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JPH07101709B2 - Capacity control device - Google Patents
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JPH07101709B2 - Capacity control device - Google Patents

Capacity control device

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JPH07101709B2
JPH07101709B2 JP62113612A JP11361287A JPH07101709B2 JP H07101709 B2 JPH07101709 B2 JP H07101709B2 JP 62113612 A JP62113612 A JP 62113612A JP 11361287 A JP11361287 A JP 11361287A JP H07101709 B2 JPH07101709 B2 JP H07101709B2
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JP
Japan
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capacitance
control device
switch circuit
transistor
channel transistors
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勉 徳田
博一 石田
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Mitsubishi Electric Corp
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Mitsubishi Electric Corp
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、スイッチ回路を構成するP,Nチャンネルト
ランジスタのソースまたはドレインに容量を接続し、こ
の容量を制御する容量制御装置に関するものである。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a capacitance control device for controlling capacitance by connecting capacitance to sources or drains of P and N channel transistors that form a switch circuit. .

〔従来の技術〕[Conventional technology]

第6図は従来の容量制御装置のマスクパターンを示す平
面図であり、図において、1はインバータ、2はPチャ
ンネルトランジスタ、3はNチャンネルトランジスタ、
4は容量、5は負電圧電源線(アルミニウム(Al)配
線)、6は正電圧電源線(Al)配線、7は入出力線、8
はゲート電極としてのゲート制御線(ポリシリコン)を
示し、ポリシリコン9とAl電極10とで構成した容量4が
接離する。
FIG. 6 is a plan view showing a mask pattern of a conventional capacitance control device, in which 1 is an inverter, 2 is a P-channel transistor, 3 is an N-channel transistor,
4 is capacity, 5 is negative voltage power supply line (aluminum (Al) wiring), 6 is positive voltage power supply line (Al) wiring, 7 is input / output line, 8
Indicates a gate control line (polysilicon) as a gate electrode, and the capacitor 4 constituted by the polysilicon 9 and the Al electrode 10 comes into contact with and separates from it.

11A,11Bはトランジスタ電極領域、12はN領域、13はP
領域を示し、負電圧電源線5と正電圧電源線6とに接続
されている。
11A and 11B are transistor electrode regions, 12 is an N region, and 13 is a P region.
The region is shown and is connected to the negative voltage power supply line 5 and the positive voltage power supply line 6.

14はポリシリコン8とAl配線(実線で示す配線),ポリ
シリコン9とAl配線5とのコンタクト部、15はトランジ
スタ電極領域11A,11BとAl配線とを接続するコンタクト
部、16,17,18,19はトランジスタ電極領域11Bのソース,
ドレインに対応するP,N電極を示す。
Reference numeral 14 is a contact portion between the polysilicon 8 and the Al wiring (wiring shown by a solid line), polysilicon 9 and the Al wiring 5, 15 is a contact portion connecting the transistor electrode regions 11A and 11B and the Al wiring, 16, 17, 18 , 19 is the source of the transistor electrode region 11B,
The P and N electrodes corresponding to the drain are shown.

第7図は第6図に示す容量制御装置のP,Nチャンネルト
ランジスタの部分を示す断面図である。
FIG. 7 is a sectional view showing a portion of the P and N channel transistors of the capacitance control device shown in FIG.

次に、動作について説明する。Next, the operation will be described.

Pチャンネルトランジスタ2とNチャンネルトランジス
タ3で構成したスイッチ回路に接続した容量4は、ゲー
ト制御線8の信号によって入出力線7に対して接離す
る。このとき、入出力線7から見た容量変化分は、容量
4に接続されるトランジスタ電極領域11BがN領域12あ
るいはP領域13に対して有するP,Nチャンネルトランジ
スタ2,3の寄生容量と、容量4とを加えた値となる。
The capacitance 4 connected to the switch circuit composed of the P-channel transistor 2 and the N-channel transistor 3 is brought into contact with or separated from the input / output line 7 by the signal of the gate control line 8. At this time, the capacitance change seen from the input / output line 7 is the parasitic capacitance of the P and N channel transistors 2 and 3 which the transistor electrode region 11B connected to the capacitance 4 has with respect to the N region 12 or P region 13, It becomes the value which added capacity 4 and.

また、スイッチ回路の導通時の抵抗値は、P,Nチャンネ
ルトランジスタ2,3のゲート幅に反比例関係にある。
Further, the resistance value of the switch circuit when conducting is inversely proportional to the gate widths of the P and N channel transistors 2 and 3.

なお、ゲート幅は第6図において、例えばトランジスタ
電極領域11Bを上下方向に横切る長さである。
The gate width is, for example, the length across the transistor electrode region 11B in the vertical direction in FIG.

そして、同様な発明として本出願人が先に提案した可変
容量制御装置(特願昭61−168742号)がある。
As a similar invention, there is a variable capacity control device (Japanese Patent Application No. 61-168742) previously proposed by the present applicant.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

従来の容量制御装置は以上のように構成されているの
で、スイッチ回路の寄生容量が大きく、微小な容量を設
定できなくなる。
Since the conventional capacitance control device is configured as described above, the parasitic capacitance of the switch circuit is large and it becomes impossible to set a minute capacitance.

また、スイッチ回路の寄生容量を小さくするためにP,N
チャンネルトランジスタ2,3のサイズを小さくすると、
スイッチ回路の導通時の抵抗値が大きくなるなどの問題
点があった。
In order to reduce the parasitic capacitance of the switch circuit, P, N
If you reduce the size of the channel transistors 2 and 3,
There has been a problem that the resistance value of the switch circuit when conducting is increased.

この発明は、上記のような問題点を解消するためになさ
れたもので、スイッチ回路の寄生容量を小さくできると
ともに、スイッチ回路の導通時の抵抗値が小さくできる
容量制御装置を得ることを目的とする。
The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to obtain a capacitance control device capable of reducing the parasitic capacitance of a switch circuit and reducing the resistance value when the switch circuit is conducting. To do.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

この発明に係る容量制御装置は、ソースとドレインとを
交互に配置し、ソースとドレインとの間に同一のゲート
電極を分岐させた複数のトランジスタ部分でP,Nチャン
ネルトランジスタを構成したものである。
In the capacitance control device according to the present invention, the source and the drain are alternately arranged, and the P and N channel transistors are configured by a plurality of transistor portions in which the same gate electrode is branched between the source and the drain. .

〔作用〕[Action]

この発明における容量制御装置は、ゲート電極の信号に
よって低抵抗のスイッチ回路により、微少容量を接離す
る。
The capacitance control device according to the present invention connects and separates the minute capacitance by the switch circuit having a low resistance according to the signal of the gate electrode.

〔実施例〕〔Example〕

以下、この発明の一実施例を図について説明する。 An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図において、第6図と同一部分には同一符号が付し
てあり、N領域12,P領域13のゲート制御線8に接続され
たP,N電極16,18が容量4に接続されるP,N電極17,19を挟
むように配置されている。
In FIG. 1, the same parts as those in FIG. 6 are designated by the same reference numerals, and the P and N electrodes 16 and 18 connected to the gate control line 8 of the N region 12 and P region 13 are connected to the capacitor 4. The P and N electrodes 17 and 19 are arranged so as to sandwich them.

第2図は第1図の等価回路であり、4Aは容量4と寄生容
量との合成容量を示す。
FIG. 2 is an equivalent circuit of FIG. 1, and 4A indicates a combined capacitance of the capacitance 4 and the parasitic capacitance.

次に、動作について説明する。Next, the operation will be described.

スイッチ回路を構成するP,Nチャンネルトランジスタ2,3
のP,N電極17,19は、両側にゲート電極を挟んでP,N電極1
6,18が配置されているので、両方向に対してトランジス
タ構造となる。すなわち、P,N電極17,19は2つのトラン
ジスタ部分のソースあるいはドレインを兼ね備えてお
り、両端のP,N電極16,18を接続すれば、P,Nチャンネル
トランジスタ2,3の駆動能力は倍増する。
P and N channel transistors 2 and 3 that form a switch circuit
The P and N electrodes 17 and 19 are P and N electrodes 1 with the gate electrode sandwiched on both sides.
Since 6 and 18 are arranged, a transistor structure is formed in both directions. That is, the P and N electrodes 17 and 19 also serve as the sources or drains of the two transistor portions, and if the P and N electrodes 16 and 18 at both ends are connected, the drive capability of the P and N channel transistors 2 and 3 is doubled. To do.

この発明の容量制御装置において、従来のスイッチ回路
に対して導通抵抗を半分にするときは、ゲート電極の幅
を従来と同じ幅とすればよく、P,N電極17,19の寄生容量
は変わらない。また、スイツチ回路の導通抵抗を同一に
するときは、ゲート電極の幅を半分とすればよく、寄生
容量も約半分になる。
In the capacitance control device of the present invention, when the conduction resistance is halved with respect to the conventional switch circuit, the width of the gate electrode may be the same as the conventional width, and the parasitic capacitances of the P, N electrodes 17, 19 are different. Absent. Further, when the switch circuits have the same conduction resistance, the width of the gate electrode may be halved, and the parasitic capacitance is halved.

したがって、スイッチ回路の導通抵抗および寄生容量を
小さくすることができ、スイッチ回路で制御する微少容
量の設定が容易になる。
Therefore, the conduction resistance and parasitic capacitance of the switch circuit can be reduced, and the setting of the minute capacitance controlled by the switch circuit becomes easy.

なお、上記実施例では、容量4に接続されるP,N電極17,
19を2つのトランジスタ部分で共有させたが、第3図に
示すように、P,N電極17,19をゲート制御線8に接続して
共有させてもよい。この場合は、ゲート制御線8に浮遊
する寄生容量を小さくできる効果を奏する。
In the above embodiment, the P, N electrodes 17, which are connected to the capacitor 4,
Although 19 is shared by the two transistor portions, the P and N electrodes 17 and 19 may be connected to the gate control line 8 and shared as shown in FIG. In this case, the parasitic capacitance floating in the gate control line 8 can be reduced.

また、第4図(第5図に等価回路を示す。)に示すよう
に、容量4をソースとドレインとの間に接続すれば、ス
イッチ回路がオンのときはソース,ドレインがP,N領域1
2,13に対して有する寄生容量20が接続され、スイッチ回
路がオフのときは各容量4,20が直列に接続され、寄生容
量20よりも微少な容量の制御ができるという効果を奏す
る。
Further, as shown in FIG. 4 (an equivalent circuit is shown in FIG. 5), if the capacitor 4 is connected between the source and the drain, when the switch circuit is on, the source and drain have P and N regions. 1
The parasitic capacitance 20 included in the capacitors 2 and 13 is connected, and when the switch circuit is off, the capacitors 4 and 20 are connected in series, and an effect that a capacitance smaller than the parasitic capacitance 20 can be controlled is achieved.

さらに、P,Nチャンネルトランジスタ2,3をそれぞれ2つ
のトランジスタ部分で構成したが、3つ以上のトランジ
スタ部分で構成しても同様な効果が得られる。
Further, although the P and N channel transistors 2 and 3 are each composed of two transistor portions, the same effect can be obtained even if they are composed of three or more transistor portions.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上のように、この発明によれば、微少容量接続側のス
イッチ回路の寄生容量P,Nチャンネルトランジスタで囲
む構成としたので、寄生容量を小さくできるとともに、
スイッチ回路に並列に容量を接続することによって微少
容量接続側の容量に比べて小さい容量を制御することが
できるという効果がある。
As described above, according to the present invention, since the parasitic capacitance P of the switch circuit on the side of the minute capacitance connection is surrounded by the N-channel transistor, the parasitic capacitance can be reduced, and
By connecting the capacitors in parallel to the switch circuit, it is possible to control a smaller capacity than the capacity on the minute capacity connection side.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図はこの発明の一実施例による容量制御装置のマス
クパターン図、第2図は第1図に示す容量制御装置の等
価回路図、第3図,第4図はこの発明の他の実施例を示
す容量制御装置のマスクパターン図、第5図は第4図に
示す容量制御装置の等価回路図、第6図は従来の容量制
御装置のマスクパターン図、第7図は第6図に示す容量
制御装置のP,Nチャンネルトランジスタの部分を示す断
面図である。 図において、1はインバータ、2はPチャンネルトラン
ジスタ、3はNチャンネルトランジスタ、4は容量、4A
は合成容量、5は負電圧電源線、6は正電圧電源線、7
は入出力線、8はゲート制御線、9はポリシリコン、10
はアルミニウム電極、11A,11Bはトランジスタ電極領
域、12はN領域、13はP領域、14,15はコンタクト部、1
6,17,18,19はP,N電極、20は寄生容量を示し、実線の配
線はアルミニウム配線を示す。 なお、図中、同一符号は同一、または相当部分を示す。
1 is a mask pattern diagram of a capacity control device according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an equivalent circuit diagram of the capacity control device shown in FIG. 1, and FIGS. 3 and 4 are other embodiments of the present invention. FIG. 5 is a mask pattern diagram of a capacity control device showing an example, FIG. 5 is an equivalent circuit diagram of the capacity control device shown in FIG. 4, FIG. 6 is a mask pattern diagram of a conventional capacity control device, and FIG. 7 is FIG. FIG. 6 is a cross-sectional view showing a portion of P and N channel transistors of the capacitance control device shown. In the figure, 1 is an inverter, 2 is a P-channel transistor, 3 is an N-channel transistor, 4 is a capacitor, and 4A.
Is a composite capacity, 5 is a negative voltage power supply line, 6 is a positive voltage power supply line, 7
Is an input / output line, 8 is a gate control line, 9 is polysilicon, 10
Is an aluminum electrode, 11A and 11B are transistor electrode regions, 12 is an N region, 13 is a P region, 14 and 15 are contact portions, 1
Reference numerals 6, 17, 18, 19 indicate P and N electrodes, 20 indicates parasitic capacitance, and solid lines indicate aluminum lines. In the drawings, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 27/088 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI technical display location H01L 27/088

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】スイッチ回路を構成するPチャンネルトラ
ンジスタ,Nチャンネルトランジスタのソース,ドレイン
を接続し、前記ソースまたは前記ドレインに前記スイッ
チ回路の寄生容量を含む容量を接続した構成の容量制御
装置において、前記ソースと前記ドレインとを交互に配
置し、前記ソースと前記ドレインとの間に同一のゲート
電極を分岐させた複数のトランジスタ部分で前記P,Nチ
ャンネルトランジスタを構成する共に、前記容量を前記
ソースと前記ドレインとの間に接続したことを特徴とす
る容量制御装置。
1. A capacitance control device having a configuration in which the sources and drains of P-channel transistors and N-channel transistors that form a switch circuit are connected, and a capacitance including a parasitic capacitance of the switch circuit is connected to the source or the drain, The sources and the drains are alternately arranged, and the P and N channel transistors are formed by a plurality of transistor portions in which the same gate electrode is branched between the sources and the drains, and the capacitance is the source. And a capacitance control device connected between the drain and the drain.
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