temporary placement rails 6 in the Y-axis direction and a position spaced apart from the pair of temporary placement rails 6. Each movement mechanism 31, 32 includes well-known ball screws 33, 34 that are provided rotatably about their axes, well-known motors 35, 36 that rotate the ball screws 33, 34 about their axes, and well-known guide rails 37, 38 that support the movement table 21 or the frame fixing unit 7 movably in the X-axis or Y-axis direction.

(突き上げユニット)
突き上げユニット40は、X軸移動機構31により一対の仮置きレール6から離れる位置に位置付けられたフレーム固定ユニット7の下方に配置される。突き上げユニット40は、装置本体2の凹部9内に設けられ、X軸移動機構31により一対の仮置きレール6から離れる位置に位置付けられたフレーム固定ユニット7で固定されたウェーハユニット17のテープ15を介していずれかのチップ14を突き上げるものである。
(Thrust-up unit)
The push-up unit 40 is disposed below the frame fixing unit 7, which is positioned by the X-axis movement mechanism 31 at a position away from the pair of temporary placement rails 6. The push-up unit 40 is provided in the recess 9 of the device main body 2, and pushes up one of the chips 14 via the tape 15 of the wafer unit 17 fixed by the frame fixing unit 7, which is positioned by the X-axis movement mechanism 31 at a position away from the pair of temporary placement rails 6.

突き上げユニット40は、全体が一体として、モータ等で構成される昇降機構(図示せず)と接続され、Z軸方向に沿って昇降する。突き上げユニット40は、図5に示すように、中空の円筒状に形成されたテープ保持部41と、テープ保持部41の内部に配置された四角柱状の突き上げ部42とを有する。テープ保持部41の上面48は、水平方向と平行に平坦に形成され、測定対象のチップ14の周囲のテープ15を吸引保持するテープ保持面である。テープ保持部41の上面48は、テープ保持部41の周方向に沿って同心円状に形成された複数の吸引溝44が形成されている。吸引溝44は、それぞれ、突き上げユニット40の内部に形成された吸引路45及び開閉弁46を介して、エジェクタ等でなる吸引源47に接続している。 The push-up unit 40, as a whole, is connected to an elevation mechanism (not shown) comprised of a motor or the like, and moves up and down along the Z-axis direction. As shown in FIG. 5 , the push-up unit 40 has a hollow cylindrical tape holding section 41 and a rectangular prism-shaped push-up section 42 located inside the tape holding section 41. The top surface 48 of the tape holding section 41 is formed flat and parallel to the horizontal direction, and serves as a tape holding surface that suction-holds the tape 15 around the chip 14 to be measured. The top surface 48 of the tape holding section 41 has multiple suction grooves 44 formed concentrically along the circumferential direction of the tape holding section 41. Each suction groove 44 is connected to a suction source 47, such as an ejector, via a suction path 45 and an on-off valve 46 formed inside the push-up unit 40.

突き上げ部42は、上面の平面形状がチップ14と同等の大きさの四角形に形成されている。突き上げ部42は、四角筒状に形成された第1突き上げ部材42-1と、四角筒状に形成されかつ第1突き上げ部材42-1内に収容された第2突き上げ部材42-2と、四角筒状に形成されかつ第2突き上げ部材42-2内に収容された第3突き上げ部材42-3とを備える。第1突き上げ部材42-1、第2突き上げ部材42-2、及び第3突き上げ部材42-3は、それぞれ、モータ等で構成される図示しない昇降ユニットと接続され、Z軸方向に沿って昇降する。 The push-up section 42 has a rectangular top planar shape that is the same size as the chip 14. The push-up section 42 includes a first push-up member 42-1 formed in the shape of a rectangular cylinder, a second push-up member 42-2 formed in the shape of a rectangular cylinder and housed within the first push-up member 42-1, and a third push-up member 42-3 formed in the shape of a rectangular cylinder and housed within the second push-up member 42-2. The first push-up member 42-1, second push-up member 42-2, and third push-up member 42-3 are each connected to an elevation unit (not shown) comprised of a motor or the like, and move up and down along the Z-axis direction.

第1突き上げ部材42-1及び第2突き上げ部材42-2は、昇降ユニットにより上昇されることで、測定対象のチップ14の外縁部をテープ15を介して突き上げる。第3突き上げ部材42-3は、昇降ユニットにより上昇されることで、第1突き上げ部材42-1及び第2突き上げ部材42-2の内側でチップ14の中央をテープ15を介して突き上げる。 The first push-up member 42-1 and the second push-up member 42-2 are raised by the lifting unit, pushing up the outer edge of the chip 14 to be measured via the tape 15. The third push-up member 42-3 is raised by the lifting unit, pushing up the center of the chip 14 via the tape 15 inside the first push-up member 42-1 and the second push-up member 42-2.

突き上げユニット40は、フレーム固定ユニット7で保持された環状フレーム16を含むウェーハユニット17が上方に位置付けられた状態で、テープ保持部41の上面48の吸引溝44が吸引源47により吸引されて、テープ保持部41の上面48に測定対象のチップ14の周囲のテープ15を吸引保持する。突き上げユニット40は、テープ保持部41の上面48に測定対象のチップ14の周囲のテープ15を吸引保持して、突き上げ部42の各突き上げ部材42-1,42-2,42-3が上昇されることで、チップ14をテープ15よりも上方に突き上げて、チップ14の外縁部をテープ15から剥離する。なお、突き上げユニット40の寸法は、チップ14のサイズに応じて適宜調整される。 With the wafer unit 17, including the annular frame 16 held by the frame fixing unit 7, positioned above the push-up unit 40, the suction grooves 44 on the upper surface 48 of the tape holding section 41 are sucked by the suction source 47, and the tape 15 around the chip 14 to be measured is held by suction on the upper surface 48 of the tape holding section 41. The push-up unit 40 suction-holds the tape 15 around the chip 14 to be measured on the upper surface 48 of the tape holding section 41, and the push-up members 42-1, 42-2, and 42-3 of the push-up section 42 are raised, pushing the chip 14 above the tape 15 and peeling the outer edge of the chip 14 from the tape 15. The dimensions of the push-up unit 40 are adjusted appropriately depending on the size of the chip 14.

実施形態1では、突き上げユニット40は、チップ14を突き上げる際に、昇降機構により第1突き上げ部材42-1、第2突き上げ部材42-2、及び第3突き上げ部材42-3の上昇が同時に同速度で開始され、第2突き上げ部材42-2が第1突き上げ部材42-1よりも上側まで上昇され、第3突き上げ部材42-3が第2突き上げ部材42-2よりも上側まで上昇されて、それぞれの上昇が停止する。即ち、突き上げユニット40は、チップ14を突き上げる際に、第1突き上げ部材42-1、第2突き上げ部材42-2、及び第3突き上げ部材42-3が同時に同速度で上昇を開始し、第1突き上げ部材42-1、第2突き上げ部材42-2、第3突き上げ部材42-3が順に上昇を停止する。 In embodiment 1, when the push-up unit 40 pushes up the chip 14, the lifting mechanism starts raising the first push-up member 42-1, the second push-up member 42-2, and the third push-up member 42-3 simultaneously at the same speed, and the second push-up member 42-2 is raised above the first push-up member 42-1, and the third push-up member 42-3 is raised above the second push-up member 42-2, and then each of them stops rising. In other words, when the push-up unit 40 pushes up the chip 14, the first push-up member 42-1, the second push-up member 42-2, and the third push-up member 42-3 start rising simultaneously at the same speed, and the first push-up member 42-1, the second push-up member 42-2, and the third push-up member 42-3 stop rising in order.

(撮像カメラ)
撮像カメラ50は、X軸移動機構31により一対の仮置きレール6から離れる位置に位置付けられたフレーム固定ユニット7の上方に配置される。撮像カメラ50は、X軸移動機構31により一対の仮置きレール6から離れる位置に位置付けられたフレーム固定ユニット7で保持された環状フレーム16を含むウェーハユニット17のウェーハ10の突き上げユニット40の突き上げ部42により突き上げられるチップ14及びこのチップ14の周囲を撮像して、撮像画像を形成するものである。
(imaging camera)
The imaging camera 50 is disposed above the frame fixing unit 7, which is positioned by the X-axis moving mechanism 31 at a position away from the pair of temporary placement rails 6. The imaging camera 50 forms a captured image by capturing an image of the chip 14 and the surroundings of this chip 14 that are pushed up by the push-up portion 42 of the push-up unit 40 of the wafer 10 of the wafer unit 17, which includes the annular frame 16 held by the frame fixing unit 7, which is positioned by the X-axis moving mechanism 31 at a position away from the pair of temporary placement rails 6.

撮像カメラ50は、フレーム固定ユニット7で保持された環状フレーム16を含むウェーハユニット17のウェーハ10の突き上げユニット40の突き上げ部42により突き上げられるチップ14及びこのチップ14の周囲を撮像する撮像素子(即ち、画素)を備えている。撮像素子は、例えば、CCD(Charge-Coupled Device)撮像素子又はCMOS(Complementary MOS)撮像素子である。 The imaging camera 50 includes an imaging element (i.e., pixel) that captures an image of the chip 14 pushed up by the push-up portion 42 of the push-up unit 40 of the wafer 10 of the wafer unit 17, which includes an annular frame 16 held by the frame fixing unit 7, and the area around this chip 14. The imaging element is, for example, a CCD (Charge-Coupled Device) imaging element or a CMOS (Complementary MOS) imaging element.

撮像カメラ50は、フレーム固定ユニット7で保持された環状フレーム16を含むウェーハユニット17のウェーハ10の突き上げユニット40の突き上げ部42により突き上げられるチップ14及びこのチップ14の周囲を撮影して、ウェーハ10の突き上げユニット40により突き上げられる測定対象のチップ14と突き上げユニット40との位置合わせを行なうため等の撮像画像を取得し、取得した撮像画像を制御ユニット400に出力する。 The imaging camera 50 photographs the chip 14 and the surrounding area of the chip 14 being pushed up by the push-up portion 42 of the push-up unit 40 of the wafer 10 of the wafer unit 17, which includes the annular frame 16 held by the frame fixing unit 7, to obtain images for purposes such as aligning the push-up unit 40 with the chip 14 being measured and being pushed up by the push-up unit 40 of the wafer 10, and outputs the obtained images to the control unit 400.

(ピックアップ機構)
ピックアップ機構60は、ウェーハユニット17のウェーハ10から突き上げユニット40により突き上げられたチップ14をピックアップするものである。ピックアップ機構60は、保持具移動ユニット70によりY軸方向とZ軸方向とに移動される移動基台61と、移動基台61から保持具移動ユニット70から離れる方向にX軸方向に延在したアーム62と、アーム62の先端に昇降部64を介して接続されかつチップ14を保持する保持具63とを備える。
(Pickup mechanism)
The pickup mechanism 60 picks up the chips 14 pushed up by the push-up unit 40 from the wafer 10 of the wafer unit 17. The pickup mechanism 60 includes a moving base 61 that is moved in the Y-axis direction and the Z-axis direction by a holder moving unit 70, an arm 62 that extends in the X-axis direction from the moving base 61 in a direction away from the holder moving unit 70, and a holder 63 that is connected to the tip of the arm 62 via an elevator part 64 and that holds the chips 14.

保持具63は、X軸移動機構31により一対の仮置きレール6から離れる位置に位置付けられたフレーム固定ユニット7で固定されたウェーハユニット17を挟んで突き上げユニット40の突き上げ部42に対面する下面65を有している。下面65の平面形状は、チップ14の同等の大きさの四角形に形成されている。下面65には、吸引路66及び開閉弁67等を介してエジェクタ等からなる吸引源68に接続した吸引溝69が形成されている。 The holder 63 has a lower surface 65 that faces the push-up portion 42 of the push-up unit 40, sandwiching the wafer unit 17 fixed by the frame fixing unit 7, which is positioned away from the pair of temporary placement rails 6 by the X-axis movement mechanism 31. The planar shape of the lower surface 65 is formed into a rectangle of the same size as the chip 14. The lower surface 65 has a suction groove 69 formed therein, which is connected to a suction source 68, such as an ejector, via a suction path 66 and an on-off valve 67, etc.

保持具63は、下面65に突き上げ部42で突き上げられたチップ14を接触させた状態で、吸引溝69が吸引源68により吸引されて、チップ14を下面65に吸引保持する。保持具63は、下面65に突き上げユニット40の突き上げ部42で突き上げられたチップ14を吸引保持し、保持具移動ユニット70により上昇されることで、下面65に吸引保持したチップ14をテープ15からピックアップする。 With the chip 14 pushed up by the push-up portion 42 in contact with the lower surface 65 of the holder 63, the suction groove 69 is sucked by the suction source 68, suction-holding the chip 14 to the lower surface 65. The holder 63 suction-holds the chip 14 pushed up by the push-up portion 42 of the push-up unit 40 to the lower surface 65, and is raised by the holder movement unit 70 to pick up the chip 14 suction-held on the lower surface 65 from the tape 15.

また、実施形態1では、試験装置1は、突き上げユニット40の上面側にテープ15からピックアップする際にチップ14にかかる荷重を測定する測定手段であるロードセルを備えても良い。ロードセルは、測定結果を制御ユニット400に出力する。なお、本発明では、測定手段であるロードセルをピックアップ機構60の保持具63の下面65側に設けても良い。 In addition, in embodiment 1, the test device 1 may be provided with a load cell, which is a measuring means, on the upper surface side of the push-up unit 40, for measuring the load applied to the chip 14 when it is picked up from the tape 15. The load cell outputs the measurement results to the control unit 400. Note that in the present invention, the load cell, which is a measuring means, may also be provided on the lower surface 65 side of the holder 63 of the pickup mechanism 60.

昇降部64は、アーム62の先端に設けられ、下端に保持具63を取り付けて、図示しないシリンダなどによりアーム62に対してZ軸方向に沿って昇降するものである。昇降部64は、下降すると、保持具63の下面65をフレーム固定ユニット7で保持された環状フレーム16を含むウェーハユニット17のウェーハ10に近づけ、上昇すると、保持具63の下面65をウェーハユニット17のウェーハ10から遠ざける。 The lifting unit 64 is provided at the tip of the arm 62, has a holder 63 attached to its lower end, and is raised and lowered along the Z-axis direction relative to the arm 62 by a cylinder or the like (not shown). When the lifting unit 64 lowers, it brings the underside 65 of the holder 63 closer to the wafers 10 of the wafer unit 17, which includes the annular frame 16 held by the frame fixing unit 7, and when it rises, it moves the underside 65 of the holder 63 away from the wafers 10 of the wafer unit 17.

(保持具移動ユニット)
保持具移動ユニット70は、保持具63をZ軸方向とY軸方向とに沿って移動させるものである。保持具移動ユニット70は、チップ14をテープ15からピックアップするピックアップ位置と、撮像装置100の下方撮像カメラ102で保持具63に保持したチップ14の裏面11-2が撮像される裏面撮像位置と、撮像装置100の側面撮像カメラ121で保持具63に保持したチップ14の側面11-3が撮像される撮像位置と、強度測定機構200の支持ユニット210の一対の支持部205(図6に示す)上にチップ14が載置されて、チップ14が強度測定機構200により抗折強度が測定される測定位置との間で、保持具63を移動させる。保持具移動ユニット70は、保持具63をピックアップ位置と裏面測定位置と測定位置との間で移動することで、保持具63でピックアップされたチップ14を強度測定機構200の支持ユニット210に搬送する。
(Holder moving unit)
The holder moving unit 70 moves the holder 63 along the Z-axis direction and the Y-axis direction. The holder moving unit 70 moves the holder 63 among a pickup position where the chip 14 is picked up from the tape 15, a backside imaging position where the backside 11-2 of the chip 14 held by the holder 63 is imaged by the downward imaging camera 102 of the imaging device 100, an imaging position where the side surface 11-3 of the chip 14 held by the holder 63 is imaged by the side surface imaging camera 121 of the imaging device 100, and a measurement position where the chip 14 is placed on a pair of support portions 205 (shown in FIG. 6 ) of the support unit 210 of the strength measurement mechanism 200 and the flexural strength of the chip 14 is measured by the strength measurement mechanism 200. The holder moving unit 70 moves the holder 63 among the pickup position, the backside measurement position, and the measurement position, thereby transporting the chip 14 picked up by the holder 63 to the support unit 210 of the strength measurement mechanism 200.

保持具移動ユニット70は、図2に示すように、装置本体2上に設けられかつ移動テーブル73をY軸方向に移動する第2Y軸移動機構71と、第2Y軸移動機構71によりY軸方向に移動される移動テーブル73上に設けられかつ移動基台61即ちピックアップ機構60をZ軸方向に移動するZ軸移動機構72とを備える。 As shown in Figure 2, the holder movement unit 70 includes a second Y-axis movement mechanism 71 that is mounted on the device main body 2 and moves the moving table 73 in the Y-axis direction, and a Z-axis movement mechanism 72 that is mounted on the moving table 73 that is moved in the Y-axis direction by the second Y-axis movement mechanism 71 and moves the moving base 61, i.e., the pickup mechanism 60, in the Z-axis direction.

第2Y軸移動機構71は、突き上げユニット40のテープ保持部41の上面48と保持具63の下面65がZ軸方向に対面するピックアップ位置から移動テーブル73即ちピックアップ機構60をY軸方向に沿って強度測定機構200に向かって移動する。各移動機構71,72は、軸心回りに回転自在に設けられた周知のボールねじ74,75、ボールねじ74,75を軸心回りに回転させる周知のモータ76,77及び移動テーブル73又はピックアップ機構60をY軸方向又はZ軸方向に移動自在に支持する周知のガイドレール78,79を備える。 The second Y-axis movement mechanism 71 moves the moving table 73, i.e., the pickup mechanism 60, along the Y-axis from a pickup position where the upper surface 48 of the tape holding portion 41 of the push-up unit 40 and the lower surface 65 of the holder 63 face each other in the Z-axis direction toward the strength measurement mechanism 200. Each movement mechanism 71, 72 includes well-known ball screws 74, 75 rotatable about their axes, well-known motors 76, 77 that rotate the ball screws 74, 75 about their axes, and well-known guide rails 78, 79 that support the moving table 73 or pickup mechanism 60 for movement in the Y-axis or Z-axis direction.

(撮像装置)
撮像装置100は、チップ14の表面11-1、裏面11-2及び側面11-3を撮像するものである。撮像装置100は、図1及び図2に示すように、装置本体2上の突き上げユニット40のY軸方向の隣に配置された下方撮像ユニット101と、チップ14の上下を反転するチップ反転機構110と、側方撮像ユニット120とを備える。
(imaging device)
The imaging device 100 captures images of the front surface 11-1, back surface 11-2, and side surface 11-3 of the chip 14. As shown in Figures 1 and 2, the imaging device 100 includes a lower imaging unit 101 arranged adjacent to the push-up unit 40 in the Y-axis direction on the device body 2, a chip inversion mechanism 110 that inverts the chip 14 upside down, and a lateral imaging unit 120.

下方撮像ユニット101は、ピックアップ機構60の保持具63に保持されたチップ14を下方から撮像する下方撮像カメラ102を備える。下方撮像カメラ102は、保持具63の保持具移動ユニット70によるY軸方向と平行な移動経路と重なる位置に配置されている。 The lower imaging unit 101 is equipped with a lower imaging camera 102 that captures images of the chip 14 held by the holder 63 of the pickup mechanism 60 from below. The lower imaging camera 102 is positioned so as to overlap the movement path of the holder 63, which is parallel to the Y-axis direction, caused by the holder movement unit 70.

下方撮像カメラ102は、アーム62から昇降部64が下降し、昇降部64が装置本体2から立設した支持柱103に吸引保持された状態で、保持具63に保持されたチップ14とZ軸方向に沿って対面して、チップ14を下方から撮像する。これにより、保持具移動ユニっと70の動作等に起因するアーム62の振動がチップ14に伝達することを防止し、下方撮像カメラ102によるチップ14の撮像の精度を向上させることができる。 The lower imaging camera 102 faces the chip 14 held by the holder 63 along the Z-axis direction, with the lifting section 64 lowered from the arm 62 and held by suction on a support column 103 erected from the device main body 2, and images the chip 14 from below. This prevents vibrations of the arm 62 caused by the operation of the holder movement unit 70, etc., from being transmitted to the chip 14, improving the accuracy of imaging of the chip 14 by the lower imaging camera 102.

なお、チップ14の裏面11-2には、分割前のウェーハ10の裏面11-2側に施された研削加工の加工痕(ソーマーク)等の微細な凹凸が形成されていることがあり、このような凹凸は、チップ14の抗折強度に影響する。そのため、チップ14の抗折強度を測定する際には、予めチップ14の裏面11-2の状態を確認しておくことが好ましい。このために、試験装置1は、保持具63の移動経路と重なる位置に下方撮像カメラ102を設けて、チップ14を保持具63によって保持した状態のまま下方撮像カメラ102上に配置でき、チップ14の裏面11-2を撮像することができる。 The back surface 11-2 of the chip 14 may have minute irregularities, such as saw marks from grinding performed on the back surface 11-2 of the wafer 10 before division, and these irregularities affect the flexural strength of the chip 14. Therefore, when measuring the flexural strength of the chip 14, it is preferable to check the condition of the back surface 11-2 of the chip 14 beforehand. For this reason, the test device 1 has a lower imaging camera 102 positioned so as to overlap the movement path of the holder 63, so that the chip 14 can be placed on the lower imaging camera 102 while held by the holder 63, allowing the back surface 11-2 of the chip 14 to be imaged.

下方撮像カメラ102は、チップ14の裏面11-2に形成された加工痕(ソーマーク)を検出可能である。下方撮像カメラ102は、箱型のハウジングの下部に設けられた図示しない撮像素子と、ハウジングの上部に設けられかつ下方からチップ14にZ軸方向に対面する干渉対物レンズと、ハウジングの内部に設けられた光源等を備える干渉計等によって構成される。 The downward imaging camera 102 is capable of detecting saw marks formed on the back surface 11-2 of the chip 14. The downward imaging camera 102 is composed of an imaging element (not shown) located at the bottom of a box-shaped housing, an interference objective lens located at the top of the housing and facing the chip 14 from below in the Z-axis direction, and an interferometer equipped with a light source and other components located inside the housing.

下方撮像カメラ102は、光源が発した白色光と、チップ14の裏面11-2で反射光等が干渉することにより干渉縞が生じさせ、この干渉によって得られた光を撮像素子が撮像し、撮像素子が干渉縞を含んだ画像を撮像する。撮像素子は、例えば、CCD(Charge-Coupled Device)撮像素子又はCMOS(Complementary MOS)撮像素子である。下方撮像カメラ102は、撮像素子が撮像した干渉縞を含んだ画像を制御ユニット400に出力する。制御ユニット400は、下方撮像カメラ102の撮像素子が撮像した干渉縞を含んだ画像の干渉縞の強度に基づいて、チップ14の裏面11-2の微細な凹凸を検出できる。 The downward imaging camera 102 generates interference fringes due to interference between white light emitted by a light source and light reflected from the back surface 11-2 of the chip 14. The light resulting from this interference is captured by an imaging element, which then captures an image containing the interference fringes. The imaging element is, for example, a CCD (Charge-Coupled Device) imaging element or a CMOS (Complementary MOS) imaging element. The downward imaging camera 102 outputs the image containing the interference fringes captured by the imaging element to the control unit 400. The control unit 400 can detect minute irregularities on the back surface 11-2 of the chip 14 based on the intensity of the interference fringes in the image containing the interference fringes captured by the imaging element of the downward imaging camera 102.

実施形態1では、下方撮像カメラ102は、ミラウ型の干渉対物レンズ、マイケルソン型又はリニク型の干渉対物レンズを備える。 In embodiment 1, the downward imaging camera 102 is equipped with a Mirau-type interference objective lens, a Michelson-type or a Linnik-type interference objective lens.

前述した構成の下方撮像カメラ102は、保持具63に吸引保持されたチップ14の裏面11-2を撮像し、撮像して得た干渉縞を含んだ画像を制御ユニット400に出力する。また、下方撮像カメラ102は、チップ反転機構110により上下が反転されかつ裏面11-2側が保持具63に吸引保持されたチップ14の表面11-1を撮像し、撮像して得た画像を制御ユニット400に出力しても良い。 The downward imaging camera 102 configured as described above images the back surface 11-2 of the chip 14 held by suction in the holder 63, and outputs the image containing interference fringes obtained by the image capture to the control unit 400. The downward imaging camera 102 may also image the front surface 11-1 of a chip 14 that has been inverted upside down by the chip inversion mechanism 110 and whose back surface 11-2 is held by suction in the holder 63, and output the image obtained by the image capture to the control unit 400.

チップ反転機構110は、チップ14の表面11-1及び裏面11-2の上下を反転するもの、即ち、チップ14を裏返すものである。チップ反転機構110は、下方撮像ユニット101とY軸方向に並びかつ下方撮像ユニット101よりも突き上げユニット40から離れた位置に配置されている。チップ反転機構110は、チップ14を支持する柱状のチップ支持台111と、反転機構112とを備える。 The chip inversion mechanism 110 inverts the top and bottom of the front surface 11-1 and back surface 11-2 of the chip 14, i.e., turns the chip 14 upside down. The chip inversion mechanism 110 is aligned with the lower imaging unit 101 in the Y-axis direction and is positioned farther from the push-up unit 40 than the lower imaging unit 101. The chip inversion mechanism 110 includes a columnar chip support base 111 that supports the chip 14, and an inversion mechanism 112.

チップ支持台111は、装置本体2から上方に向かって延びており、下方撮像カメラ102とY軸方向に並ぶ位置(即ち、保持具63の移動経路と重なる位置)に配置されている。チップ支持台111は、上面が水平方向と平行に平坦に形成され、上面上にピックアップ機構60の保持具63により搬送されたチップ14を支持する。また、チップ支持台111は、図示しない回転駆動源と接続されており、回転駆動源によりZ軸方向と平行な軸心回りに回転する。 The chip support base 111 extends upward from the device main body 2 and is positioned in line with the lower imaging camera 102 in the Y-axis direction (i.e., overlapping with the movement path of the holder 63). The chip support base 111 has a flat upper surface that is parallel to the horizontal direction, and supports on its upper surface a chip 14 transported by the holder 63 of the pickup mechanism 60. The chip support base 111 is also connected to a rotary drive source (not shown), and is rotated by the rotary drive source around an axis parallel to the Z-axis direction.

反転機構112は、チップ支持台111の上方に配置されている。反転機構112は、先端部でチップ14を保持した状態で、X軸方向と平行な軸心回りに基底部113を180°回転可能に構成されている。 The inversion mechanism 112 is disposed above the chip support base 111. The inversion mechanism 112 is configured to be able to rotate the base 113 by 180° around an axis parallel to the X-axis direction while holding the chip 14 at its tip.

チップ反転機構110は、チップ14の上下に反転する際、ピックアップ機構60の保持具63により搬送されたチップ14をチップ支持台111の上面に支持し、チップ14を支持したチップ支持台111の上面に対して、図1及び図2中に実線で示す位置から基底部113を180°回転させて、図1及び図2中に点線で示す位置に位置付ける。チップ反転機構110は、先端部にチップ14を吸引保持し、基底部113を180°回転して、チップ14の上下を反転する。 When flipping the chip 14 upside down, the chip flipping mechanism 110 supports the chip 14 transported by the holder 63 of the pickup mechanism 60 on the upper surface of the chip support base 111, and rotates the base 113 180° from the position shown by the solid lines in Figures 1 and 2 relative to the upper surface of the chip support base 111 supporting the chip 14 to the position shown by the dotted lines in Figures 1 and 2. The chip flipping mechanism 110 suction-holds the chip 14 at its tip and rotates the base 113 180° to flip the chip 14 upside down.

チップ反転機構110により反転されたチップ14は、ピックアップ機構60の保持具63により吸引保持されて、チップ反転機構110の先端部の吸引保持が停止される。このように、チップ反転機構110は、チップ14の上下を反転する。 The chip 14 inverted by the chip inversion mechanism 110 is held by suction by the holder 63 of the pickup mechanism 60, and the suction holding of the tip of the chip inversion mechanism 110 is stopped. In this way, the chip inversion mechanism 110 inverts the chip 14 upside down.

なお、試験装置1は、保持具63の移動経路と重なる位置にチップ支持台111を設けているため、保持具63によってチップ14をチップ支持台111の上面に配置できる。 In addition, the test device 1 has a chip support base 111 located at a position that overlaps with the movement path of the holder 63, so the holder 63 can place the chip 14 on the upper surface of the chip support base 111.

側方撮像ユニット120は、チップ14を側方から即ちチップ14の側面を撮像するものである。側方撮像ユニット120は、下方撮像ユニット101のY軸方向の隣に配置され、実施形態1では、下方撮像ユニット101とチップ反転機構110との間に配置されている。 The lateral imaging unit 120 images the chip 14 from the side, i.e., the side surface of the chip 14. The lateral imaging unit 120 is positioned next to the lower imaging unit 101 in the Y-axis direction, and in embodiment 1, is positioned between the lower imaging unit 101 and the chip inversion mechanism 110.

側方撮像ユニット120は、チップ14の側面11-3を撮像するカメラである側面撮像カメラ121を有する。側面撮像カメラ121は、ピックアップ機構60の保持具63に吸引保持されたチップ14の側面11-3を撮影可能な位置に配置され、実施形態1では、ピックアップ機構60の保持具63に吸引保持されたチップ14の側面11-3とX軸方向に対面する位置に配置されている。側面撮像カメラ121は、チップ14の側面11-3を撮像する撮像素子を有する。撮像素子は、例えば、CCD(Charge-Coupled Device)撮像素子又はCMOS(Complementary MOS)撮像素子である。 The lateral imaging unit 120 has a side imaging camera 121, which is a camera that images the side surface 11-3 of the chip 14. The side imaging camera 121 is positioned so that it can image the side surface 11-3 of the chip 14 held by suction in the holder 63 of the pickup mechanism 60. In embodiment 1, the side imaging camera 121 is positioned so that it faces the side surface 11-3 of the chip 14 held by suction in the holder 63 of the pickup mechanism 60 in the X-axis direction. The side imaging camera 121 has an imaging element that images the side surface 11-3 of the chip 14. The imaging element is, for example, a CCD (Charge-Coupled Device) imaging element or a CMOS (Complementary MOS) imaging element.

側面撮像カメラ121は、ピックアップ機構60の保持具63に吸引保持されたチップ14の側面11-3に焦点を合わせて、側面11-3を撮像し、撮像して得た撮像画像を制御ユニット400に出力する。 The side imaging camera 121 focuses on the side surface 11-3 of the chip 14 held by suction in the holder 63 of the pickup mechanism 60, captures an image of the side surface 11-3, and outputs the captured image to the control unit 400.

側方撮像ユニット120は、ピックアップ機構60の保持具63に吸引保持されたチップ14の一つの側面11-3を側面撮像カメラ121によって撮像する。その後、保持具63がチップ支持台111にチップ14を支持させ、チップ支持台111が軸心回りに回転した後、チップ支持台111上のチップ14が再度保持具63に吸引保持されて、保持具63に吸引保持されたチップ14の他の側面11-3を側面撮像カメラ121によって撮像する。 The lateral imaging unit 120 uses the side imaging camera 121 to image one side surface 11-3 of the chip 14 held by suction on the holder 63 of the pickup mechanism 60. The holder 63 then supports the chip 14 on the chip support base 111, which then rotates around its axis. The chip 14 on the chip support base 111 is then again held by suction on the holder 63, and the other side surface 11-3 of the chip 14 held by suction on the holder 63 is then imaged by the side imaging camera 121.

このようにして、実施形態1では、側方撮像ユニット120は、側面撮像カメラ121によってチップ14の全ての側面11-3(例えば、チップ14の4辺の側面11-3)を撮像し、チップ14の厚さや、チップ14に形成された欠け501(図14に示し、以下チッピングと記す)を含んだ撮像画像500(図14に示す)を取得して、取得した撮像画像500を制御ユニット400に出力する。 In this way, in embodiment 1, the lateral imaging unit 120 uses the side imaging camera 121 to capture images of all side surfaces 11-3 of the chip 14 (for example, the side surfaces 11-3 on all four sides of the chip 14), obtains an image 500 (shown in FIG. 14) that includes the thickness of the chip 14 and any chips 501 (shown in FIG. 14, hereinafter referred to as chipping) formed on the chip 14, and outputs the obtained image 500 to the control unit 400.

なお、実施形態1では、側面撮像カメラ121は、チップ14の全ての側面11-3を撮像するが、本発明では、強度測定機構200の後述する一対の支持部205(図6に示す)に支持された際に、チップ14の全ての側面11-3のうちY軸方向の両端に位置する2つの側面11-3を撮像して、撮像画像500を得れば良い。なお、強度測定機構200の一対の支持部205に支持された際に、チップ14の全ての側面11-3のうちY軸方向の両端に位置する2つの側面11-3は、強度測定機構200の後述する圧子221の伸長方向に交差する互いに対面したチップ14の2側面である。 In embodiment 1, the side image capturing camera 121 captures images of all side surfaces 11-3 of the chip 14. However, in the present invention, when the chip 14 is supported by a pair of support parts 205 (shown in FIG. 6) of the strength measurement mechanism 200 (described later), it is sufficient to capture images of the two side surfaces 11-3 located at both ends in the Y-axis direction out of all side surfaces 11-3 of the chip 14, to obtain the captured image 500. When the chip 14 is supported by a pair of support parts 205 of the strength measurement mechanism 200, the two side surfaces 11-3 located at both ends in the Y-axis direction out of all side surfaces 11-3 of the chip 14 are two side surfaces of the chip 14 facing each other and intersecting the extension direction of the indenter 221 of the strength measurement mechanism 200 (described later).

また、側方撮像ユニット120の側面撮像カメラ121の撮像範囲の幅方向の中央は、チップ14の予め定められた所定の位置に定められている。実施形態1では、側方撮像ユニット120の側面撮像カメラ121の撮像範囲の幅方向の中央は、チップ14の幅方向の中央11-4(図14に示す)に定められている。即ち、側面撮像カメラ121が撮像して得た撮像画像500の幅方向(図14中の左右方向)の中央502は、チップ14の予め定められた所定の位置である幅方向の中央11-4に一致している。また、実施形態1では、チップ14の表面11-1の幅方向の中央は、初期位置に位置した支持ユニット210の支持部205が支持したチップ14の強度測定機構200の圧子221が押圧する位置である。 The widthwise center of the imaging range of the side imaging camera 121 of the lateral imaging unit 120 is set to a predetermined position on the chip 14. In embodiment 1, the widthwise center of the imaging range of the side imaging camera 121 of the lateral imaging unit 120 is set to the widthwise center 11-4 (shown in FIG. 14) of the chip 14. That is, the widthwise center 502 (left-right direction in FIG. 14) of the image 500 captured by the side imaging camera 121 coincides with the widthwise center 11-4, which is a predetermined position on the chip 14. In embodiment 1, the widthwise center of the surface 11-1 of the chip 14 is the position pressed by the indenter 221 of the strength measuring mechanism 200 of the chip 14 supported by the support portion 205 of the support unit 210 positioned in the initial position.

上記の下方撮像ユニット101及び側方撮像ユニット120により、撮像装置100は、保持具63にピックアップされたチップ14の表面11-1、裏面11-2及び側面11-3を撮像する。なお、本発明では、チップ14の側面11-3を撮像する側面撮像カメラ121は、チップ支持台111の上面に支持されたチップ14の側面11-3を撮像可能な位置に設けられて、チップ支持台111の上面に支持されたチップ14の側面11-3を撮像しても良い。 Using the above-mentioned lower imaging unit 101 and side imaging unit 120, the imaging device 100 images the front surface 11-1, back surface 11-2, and side surface 11-3 of the chip 14 picked up by the holder 63. In the present invention, the side imaging camera 121 that images the side surface 11-3 of the chip 14 may be provided in a position that allows it to image the side surface 11-3 of the chip 14 supported on the upper surface of the chip support base 111, and may image the side surface 11-3 of the chip 14 supported on the upper surface of the chip support base 111.

(強度測定機構)
強度測定機構200は、ピックアップ機構60でピックアップされたチップ14の抗折強度を測定する測定機構である。強度測定機構200は、撮像装置100とY軸方向の隣に配置され、実施形態1では、チップ反転機構110よりも突き上げユニット40から離れた側に配置されている。また、実施形態1では、強度測定機構200は、保持具63の移動経路と重なる位置に配置されている。
(Strength measurement mechanism)
The strength measuring mechanism 200 is a measuring mechanism that measures the flexural strength of the chip 14 picked up by the pickup mechanism 60. The strength measuring mechanism 200 is disposed adjacent to the imaging device 100 in the Y-axis direction, and in the first embodiment, is disposed on the side farther from the push-up unit 40 than the chip inverting mechanism 110. In the first embodiment, the strength measuring mechanism 200 is disposed at a position overlapping with the movement path of the holder 63.

強度測定機構200は、下部容器201と、支持ユニット210と、押圧ユニット220と、上部容器240と、エアー供給ユニット250と、破片排出ユニットとを備える。下部容器201は、装置本体2上に配置され、上側に開口が形成された箱状に形成されている。 The strength measurement mechanism 200 comprises a lower container 201, a support unit 210, a pressing unit 220, an upper container 240, an air supply unit 250, and a debris discharge unit. The lower container 201 is placed on the device main body 2 and is box-shaped with an opening on the top.

支持ユニット210は、ピックアップ機構60の保持具63によりピックアップされかつ撮像装置100により表面11-1、裏面11-2及び側面11-3が撮像されたチップ14を支持するものである。支持ユニット210は、装置本体2上に設置された下部容器201内に収容され、保持具63の移動経路と重なる位置に配置されている。このために、保持具移動ユニット70は、保持具63を突き上げユニット40にZ軸方向に対向する位置から支持ユニット210とZ軸方向に対向する位置に移動する。 The support unit 210 supports the chip 14 that has been picked up by the holder 63 of the pickup mechanism 60 and whose front surface 11-1, back surface 11-2, and side surface 11-3 have been imaged by the imaging device 100. The support unit 210 is housed in the lower container 201 installed on the device main body 2, and is positioned so that it overlaps with the movement path of the holder 63. For this reason, the holder movement unit 70 moves the holder 63 from a position facing the push-up unit 40 in the Z-axis direction to a position facing the support unit 210 in the Z-axis direction.

支持ユニット210は、図6に示すように、チップ14を支持する一対の支持部205と、支持部205それぞれのX軸方向における位置と一対の支持部205間の間隔212とを変更する支持部移動機構219とを備える。一対の支持部205は、互いにX軸方向に所定の間隔212を有して配設されている。支持部205は、それぞれ、支持台211と、接触部材214とを備える。 As shown in FIG. 6, the support unit 210 includes a pair of support parts 205 that support the chip 14, and a support part movement mechanism 219 that changes the position of each support part 205 in the X-axis direction and the spacing 212 between the pair of support parts 205. The pair of support parts 205 are arranged with a predetermined spacing 212 between them in the X-axis direction. Each support part 205 includes a support base 211 and a contact member 214.

支持台211は、直方体状に形成されている。一対の支持部205の支持台211は、互いにX軸方向に間隔をあけて配置され、互いの間に間隔212が設けられている。また、一対の支持台211は、上面の長手方向がY軸方向に沿って配置されている。一対の支持台211は、上面側に抗折強度が測定されるチップ14が保持具63等により配置される。なお、実施形態1では、支持台211は、チップ14の裏面11-2が載置される。 The support base 211 is formed in a rectangular parallelepiped shape. The support bases 211 of the pair of support sections 205 are spaced apart in the X-axis direction, with a gap 212 between them. The pair of support bases 211 are also arranged with the longitudinal direction of their upper surfaces aligned along the Y-axis direction. The chip 14 whose flexural strength is to be measured is placed on the upper surface of the pair of support bases 211 using a holder 63 or the like. In embodiment 1, the back surface 11-2 of the chip 14 is placed on the support base 211.

支持台211は、それぞれ上面の互いに隣接する縁部に上方に突出する柱状(棒状)の支持突起213が形成され、上面の前述した縁部以外が接触部材214で被覆されている。支持突起213は、例えばステンレス鋼材等の金属でなり、Y軸方向と平行に配置され、チップ14の裏面11-2側を支持する。なお、実施形態1では、支持突起213の上面の断面形状は、上方に凸の曲面に形成されている。 The support bases 211 each have columnar (rod-shaped) support protrusions 213 that protrude upward formed on adjacent edges of their top surface, and the top surface is covered with a contact member 214 except for the aforementioned edges. The support protrusions 213 are made of metal such as stainless steel, are arranged parallel to the Y-axis direction, and support the back surface 11-2 side of the chip 14. In embodiment 1, the cross-sectional shape of the top surface of the support protrusions 213 is formed as an upwardly convex curved surface.

接触部材214は、支持突起213よりも柔軟な材質(例えば、スポンジゴム等)により構成され、厚みが一定の板状に形成されている。接触部材214は、平面形状が矩形状に形成され、変形していない状態の厚みが支持突起213の上端213-1の支持台211の上面からの突出量よりも厚い。 The contact member 214 is made of a material (such as sponge rubber) that is more flexible than the support protrusion 213, and is formed in the shape of a plate with a constant thickness. The contact member 214 has a rectangular planar shape, and its thickness in an undeformed state is greater than the amount by which the upper end 213-1 of the support protrusion 213 protrudes from the top surface of the support base 211.

接触部材214は、上面にチップ14の裏面11-2が重ねられて、チップ14を支持する。このために、接触部材214の上面は、チップ14の裏面11-2を支持する。なお、実施形態1では、変形していない状態の接触部材214の上面は、支持突起213の上端よりも1mm程度上方に配置される。このために、支持台211上に配置されたチップ14は、裏面11-2が支持突起213から間隔をあけて、接触部材214の上面に接触する。また、支持突起213の上端213-1には、圧子221がチップ14を押圧すると、接触部材214が変形してチップ14の裏面11-2に接触して、裏面11-2を支持する。このために、支持突起213の上端213-1は、チップ14の裏面11-2を支持する支持面である。即ち、支持部205は、チップ14の裏面11-2を支持する支持面である支持突起213の上端213-1を含む。 The contact member 214 supports the chip 14 with the back surface 11-2 of the chip 14 placed on its upper surface. Therefore, the upper surface of the contact member 214 supports the back surface 11-2 of the chip 14. In embodiment 1, the upper surface of the contact member 214 in an undeformed state is positioned approximately 1 mm above the upper end of the support protrusion 213. Therefore, the back surface 11-2 of the chip 14 placed on the support base 211 contacts the upper surface of the contact member 214 with a gap between it and the support protrusion 213. Furthermore, when the indenter 221 presses the chip 14, the contact member 214 deforms and comes into contact with the back surface 11-2 of the chip 14, supporting the back surface 11-2. Therefore, the upper end 213-1 of the support protrusion 213 is a support surface that supports the back surface 11-2 of the chip 14. That is, the support portion 205 includes the upper end 213-1 of the support protrusion 213, which is the support surface that supports the back surface 11-2 of the chip 14.

支持部移動機構219は、各支持台211をX軸方向に移動させるものであって、装置本体2に固定された固定板215に回転自在に設けられたボールねじ216と、ボールねじ216を回転するモータ217と、各支持台211をX軸方向に移動自在に支持するガイドレール218とを備える。支持部移動機構219は、一対の支持台211をX軸方向の互いに同じ向きに移動させることができるとともに、互いに逆向きに移動させることができる。実施形態1では、支持部移動機構219は、チップ14が載置される際に、一対の支持突起213の上端213-1間の中央が保持具63の移動経路上に位置する初期位置に一対の支持部205を位置付ける。なお、実施形態1において、X軸方向は、一対の支持部205が整列する方向、即ち、一対の支持部205が互いに並ぶ方向である。 The support unit movement mechanism 219 moves each support base 211 in the X-axis direction and includes a ball screw 216 rotatably mounted on a fixed plate 215 fixed to the device body 2, a motor 217 that rotates the ball screw 216, and a guide rail 218 that supports each support base 211 movably in the X-axis direction. The support unit movement mechanism 219 can move the pair of support bases 211 in the same direction along the X-axis, or in opposite directions. In embodiment 1, when the chip 14 is placed, the support unit movement mechanism 219 positions the pair of supports 205 at an initial position where the center between the upper ends 213-1 of the pair of support protrusions 213 is located on the movement path of the holder 63. Note that in embodiment 1, the X-axis direction is the direction in which the pair of supports 205 are aligned, i.e., the direction in which the pair of supports 205 are lined up.

押圧ユニット220は、支持ユニット210に支持されたチップ14を圧子221で押圧し、チップ14の押圧時に押圧ユニット220にかかる荷重を測定するとともに、支持ユニット210に支持されたチップ14を押圧して破壊するものである。押圧ユニット220は、支持ユニット210の上方に設けられている。 The pressing unit 220 presses the chip 14 supported by the support unit 210 with an indenter 221, measures the load acting on the pressing unit 220 when pressing the chip 14, and presses and destroys the chip 14 supported by the support unit 210. The pressing unit 220 is provided above the support unit 210.

押圧ユニット220は、図1及び図2に示すように、圧子221と、圧子移動ユニット222と、荷重計測器223とを備える。 As shown in Figures 1 and 2, the pressing unit 220 includes an indenter 221, an indenter moving unit 222, and a load measuring device 223.

圧子221は、支持ユニット210の支持部205に載置されたチップ14よりも上方で、且つ、チップ14の裏面11-2を支持する一対の支持部205の間の上方に配置されている。圧子221は、一対の支持部205が整列する方向であるX軸方向と直交するZ軸方向に伸長するバー状に形成されている。このように、実施形態1では、Z軸方向は、圧子221の伸長方向である。圧子移動ユニット222は、一対の支持部205で支持されたチップ14に対して圧子221をZ軸方向に沿って相対的に近接移動させるものである。圧子移動ユニット222は、圧子221を下端に支持して、圧子221を支持ユニット210の一対の支持部205の間とZ軸方向に沿って対向させて、圧子221をZ軸方向に沿って昇降移動させる。 The indenter 221 is positioned above the chip 14 placed on the support parts 205 of the support unit 210 and above the space between the pair of support parts 205 that support the back surface 11-2 of the chip 14. The indenter 221 is formed in a bar shape extending in the Z-axis direction, which is perpendicular to the X-axis direction in which the pair of support parts 205 are aligned. Thus, in embodiment 1, the Z-axis direction is the extension direction of the indenter 221. The indenter movement unit 222 moves the indenter 221 along the Z-axis direction relative to the chip 14 supported by the pair of support parts 205. The indenter movement unit 222 supports the indenter 221 at its lower end, positions the indenter 221 opposite the space between the pair of support parts 205 of the support unit 210 along the Z-axis direction, and moves the indenter 221 up and down along the Z-axis direction.

荷重計測器223は、圧子221が支持部205で支持されたチップ14を押圧する荷重を測定するものである。実施形態1では、荷重計測器223は、圧子移動ユニット222によって圧子221とともにZ軸方向に沿って昇降移動される。荷重計測器223は、周知のロードセル等により構成され、圧子221が一対の支持部205で支持されたチップ14を押圧する荷重を測定し、測定結果を制御ユニット400に出力する。 The load measuring instrument 223 measures the load with which the indenter 221 presses against the chip 14 supported by the support parts 205. In embodiment 1, the load measuring instrument 223 is moved up and down along the Z-axis direction together with the indenter 221 by the indenter movement unit 222. The load measuring instrument 223 is composed of a well-known load cell or the like, and measures the load with which the indenter 221 presses against the chip 14 supported by the pair of support parts 205, and outputs the measurement result to the control unit 400.

上部容器240は、下方に開口部を有して、支持ユニット210の一対の支持台211を収容可能な箱状に形成されている。また、上部容器240は、荷重計測器223の下方に配置され、圧子221を通すことが可能な挿入孔が設けられている。また、上部容器240は、下部容器201内に侵入可能な大きさに形成されている。このために、圧子移動ユニット222によって圧子221及び荷重計測器223が下方に移動されると、上部容器240は、下部容器201に挿入され、支持ユニット210の上側を覆う。 The upper container 240 has an opening at the bottom and is formed in a box shape that can accommodate the pair of support bases 211 of the support unit 210. The upper container 240 is also positioned below the load measuring instrument 223 and has an insertion hole through which the indenter 221 can pass. The upper container 240 is also formed with a size that allows it to enter the lower container 201. Therefore, when the indenter 221 and load measuring instrument 223 are moved downward by the indenter moving unit 222, the upper container 240 is inserted into the lower container 201 and covers the upper side of the support unit 210.

エアー供給ユニット250は、圧子221の先端部にエアーを吹き付けるものである。エアー供給ユニット250は、圧子221に向かってエアーを噴射するノズル251と、ノズル251に開閉弁252を介してエアーを供給するエアー供給源253とを備える。 The air supply unit 250 sprays air onto the tip of the indenter 221. The air supply unit 250 includes a nozzle 251 that sprays air toward the indenter 221, and an air supply source 253 that supplies air to the nozzle 251 via an on-off valve 252.

ノズル251は、パイプ状に形成され、上部容器240のノズル挿入穴内に通されて、先端が上部容器240内の圧子221の先端部に対向する。エアー供給ユニット250は、ノズル251からエアーを圧子221の先端部に吹き付けて、圧子221の先端部、接触部材214の上面等に付着した異物を除去する。 The nozzle 251 is shaped like a pipe and is inserted into the nozzle insertion hole of the upper container 240, with its tip facing the tip of the indenter 221 inside the upper container 240. The air supply unit 250 blows air from the nozzle 251 onto the tip of the indenter 221 to remove foreign matter adhering to the tip of the indenter 221, the top surface of the contact member 214, etc.

破片排出ユニットは、下部容器201の内部に存在するチップ14の破片11-5(図18に示す)を排出するものである。 The fragment discharge unit discharges chip 14 fragments 11-5 (shown in Figure 18) present inside the lower container 201.

強度測定機構200は、チップ14の抗折強度を測定する際には、圧子221及び荷重計測器223を圧子移動ユニット222により上方に位置付けた状態で、初期位置の一対の支持部205上に保持具63等によりチップ14が載置される。このとき、チップ14は、両端部が一対の支持部205によって支持され、中央11-4が支持突起213の上端213-1間の中央と重なる。 When measuring the flexural strength of the chip 14, the strength measuring mechanism 200 positions the indenter 221 and load measuring device 223 upward using the indenter movement unit 222, and then places the chip 14 on a pair of support parts 205 in their initial position using a holder 63 or the like. At this time, both ends of the chip 14 are supported by the pair of support parts 205, and the center 11-4 overlaps with the center between the upper ends 213-1 of the support protrusions 213.

強度測定機構200は、圧子221を圧子移動ユニット222により降下させて、圧子221でチップ14を押圧し、チップ14を押圧する圧子221にかかる荷重(Z軸方向の力)を荷重計測器223によって測定し、測定結果を適宜制御ユニット400に出力しながら圧子221でチップ14を破壊する。強度測定機構200は、チップ14の一対の支持部205及び圧子221を用いた3点曲げ試験を行い、この3点曲げ試験により、チップ14の曲げ強度(抗折強度)を測定し、測定結果を制御ユニット400に出力する。 The strength measurement mechanism 200 lowers the indenter 221 using the indenter movement unit 222, presses the chip 14 with the indenter 221, measures the load (force in the Z-axis direction) applied to the indenter 221 pressing the chip 14 with the load measuring instrument 223, and destroys the chip 14 with the indenter 221 while outputting the measurement results to the control unit 400 as appropriate. The strength measurement mechanism 200 performs a three-point bending test using the pair of support parts 205 of the chip 14 and the indenter 221, measures the bending strength (transverse strength) of the chip 14 through this three-point bending test, and outputs the measurement results to the control unit 400.

(制御ユニット)
制御ユニット400は、試験装置1の上述した各構成要素をそれぞれ制御して、チップ14の表面11-1、裏面11-2及び側面11-3を撮像する撮像動作、及びチップ14の抗折強度を測定する各チップ14に対する測定動作を試験装置1に実施させるものでもある。
(control unit)
The control unit 400 controls each of the above-mentioned components of the test device 1, causing the test device 1 to perform an imaging operation to image the front surface 11-1, back surface 11-2 and side surface 11-3 of the chip 14, and a measurement operation for each chip 14 to measure the flexural strength of the chip 14.

制御ユニット400は、CPU(central processing unit)のようなマイクロプロセッサを有する演算処理装置と、ROM(read only memory)又はRAM(random access memory)のようなメモリを有する記憶装置と、入出力インターフェース装置とを有するコンピュータである。制御ユニット400の演算処理装置は、記憶装置に記憶されているコンピュータプログラムに従って演算処理を実施して、試験装置1を制御するための制御信号を、入出力インターフェース装置を介して試験装置1の上述した各ユニットに出力する。 The control unit 400 is a computer having an arithmetic processing device with a microprocessor such as a CPU (central processing unit), a storage device with memory such as ROM (read only memory) or RAM (random access memory), and an input/output interface device. The arithmetic processing device of the control unit 400 performs arithmetic processing in accordance with a computer program stored in the storage device, and outputs control signals for controlling the test device 1 to each of the above-mentioned units of the test device 1 via the input/output interface device.

また、制御ユニット400は、測定動作の状態や画像などを表示する表示画面301を有する表示手段である表示ユニット300(図1に示す)と、オペレータが試験装置1の制御ユニット400に情報などを入力する際に用いる入力手段であるタッチパネル302(図1に示す)とが接続されている。表示ユニット300は、液晶表示装置などにより構成される。タッチパネル302は、表示ユニット300の表示画面301に重ねられる。 The control unit 400 is also connected to a display unit 300 (shown in Figure 1), which is a display means having a display screen 301 that displays the status of the measurement operation, images, etc., and a touch panel 302 (shown in Figure 1), which is an input means used by the operator to input information, etc., into the control unit 400 of the testing device 1. The display unit 300 is composed of a liquid crystal display device or the like. The touch panel 302 is overlaid on the display screen 301 of the display unit 300.

(測定方法)
実施形態1に係る測定方法は、試験装置1のチップ14の表面11-1、裏面11-2及び側面11-3を撮像する撮像動作、及びチップ14の抗折強度を測定する測定動作でもある。実施形態1に係る測定方法は、チップ14の表面11-1、裏面11-2及び側面11-3を撮像するとともに、チップ14の抗折強度を測定する測定方法であって、図7に示すように、ピックアップステップ1001と、裏面撮像ステップ1002と、側面撮像ステップ1003と、チッピング検出ステップ1004と、チップ載置ステップ1005と、チップ破壊ステップ1006とを備える。
(Measurement method)
The measurement method according to the first embodiment also includes an imaging operation of imaging the front surface 11-1, back surface 11-2, and side surface 11-3 of the chip 14 of the test device 1, and a measurement operation of measuring the flexural strength of the chip 14. The measurement method according to the first embodiment is a measurement method of imaging the front surface 11-1, back surface 11-2, and side surface 11-3 of the chip 14 and measuring the flexural strength of the chip 14, and includes a pickup step 1001, a back surface imaging step 1002, a side surface imaging step 1003, a chipping detection step 1004, a chip mounting step 1005, and a chip destruction step 1006, as shown in FIG.

試験装置1は、オペレータが複数のウェーハユニット17を収容したカセット4をカセット載置台3に設置し、タッチパネル302を操作して、測定条件等を制御ユニット400に入力し、制御ユニット400がオペレータの測定動作の開始指示を受け付けると、実施形態1に係る測定方法を開始する。なお、測定条件は、各ウェーハユニット17の測定対象の各チップ14の位置を含む。 The testing apparatus 1 starts the measurement method according to embodiment 1 when an operator places a cassette 4 containing multiple wafer units 17 on the cassette mounting table 3, operates the touch panel 302, inputs measurement conditions and the like into the control unit 400, and the control unit 400 receives an instruction from the operator to start the measurement operation. The measurement conditions include the positions of each chip 14 to be measured in each wafer unit 17.

実施形態1では、試験装置1は、各ウェーハユニット17から測定対象のチップ14を一つずつ順にピックアップする。なお、本明細書では、測定動作の実施中に、チップ14をピックアップする度に、オペレータがタッチパネル等を操作して、テープ15からピックアップするチップ14を選定しても良い。 In embodiment 1, the test apparatus 1 sequentially picks up the chips 14 to be measured one by one from each wafer unit 17. Note that in this specification, during the measurement operation, the operator may operate a touch panel or the like to select the chip 14 to be picked up from the tape 15 each time a chip 14 is picked up.

(ピックアップステップ)
図8は、図7に示された測定方法のピックアップステップにおいて、ウェーハユニットのテープの測定対象のチップの周囲を突き上げユニットのテープ保持部の上面に吸引保持した状態を模式的に示す断面図である。図9は、図7に示された測定方法のピックアップステップにおいて、測定対象のチップを突き上げユニットの突き上げ部で突き上げた状態を模式的に示す断面図である。図10は、図7に示された測定方法のピックアップステップにおいて、測定対象のチップを保持具の下面に吸引保持した状態を模式的に示す断面図である。
(Pickup step)
Fig. 8 is a cross-sectional view schematically showing a state in which the periphery of a chip to be measured on the tape of the wafer unit is held by suction on the upper surface of the tape holding part of the push-up unit in the pickup step of the measurement method shown in Fig. 7. Fig. 9 is a cross-sectional view schematically showing a state in which the chip to be measured is pushed up by the push-up part of the push-up unit in the pickup step of the measurement method shown in Fig. 7. Fig. 10 is a cross-sectional view schematically showing a state in which the chip to be measured is held by suction on the lower surface of the holder in the pickup step of the measurement method shown in Fig. 7.

ピックアップステップ1001は、ウェーハユニット17のテープ15から測定対象のチップ14をピックアップするステップである。ピックアップステップ1001では、試験装置1は、制御ユニット400が搬出入ユニット5を制御して測定対象のチップ14を含むウェーハユニット17をカセット4から搬出させて一対の仮置きレール6上に仮置きさせ、搬出入ユニット5を制御して、仮置きレール6上に仮置きされたウェーハユニット17の環状フレーム16をフレーム固定ユニット7の降下したフレーム支持部材22上に載置させる。 Pickup step 1001 is a step in which the chip 14 to be measured is picked up from the tape 15 of the wafer unit 17. In pick-up step 1001, the control unit 400 of the testing apparatus 1 controls the carry-in/out unit 5 to carry the wafer unit 17 containing the chip 14 to be measured out of the cassette 4 and temporarily place it on a pair of temporary placement rails 6, and controls the carry-in/out unit 5 to place the annular frame 16 of the wafer unit 17 temporarily placed on the temporary placement rails 6 on the lowered frame support member 22 of the frame fixing unit 7.

ピックアップステップ1001では、試験装置1は、制御ユニット400が、フレーム固定ユニット7を制御して、フレーム支持部材22を上昇させて、フレーム押さえ部材23とフレーム支持部材22との間に環状フレーム16即ちテープ15の測定対象のチップ14の周囲を挟み込んで、ウェーハユニット17をフレーム固定ユニット7で固定する。ピックアップステップ1001では、試験装置1は、制御ユニット400が、測定条件に基づいて移動機構30を制御してフレーム固定ユニット7を移動し、フレーム固定ユニット7で保持されたウェーハユニット17の次の測定対象のチップ14を突き上げユニット40の上方でかつ撮像カメラ50の下方に位置付ける。 In the pickup step 1001, the control unit 400 of the testing apparatus 1 controls the frame fixing unit 7 to raise the frame support member 22, sandwiching the periphery of the chip 14 to be measured on the annular frame 16, i.e., the tape 15, between the frame holding member 23 and the frame support member 22, and fixing the wafer unit 17 with the frame fixing unit 7. In the pickup step 1001, the control unit 400 of the testing apparatus 1 controls the movement mechanism 30 based on the measurement conditions to move the frame fixing unit 7, and positions the next chip 14 to be measured on the wafer unit 17 held by the frame fixing unit 7 above the push-up unit 40 and below the imaging camera 50.

ピックアップステップ1001では、試験装置1は、撮像カメラ50にウェーハユニット17の次の測定対象のチップ14の周囲を撮像させ、撮像カメラ50が取得した撮像画像を用いて、移動機構30を制御して測定対象のチップ14と突き上げユニット40との位置合わせを行なう。ピックアップステップ1001では、試験装置1は、制御ユニット400が突き上げユニット40を制御して、突き上げ部材42-1,42-2,42-3を下降させた状態で、突き上げユニット40全体を上昇させて、突き上げユニット40のテープ保持部41の上面48及び突き上げ部材42-1,42-2,42-3の上面をテープ15に接触させる。 In pickup step 1001, the test apparatus 1 causes the imaging camera 50 to capture an image of the area around the next chip 14 to be measured on the wafer unit 17, and uses the image captured by the imaging camera 50 to control the movement mechanism 30 to align the chip 14 to be measured with the push-up unit 40. In pickup step 1001, the test apparatus 1 causes the control unit 400 to control the push-up unit 40, lowering the push-up members 42-1, 42-2, and 42-3, and then raising the entire push-up unit 40, bringing the upper surface 48 of the tape holding portion 41 of the push-up unit 40 and the upper surfaces of the push-up members 42-1, 42-2, and 42-3 into contact with the tape 15.

また、実施形態1において、ピックアップステップ1001では、試験装置1は、制御ユニット400が保持具移動ユニット70を制御して、保持具63をピックアップ位置に位置づけて、保持具63を測定対象のチップ14とZ軸方向に沿って対面させる。ピックアップステップ1001では、試験装置1は、制御ユニット400が、図8に示すように、開閉弁46を開いて、突き上げユニット40のテープ保持部41の上面48にテープ15を吸引保持するとともに、突き上げユニット40の突き上げ部42でテープ15を介して測定対象のチップ14を支持する。 Furthermore, in embodiment 1, in the pickup step 1001, the control unit 400 of the test apparatus 1 controls the holder moving unit 70 to position the holder 63 at the pickup position and bring the holder 63 facing the chip 14 to be measured along the Z-axis direction. In the pickup step 1001, the control unit 400 of the test apparatus 1 opens the on-off valve 46, as shown in FIG. 8, to suction and hold the tape 15 on the upper surface 48 of the tape holding portion 41 of the push-up unit 40, and supports the chip 14 to be measured via the tape 15 at the push-up portion 42 of the push-up unit 40.

ピックアップステップ1001では、試験装置1は、制御ユニット400が、図9に示すように、突き上げユニット40を制御して突き上げ部材42-1,42-2,42-3を同時に同速度で上昇させる。ピックアップステップ1001では、試験装置1は、制御ユニット400が、突き上げユニット40を制御して、図9に示すように、突き上げ部材42-1,42-2,42-3のうち第1突き上げ部材42-1の上昇を最初に停止し、第1突き上げ部材42-1よりも上方の位置で第2突き上げ部材42-2の上昇を停止し、第2突き上げ部材42-2よりも上方の位置で第3突き上げ部材42-3の上昇を停止する。 In the pickup step 1001, the control unit 400 of the testing apparatus 1 controls the push-up unit 40 to raise the push-up members 42-1, 42-2, and 42-3 simultaneously at the same speed, as shown in FIG. 9. In the pickup step 1001, the control unit 400 of the testing apparatus 1 controls the push-up unit 40 to first stop the rise of the first push-up member 42-1 among the push-up members 42-1, 42-2, and 42-3, as shown in FIG. 9, then stops the rise of the second push-up member 42-2 at a position above the first push-up member 42-1, and stops the rise of the third push-up member 42-3 at a position above the second push-up member 42-2.

こうして、実施形態1において、ピックアップステップ1001では、試験装置1は、テープ15を介して測定対象のチップ14を突き上げ部材42-1,42-2,42-3で突き上げるとともに、外縁から内側に向かって順にテープ15から測定対象のチップ14を剥離する。ピックアップステップ1001では、図10に示すように、試験装置1は、制御ユニット400が保持具移動ユニット70を制御して、保持具63を下降させ、保持具63の下面65を測定対象のチップ14に当接させる。 Thus, in embodiment 1, in the pickup step 1001, the test apparatus 1 pushes up the chip 14 to be measured via the tape 15 using the push-up members 42-1, 42-2, and 42-3, and sequentially peels off the chip 14 to be measured from the tape 15, starting from the outer edge and working inward. In the pickup step 1001, as shown in FIG. 10, the control unit 400 of the test apparatus 1 controls the holder moving unit 70 to lower the holder 63 and bring the lower surface 65 of the holder 63 into contact with the chip 14 to be measured.

ピックアップステップ1001では、試験装置1は、制御ユニット400が開閉弁67を開いて、保持具63の下面65を吸引源68で吸引して、保持具63の下面65にチップ14を吸引保持する。ピックアップステップ1001では、試験装置1は、制御ユニット400が、保持具移動ユニット70を制御して、保持具63を上昇して、保持具63の下面65に吸引保持したチップ14をテープ15からピックアップして、テープ15上から搬出する。 In the pickup step 1001, the control unit 400 of the testing apparatus 1 opens the on-off valve 67, sucks the underside 65 of the holder 63 with the suction source 68, and holds the chip 14 by suction on the underside 65 of the holder 63. In the pickup step 1001, the control unit 400 of the testing apparatus 1 controls the holder movement unit 70 to raise the holder 63, pick up the chip 14 that was held by suction on the underside 65 of the holder 63 from the tape 15, and transport it off the tape 15.

(裏面撮像ステップ)
図11は、図7に示された測定方法の裏面撮像ステップにおいて、保持具に吸引保持したチップの裏面を下方撮像カメラに対面させた状態を模式的に示す斜視図である。図12は、図7に示された測定方法の裏面撮像ステップにおいて、チップを吸引保持した保持具を下降させた状態を模式的に示す斜視図である。裏面撮像ステップ1002は、測定対象のチップ14の裏面11-2を撮像して干渉稿を含んだ画像を取得するステップである。
(Backside imaging step)
Fig. 11 is a perspective view schematically showing a state in which the back surface of the chip held by suction in the holder is made to face the downward imaging camera in the back surface imaging step of the measurement method shown in Fig. 7. Fig. 12 is a perspective view schematically showing a state in which the holder holding the chip by suction is lowered in the back surface imaging step of the measurement method shown in Fig. 7. The back surface imaging step 1002 is a step in which the back surface 11-2 of the chip 14 to be measured is imaged to obtain an image including interference fringes.

裏面撮像ステップ1002では、試験装置1は、制御ユニット400が保持具移動ユニット70を制御して、保持具63を裏面撮像位置まで移動して、図11に示すように、保持具63を裏面撮像位置において下方撮像カメラ102のZ軸方向の上方に位置付けて、保持具63の下面65に吸引保持したチップ14を下方撮像カメラ102とZ軸方向に沿って対面させる。裏面撮像ステップ1002では、試験装置1は、制御ユニット400が昇降部64を制御して、図12に示すように、保持具63を下降させて、昇降部64を支持柱103に吸引保持させた後、下方撮像カメラ102にチップ14の裏面11-2を撮像させ、裏面11-2の干渉稿を含んだ画像を取得する。 In the backside imaging step 1002, the control unit 400 of the test apparatus 1 controls the holder moving unit 70 to move the holder 63 to the backside imaging position, and as shown in FIG. 11, positions the holder 63 above the lower imaging camera 102 in the Z-axis direction at the backside imaging position, so that the chip 14 held by suction on the lower surface 65 of the holder 63 faces the lower imaging camera 102 along the Z-axis. In the backside imaging step 1002, the control unit 400 of the test apparatus 1 controls the lifting unit 64 to lower the holder 63 as shown in FIG. 12, so that the lifting unit 64 is held by suction on the support column 103, and then causes the lower imaging camera 102 to image the lower surface 11-2 of the chip 14, thereby obtaining an image including an interference fringe of the lower surface 11-2.

(側面撮像ステップ)
図13は、図7に示された測定方法の側面撮像ステップにおいて、保持具に吸引保持された側面と側方撮像ユニットとを対面させた状態を模式的に示す側面図である。図14は、図7に示された測定方法の側面撮像ステップにおいて取得された撮像画像を模式的に示す図である。
(Side imaging step)
Fig. 13 is a side view schematically showing a state in which the side surface held by the holder and the lateral imaging unit face each other in the side imaging step of the measurement method shown in Fig. 7. Fig. 14 is a diagram schematically showing an image acquired in the side imaging step of the measurement method shown in Fig. 7.

側面撮像ステップ1003は、チップ破壊ステップ1006において圧子221がチップ14を破壊する前までに、チップ14の表面11-1の幅方向の中央に対応したチップ14の側面11-3の幅方向の中央11-4を含む領域を撮像し、撮像画像500を取得するステップである。なお、チップ14の表面11-1の幅方向と中央と、チップ14の側面11-3の幅方向の中央11-4とは、チップ14の厚み方向に重なって、互いに対応している。 The side imaging step 1003 is a step in which an image is taken of an area including the widthwise center 11-4 of the side surface 11-3 of the chip 14, which corresponds to the widthwise center of the surface 11-1 of the chip 14, before the indenter 221 destroys the chip 14 in the chip destruction step 1006, to obtain an image 500. The widthwise center of the surface 11-1 of the chip 14 and the widthwise center 11-4 of the side surface 11-3 of the chip 14 overlap in the thickness direction of the chip 14 and correspond to each other.

側面撮像ステップ1003では、試験装置1は、制御ユニット400が、保持具移動ユニット70及び撮像装置100等を制御して、保持具63を側面撮像位置に向かって移動する。側面撮像ステップ1003では、試験装置1は、制御ユニット400が、保持具移動ユニット70及び撮像装置100等を制御して、図13に示すように、保持具63の下面65に吸引保持したチップ14の各側面11-3の幅方向の中央11-4をX軸方向に沿って側面撮像カメラ121に順に対面させた後、側面撮像カメラ121に各側面11-3を撮像させて、図14に示す各側面11-3の中央11-4を含む撮像画像500を取得する。 In side-surface imaging step 1003, the control unit 400 of the test apparatus 1 controls the holder moving unit 70, the imaging device 100, etc. to move the holder 63 toward the side-surface imaging position. In side-surface imaging step 1003, the control unit 400 of the test apparatus 1 controls the holder moving unit 70, the imaging device 100, etc. to sequentially bring the widthwise centers 11-4 of each side surface 11-3 of the chip 14 held by suction on the lower surface 65 of the holder 63 toward the side-surface imaging camera 121 along the X-axis direction, as shown in FIG. 13, and then causes the side-surface imaging camera 121 to image each side surface 11-3, thereby obtaining an image 500 including the centers 11-4 of each side surface 11-3, as shown in FIG. 14.

なお、撮像画像500は、チップ14にチッピング501が形成されている場合、チッピング501を含む画像となっている。なお、図14は、チップ14のチッピング501を平行斜線で示し、チップ14のチッピング501以外を網掛けで示している。 Note that if chipping 501 is formed on the chip 14, the captured image 500 will be an image that includes the chipping 501. Note that in Figure 14, the chipping 501 on the chip 14 is indicated by hatching, and everything other than the chipping 501 on the chip 14 is indicated by shading.

実施形態1において、側面撮像ステップ1003は、チップ14の各側面11-3の中央11-4をX軸方向に沿って側面撮像カメラ121に順に対面させた後、側面撮像カメラ121に各側面11-3を撮像させる。こうして、実施形態1において、側面撮像ステップ1003は、側面撮像カメラ121にチップ14の各側面11-3を撮像させて、各側面11-3の中央11-4を含む撮像画像500を取得することで、チップ14の表面11-1の幅方向の中央に対応したチップ14の側面11-3の領域を撮像する。なお、実施形態1では、側面撮像ステップ1003では、チップ14の全ての側面11-3を撮像するが、本発明では、少なくともチップ14の前述した2側面11-3を撮像すれば良い。 In embodiment 1, the side image capturing step 1003 involves sequentially facing the center 11-4 of each side surface 11-3 of the chip 14 to the side image capturing camera 121 along the X-axis direction, and then having the side image capturing camera 121 capture an image of each side surface 11-3. Thus, in embodiment 1, the side image capturing step 1003 causes the side image capturing camera 121 to capture an image of each side surface 11-3 of the chip 14, thereby acquiring an image 500 including the center 11-4 of each side surface 11-3, thereby capturing an image of the region of the side surface 11-3 of the chip 14 that corresponds to the center in the width direction of the surface 11-1 of the chip 14. Note that in embodiment 1, the side image capturing step 1003 captures images of all side surfaces 11-3 of the chip 14, but in the present invention, it is sufficient to capture images of at least the aforementioned two side surfaces 11-3 of the chip 14.

(チッピング検出ステップ)
図15は、図7に示された測定方法のチッピング検出ステップにおいて、検出したチッピングを検出した撮像画像を模式的に示す図である。チッピング検出ステップ1004は、側面撮像ステップ1003を実施した後、チップ14の側面11-3を撮像した撮像画像500をもとにチップ14の裏面11-2側のチッピング501を検出するステップである。
(Chipping detection step)
Fig. 15 is a diagram schematically showing an image of a chipping detected in the chipping detection step of the measurement method shown in Fig. 7. Chipping detection step 1004 is a step of detecting chipping 501 on the back surface 11-2 side of chip 14 based on image 500 of side surface 11-3 of chip 14 after side surface imaging step 1003 is performed.

チッピング検出ステップ1004では、試験装置1は、制御ユニット400が、側面撮像カメラ121が各側面11-3を撮像して取得した撮像画像500から裏面11-2側のチッピング501を検出する。チッピング検出ステップ1004では、試験装置1は、制御ユニット400が、各撮像画像500の裏面11-2側のチッピング501の重心と撮像画像500の中央502との距離503を算出する。なお、距離503は、チップ14の裏面11-2側のチッピング501とチップ14の中央11-4との距離である。なお、図15は、図14と同様に、チップ14のチッピング501を平行斜線で示し、チップ14のチッピング501以外を網掛けで示している。 In chipping detection step 1004, the control unit 400 of the test device 1 detects chipping 501 on the back surface 11-2 side from the captured images 500 acquired by the side surface imaging camera 121 capturing images of each side surface 11-3. In chipping detection step 1004, the control unit 400 of the test device 1 calculates the distance 503 between the center of gravity of the chipping 501 on the back surface 11-2 side of each captured image 500 and the center 502 of the captured image 500. Note that distance 503 is the distance between the chipping 501 on the back surface 11-2 side of the chip 14 and the center 11-4 of the chip 14. Note that, as with FIG. 14, FIG. 15 shows the chipping 501 of the chip 14 with diagonal lines, and everything other than the chipping 501 of the chip 14 with shading.

(チップ載置ステップ)
図16は、図7に示された測定方法のチップ載置ステップを模式的に示す断面図である。チップ載置ステップ1005は、強度測定機構200の支持ユニット210の一対の支持部205上にチップ14の裏面11-2を載置し、支持部205でチップ14の裏面11-2を支持ステップである。チップ載置ステップ1005では、試験装置1は、制御ユニット400が、保持具移動ユニット70を制御して保持具63を測定位置まで移動させて、強度測定機構200の支持ユニット210の初期位置に位置付けられた一対の支持部205上にチップ14の裏面11-2を載置させる。
(Chip placing step)
7. Chip placing step 1005 is a step of placing back surface 11-2 of chip 14 on a pair of support portions 205 of support unit 210 of strength measurement mechanism 200, and supporting back surface 11-2 of chip 14 with support portions 205. In chip placing step 1005, control unit 400 of test apparatus 1 controls holder moving unit 70 to move holder 63 to the measurement position, and places back surface 11-2 of chip 14 on the pair of support portions 205 positioned in the initial position of support unit 210 of strength measurement mechanism 200.

(チップ破壊ステップ)
図17は、図7に示された測定方法のチップ破壊ステップにおいて、圧子に押圧されてチップの裏面が支持部の支持突起の上端に接触した状態を模式的に示す断面図である。図18は、図7に示された測定方法のチップ破壊ステップにおいて、チップが破壊された状態を模式的に示す断面図である。
(Chip destruction step)
Fig. 17 is a cross-sectional view schematically showing a state in which the back surface of the chip is pressed by an indenter and comes into contact with the upper end of the support protrusion of the support part in the chip breaking step of the measurement method shown in Fig. 7. Fig. 18 is a cross-sectional view schematically showing a state in which the chip is broken in the chip breaking step of the measurement method shown in Fig. 7.

チップ破壊ステップ1006は、圧子221を支持部205で支持されたチップ14に向かって近接移動させ圧子221でチップ14の表面11-1を押圧し破壊するとともに圧子221がチップ14を破壊した際の荷重を荷重計測器223で検出するステップである。チップ破壊ステップ1006では、試験装置1は、制御ユニット400が、強度測定機構200を制御して圧子移動ユニット222により圧子221を降下させて、圧子221の先端をチップ14の中央11-4の表面11-1側に接触させ、更に、図17に示すように、チップ14を圧子221により押圧する。また、チップ14の押圧によって圧子221にかかる荷重(Z軸方向の力)が、荷重計測器223によって計測され、計測結果が適宜制御ユニット400に出力される。 The chip breaking step 1006 is a step in which the indenter 221 is moved toward the chip 14 supported by the support portion 205, the indenter 221 presses against the surface 11-1 of the chip 14 to break it, and the load measuring device 223 detects the load when the indenter 221 breaks the chip 14. In the chip breaking step 1006, the control unit 400 of the testing device 1 controls the strength measurement mechanism 200 to lower the indenter 221 using the indenter movement unit 222, bringing the tip of the indenter 221 into contact with the surface 11-1 side of the center 11-4 of the chip 14, and then, as shown in FIG. 17, the indenter 221 presses against the chip 14. The load (force in the Z-axis direction) applied to the indenter 221 by the pressure of the chip 14 is measured by the load measuring device 223, and the measurement result is output to the control unit 400 as appropriate.

チップ破壊ステップ1006では、試験装置1は、制御ユニット400が、強度測定機構200を制御して、圧子221を更に降下させ、図18に示すように、チップ14を破壊して、荷重計測器223によって測定された荷重の最大値等に基づいて、チップ14の抗折強度の値を算出する。チップ破壊ステップ1006では、試験装置1は、制御ユニット400が、下方撮像カメラ102が撮像して取得した裏面11-2の干渉稿を含んだ画像と、側面撮像カメラ121が撮像して取得した各撮像画像500と、チッピング検出ステップ1004において検出した各撮像画像500の裏面11-2側のチッピング501の重心と中央11-4との距離503と、強度測定機構200が測定した抗折強度と、測定対象のチップ14のウェーハ10における位置とを対応付けて記憶する。 In the chip destruction step 1006, the control unit 400 of the testing apparatus 1 controls the strength measurement mechanism 200 to further lower the indenter 221, destroying the chip 14 as shown in FIG. 18, and calculates the value of the die strength of the chip 14 based on the maximum load measured by the load measuring instrument 223, etc. In the chip destruction step 1006, the control unit 400 of the testing apparatus 1 associates and stores the image including the interference fringe of the back surface 11-2 captured by the downward imaging camera 102, each captured image 500 captured by the side imaging camera 121, the distance 503 between the center of gravity of the chipping 501 on the back surface 11-2 side of each captured image 500 detected in the chipping detection step 1004 and the center 11-4, the die strength measured by the strength measurement mechanism 200, and the position of the chip 14 being measured on the wafer 10.

なお、圧子221によってチップ14を押圧すると、圧子221に異物(破壊される際に飛散したチップ14の破片141等)が付着することがある。この異物は抗折強度の測定の精度に影響を与えることがあるため、除去されることが好ましい。実施形態1では、強度測定機構200は、チップ破壊ステップ1006において、チップ14の破壊後に、図18に示すように開閉弁252を開いて、エアー供給ユニット250によって圧子221にエアーを吹き付け、圧子221に付着した異物を除去する。なお、本発明では、エアー供給ユニット250を用いて圧子221等から異物を除去するタイミングに制限はない。例えば、異物の除去は、一のチップ14の抗折強度の測定が完了した後、次のチップ14の抗折強度の測定が行われるまでの間に、必要に応じて実施される。 When the indenter 221 presses the chip 14, foreign matter (such as chip fragments 141 scattered during fracture) may adhere to the indenter 221. This foreign matter may affect the accuracy of the measurement of the flexural strength, so it is preferable to remove it. In embodiment 1, after the chip 14 is fractured in the chip fracture step 1006, the strength measurement mechanism 200 opens the on-off valve 252 as shown in FIG. 18 and blows air onto the indenter 221 using the air supply unit 250, thereby removing the foreign matter adhered to the indenter 221. Note that the present invention does not limit the timing of removing foreign matter from the indenter 221, etc., using the air supply unit 250. For example, foreign matter is removed as needed after the measurement of the flexural strength of one chip 14 is completed and before the measurement of the flexural strength of the next chip 14 is performed.

試験装置1は、ウェーハユニット17から測定条件に定められたチップ14を順にピックアップして、撮像装置100で撮像し、強度測定機構200で抗折強度を測定する。試験装置1は、ウェーハユニット17から測定条件に定められた全てのチップ14をピックアップし、撮像装置100で撮像し、抗折強度を測定すると、フレーム固定ユニット7で固定したウェーハユニット17をカセット4内に搬入して、測定動作を終了する。 The test device 1 sequentially picks up chips 14 specified in the measurement conditions from the wafer unit 17, captures images with the imaging device 100, and measures the flexural strength with the strength measurement mechanism 200. After picking up all chips 14 specified in the measurement conditions from the wafer unit 17, capturing images with the imaging device 100, and measuring the flexural strength, the test device 1 loads the wafer unit 17 fixed by the frame fixing unit 7 into the cassette 4, completing the measurement operation.

以上説明したように、実施形態1に係る測定方法は、チップ破壊ステップ1006において圧子221がチップ14を破壊する前までに、チップ14の表面11-1の幅方向の中央に対応したチップ14の側面11-3の幅方向の中央11-4を含む領域を撮像し、撮像画像500を取得する側面撮像ステップ1003を含んでいる。 As described above, the measurement method according to embodiment 1 includes a side imaging step 1003 in which an image including the widthwise center 11-4 of the side surface 11-3 of the chip 14, which corresponds to the widthwise center of the surface 11-1 of the chip 14, is captured before the indenter 221 destroys the chip 14 in the chip destruction step 1006, and an image 500 is obtained.

また、側面撮像カメラ121が撮像して得た撮像画像500の幅方向の中央502は、チップ14の幅方向の中央11-4に一致し、チップ14の表面11-1の幅方向の中央は、初期位置に位置した支持ユニット210の支持部205が支持したチップ14の強度測定機構200の圧子221が押圧する位置である。 Furthermore, the widthwise center 502 of the image 500 captured by the side-image capturing camera 121 coincides with the widthwise center 11-4 of the chip 14, and the widthwise center of the surface 11-1 of the chip 14 is the position pressed by the indenter 221 of the strength measuring mechanism 200 of the chip 14 supported by the support portion 205 of the support unit 210 positioned in the initial position.

その結果、実施形態1に係る測定方法は、側面撮像ステップ1003で取得した撮像画像500を記憶しておくことで、圧子221が押圧する位置と、チッピング501との相対的な位置関係を蓄積することができるという効果を奏する。 As a result, the measurement method according to embodiment 1 has the advantage of being able to store the captured image 500 acquired in the side image capturing step 1003, thereby storing the relative positional relationship between the position pressed by the indenter 221 and the chipping 501.

また、実施形態1に係る測定方法は、撮像画像500をもとにチップ14の裏面11-2側のチッピング501を検出するチッピング検出ステップ1004を備える。また、実施形態1に係る測定方法は、チッピング検出ステップ1004において、裏面11-2側の各チッピング501の重心と、撮像画像500の中央502との距離503、即ちチップ14の裏面11-2側のチッピング501とチップ14の中央11-4との距離を算出する。その結果、実施形態1に係る測定方法は、圧子221が押圧する位置と、裏面11-2側のチッピング501との距離503を蓄積することができるという効果を奏する。 The measurement method according to embodiment 1 also includes a chipping detection step 1004 that detects chippings 501 on the back surface 11-2 side of the chip 14 based on the captured image 500. In chipping detection step 1004, the measurement method according to embodiment 1 calculates the distance 503 between the center of gravity of each chipping 501 on the back surface 11-2 side and the center 502 of the captured image 500, i.e., the distance between the chipping 501 on the back surface 11-2 side of the chip 14 and the center 11-4 of the chip 14. As a result, the measurement method according to embodiment 1 has the effect of being able to accumulate the distance 503 between the position pressed by the indenter 221 and the chipping 501 on the back surface 11-2 side.

〔変形例〕
本発明の実施形態1の変形例に係る測定方法を図面に基づいて説明する。図19は、実施形態1の変形例に係る測定方法のチップ載置ステップを模式的に示す断面図である。図20は、実施形態1の変形例に係る測定方法のチップ破壊ステップにおいて、チップの側面の裏面側の最大チッピングを圧子の先端の下方に位置付けた状態を模式的に示す断面図である。なお、図19及び図20において、実施形態1と同一部分に同一符号を付して説明を省略する。
[Modification]
A measurement method according to a modified example of the first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. Fig. 19 is a cross-sectional view schematically showing a chip mounting step of the measurement method according to the modified example of the first embodiment. Fig. 20 is a cross-sectional view schematically showing a state in which the maximum chipping on the back surface of the side surface of the chip is positioned below the tip of the indenter in the chip breaking step of the measurement method according to the modified example of the first embodiment. In Figs. 19 and 20, the same parts as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and their description will be omitted.

変形例に係る測定方法は、チッピング検出ステップ1004、チップ載置ステップ1005、及びチップ破壊ステップ1006が異なること以外、実施形態1と同じである。変形例に係る測定方法のチッピング検出ステップ1004では、試験装置1は、制御ユニット400が側面11-3を撮像して取得した複数の撮像画像500の裏面11-2側のチッピング501のうち最大のチッピング501(以下、最大チッピングと記し、符号501-1で示す)を検出する。なお、変形例では、最大チッピング501-1は、複数の撮像画像500の面積が最大のチッピング501である。 The measurement method according to the modified example is the same as that according to the first embodiment, except for the differences in chipping detection step 1004, chip placement step 1005, and chip destruction step 1006. In chipping detection step 1004 of the measurement method according to the modified example, the test device 1 detects the largest chipping 501 (hereinafter referred to as the maximum chipping and designated by the reference symbol 501-1) among the chippings 501 on the back surface 11-2 side in the multiple captured images 500 acquired by the control unit 400 capturing images of the side surface 11-3. In the modified example, the maximum chipping 501-1 is the chipping 501 with the largest area in the multiple captured images 500.

変形例に係る測定方法のチップ載置ステップ1005では、試験装置1は、制御ユニット400が支持ユニット210の支持部移動機構219を制御して、一対の支持突起213の上端213-1間の中央上にチッピング検出ステップ1004で検出した最大チッピング501-1が位置するように一対の支持部205を初期位置から移動させる。変形例に係る測定方法のチップ載置ステップ1005では、試験装置1は、図19に示すように、制御ユニット400が保持具移動ユニット70及び撮像装置100のチップ支持台111等を制御して、最大チッピング501-1が形成された側面11-3が撮像装置100等とY軸方向に対面するようにチップ14の裏面11-2を一対の支持部205上に載置する。 In chip placement step 1005 of the measurement method according to the modified example, the control unit 400 of the test apparatus 1 controls the support portion movement mechanism 219 of the support unit 210 to move the pair of support portions 205 from their initial positions so that the largest chipping 501-1 detected in chipping detection step 1004 is located at the center between the upper ends 213-1 of the pair of support protrusions 213. In chip placement step 1005 of the measurement method according to the modified example, as shown in FIG. 19 , the control unit 400 of the test apparatus 1 controls the holder movement unit 70 and the chip support base 111 of the imaging device 100, etc., to place the back surface 11-2 of the chip 14 on the pair of support portions 205 so that the side surface 11-3 on which the largest chipping 501-1 is formed faces the imaging device 100, etc. in the Y-axis direction.

こうして、変形例に係る測定方法は、チップ載置ステップ1005において、最大チッピング501-1を一対の支持突起213の上端213-1間の中央上に位置させることで、チッピング検出ステップ1004を実施した後、圧子221がチップ14を破壊する前に、チッピング検出ステップ1004で検出された最大チッピング501-1に対応する位置を圧子221が押圧するようにチップ14を支持部205上に載置する。 In this way, in the measurement method according to the modified example, in the chip placement step 1005, the maximum chipping 501-1 is positioned above the center between the upper ends 213-1 of the pair of support protrusions 213. After the chipping detection step 1004 is performed, the chip 14 is placed on the support portion 205 so that the indenter 221 presses the position corresponding to the maximum chipping 501-1 detected in the chipping detection step 1004 before the indenter 221 destroys the chip 14.

変形例に係る測定方法のチップ破壊ステップ1006では、試験装置1は、制御ユニット400が支持ユニット210の支持部移動機構219を制御して、一対の支持部205を移動させて、図20に示すように、支持ユニット210の一対の支持部205を初期位置に位置付ける。すると、最大チッピング501-1が、圧子221の先端の下方に位置する。変形例に係る測定方法のチップ破壊ステップ1006では、試験装置1は、制御ユニット400が実施形態1と同様に強度測定機構200を制御して、チップ14を破壊し、チップ14の抗折強度を測定する。こうして、変形例に係る測定方法は、チップ破壊ステップ1006において、チップ14の表面11-1の最大チッピング501-1に対応する位置である最大チッピング501-1と厚み方向に重なる位置を圧子221で押圧して、チップ14を破壊する。 In chip breaking step 1006 of the measurement method according to the modified example, the control unit 400 of the test apparatus 1 controls the support portion moving mechanism 219 of the support unit 210 to move the pair of support portions 205 and position the pair of support portions 205 of the support unit 210 at their initial positions, as shown in FIG. 20 . The maximum chipping 501-1 is then positioned below the tip of the indenter 221. In chip breaking step 1006 of the measurement method according to the modified example, the control unit 400 of the test apparatus 1 controls the strength measurement mechanism 200 in the same manner as in embodiment 1 to break the chip 14 and measure the flexural strength of the chip 14. Thus, in chip breaking step 1006 of the measurement method according to the modified example, the indenter 221 presses against a position on the surface 11-1 of the chip 14 that corresponds to the maximum chipping 501-1 and overlaps with the maximum chipping 501-1 in the thickness direction, thereby breaking the chip 14.

変形例に係る測定方法は、チップ破壊ステップ1006において圧子221がチップ14を破壊する前までに、チップ14の表面11-1の幅方向の中央に対応したチップ14の側面11-3の幅方向の中央11-4を含む領域を撮像し、撮像画像500を取得する側面撮像ステップ1003を含んでいるので、実施形態1と同様に、側面撮像ステップ1003で取得した撮像画像500を記憶しておくことで、圧子221が押圧する位置と、チッピング501との相対的な位置関係を蓄積することができるという効果を奏する。 The measurement method according to the modified example includes a side imaging step 1003 in which an image of an area including the widthwise center 11-4 of the side surface 11-3 of the chip 14, which corresponds to the widthwise center of the surface 11-1 of the chip 14, is captured and an image 500 is acquired before the indenter 221 destroys the chip 14 in the chip destruction step 1006. Therefore, similar to the first embodiment, by storing the image 500 acquired in the side imaging step 1003, it is possible to accumulate the relative positional relationship between the position where the indenter 221 presses and the chipping 501.

また、変形例に係る測定方法は、チップ破壊ステップ1006において、チップ14の表面11-1の最大チッピング501-1に対応する位置である最大チッピング501-1と厚み方向に重なる位置を圧子221で押圧して、チップ14を破壊するので、チップ14の正確な抗折強度を測定することができる。 In addition, in the measurement method according to the modified example, in chip destruction step 1006, the indenter 221 is pressed against a position on the surface 11-1 of the chip 14 that corresponds to the maximum chipping 501-1 and overlaps with the maximum chipping 501-1 in the thickness direction, destroying the chip 14, thereby enabling accurate measurement of the flexural strength of the chip 14.

なお、本発明は、上記実施形態等に限定されるものではない。即ち、本発明の骨子を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。例えば、本発明では、チップ14の表面11-1を一対の支持部205に載置し、裏面11-2を圧子221で押圧して、チップ14を破壊して、チップ14の抗折強度を測定しても良い。この場合、表面11-1が下面に相当し、裏面11-2が上面に相当する。 The present invention is not limited to the above-described embodiments. In other words, various modifications can be made without departing from the gist of the present invention. For example, in the present invention, the front surface 11-1 of the chip 14 may be placed on a pair of supports 205, and the back surface 11-2 may be pressed with an indenter 221 to destroy the chip 14, thereby measuring the flexural strength of the chip 14. In this case, the front surface 11-1 corresponds to the lower surface, and the back surface 11-2 corresponds to the upper surface.

1 試験装置
10 ウェーハ
11-1 表面(上面、下面)
11-2 裏面(下面、上面)
11-3 側面
14 チップ
205 支持部
212 間隔
221 圧子
223 荷重計測器
500 撮像画像
501 チッピング
501-1 最大チッピング
1003 側面撮像ステップ
1004 チッピング検出ステップ
1005 チップ載置ステップ
1006 チップ破壊ステップ
X 一対の支持部が整列する方向
Z 圧子の伸長方向
1 Testing device 10 Wafer 11-1 Surface (upper surface, lower surface)
11-2 Back side (bottom side, top side)
11-3 Side surface 14 Tip 205 Support portion 212 Distance 221 Indenter 223 Load measuring instrument 500 Captured image 501 Chipping 501-1 Maximum chipping 1003 Side image capturing step 1004 Chipping detection step 1005 Tip placement step 1006 Tip breaking step X Direction in which a pair of support portions are aligned Z Direction of extension of indenter

Claims (4)

上面と下面と側面とを有したチップの強度を測定する測定方法であって、
所定の間隔を有して配設された一対の支持部上にチップを載置し該支持部でチップの該下面を支持するチップ載置ステップと、
該支持部上に載置されたチップより上方且つ一対の該支持部の間に配置された圧子を該支持部で支持されたチップに向かって近接移動させ該圧子でチップの該上面を押圧し破壊するとともに該圧子がチップを破壊した際の荷重を荷重計測器で検出するチップ破壊ステップと、
該圧子がチップを破壊する前までに、チップの該上面の該圧子が押圧する位置に対応したチップの該側面を撮像する側面撮像ステップと、
該側面撮像ステップを実施した後、チップの該側面を撮像した撮像画像をもとにチップの該下面側のチッピングを検出し、該チッピングと該チップの該圧子が押圧する位置との距離を算出するチッピング検出ステップと、を備えた測定方法。
A method for measuring the strength of a chip having an upper surface, a lower surface, and a side surface, comprising:
a chip placing step of placing the chip on a pair of support parts arranged at a predetermined interval and supporting the lower surface of the chip with the support parts;
a chip breaking step of moving an indenter disposed above the chip placed on the supports and between the pair of supports toward the chip supported by the supports, pressing the top surface of the chip with the indenter to break it, and detecting the load when the indenter breaks the chip with a load measuring device;
a side surface imaging step of imaging the side surface of the chip corresponding to the position where the indenter presses the top surface of the chip before the indenter breaks the chip;
A measurement method comprising: after the side imaging step, a chipping detection step of detecting chipping on the underside of the chip based on an image of the side of the chip , and calculating the distance between the chipping and the position on the chip where the indenter presses .
チップは、矩形状であり、
該圧子は、一対の該支持部が整列する方向と直交する方向に伸長するバー状であり、
該側面撮像ステップでは少なくとも該圧子の伸長方向に交差する互いに対面したチップの2側面を撮像する、請求項1に記載の測定方法。
The chip is rectangular,
the indenter is bar-shaped and extends in a direction perpendicular to the direction in which the pair of support portions are aligned,
The measuring method according to claim 1 , wherein the side surface imaging step images at least two side surfaces of the tip that face each other and intersect with the extension direction of the indenter.
上面と下面と側面とを有したチップの強度を測定する測定方法であって、
所定の間隔を有して配設された一対の支持部上にチップを載置し該支持部でチップの該下面を支持するチップ載置ステップと、
該支持部上に載置されたチップより上方且つ一対の該支持部の間に配置された圧子を該支持部で支持されたチップに向かって近接移動させ該圧子でチップの該上面を押圧し破壊するとともに該圧子がチップを破壊した際の荷重を荷重計測器で検出するチップ破壊ステップと、
該圧子がチップを破壊する前までに、チップの該上面の該圧子が押圧する位置に対応したチップの該側面を撮像する側面撮像ステップと、
該側面撮像ステップを実施した後、チップの該側面を撮像した撮像画像をもとにチップの該下面側のチッピングを検出するチッピング検出ステップと、を備え
該チッピング検出ステップを実施した後、該圧子がチップを破壊する前に、該チッピング検出ステップで検出された最大チッピングに対応する位置を該圧子が押圧するようにチップを該支持部上に載置し、
該チップ破壊ステップでは、該最大チッピングに対応する位置を該圧子で押圧する測定方法。
A method for measuring the strength of a chip having an upper surface, a lower surface, and a side surface, comprising:
a chip placing step of placing the chip on a pair of support parts arranged at a predetermined interval and supporting the lower surface of the chip with the support parts;
a chip breaking step of moving an indenter disposed above the chip placed on the supports and between the pair of supports toward the chip supported by the supports, pressing the top surface of the chip with the indenter to break it, and detecting the load when the indenter breaks the chip with a load measuring device;
a side surface imaging step of imaging the side surface of the chip corresponding to the position where the indenter presses the top surface of the chip before the indenter breaks the chip;
a chipping detection step of detecting chipping on the underside of the chip based on an image of the side surface of the chip after the side surface imaging step is performed ,
After the chipping detection step is performed, the chip is placed on the support so that the indenter presses a position corresponding to the maximum chipping detected in the chipping detection step before the indenter breaks the chip;
In the chip breaking step, the position corresponding to the maximum chipping is pressed with the indenter.
チップは、矩形状であり、
該圧子は、一対の該支持部が整列する方向と直交する方向に伸長するバー状であり、
該側面撮像ステップでは少なくとも該圧子の伸長方向に交差する互いに対面したチップの2側面を撮像する、請求項3に記載の測定方法。
The chip is rectangular,
the indenter is bar-shaped and extends in a direction perpendicular to the direction in which the pair of support portions are aligned,
The measuring method according to claim 3 , wherein the side surface imaging step images at least two side surfaces of the tip that face each other and intersect with the extension direction of the indenter.
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