「PRODUCTION TARGET」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

SPUTTERING TARGET MATERIAL, MAGNETIC RECORDING MEDIUM AND PRODUCTION METHOD OF SPUTTERING TARGET MATERIAL例文帳に追加

スパッタターゲット材料、磁気記録媒体及びスパッタターゲット材料の製造方法 - 特許庁

PRODUCTION METHOD FOR HIGH-PURITY RUTHENIUM SPUTTERING TARGET, AND TARGET OBTAINED THEREBY例文帳に追加

高純度ルテニウムスパッタリングターゲットの製造方法及びそれにより得られたターゲット - 特許庁

TARGET OF RADIOISOTOPE PRODUCTION APPARATUS AND RADIOISOTOPE PRODUCTION APPARATUS例文帳に追加

放射性同位元素製造装置のターゲットおよび放射性同位元素製造装置 - 特許庁

To make a production plan which satisfies both due date and production target.例文帳に追加

納期と生産目標との両方を満足させる生産計画を立案する。 - 特許庁

SPUTTERING TARGET AND PRODUCTION OF OPTICAL RECORDING MEDIUM例文帳に追加

スパッタリングターゲットおよび光記録媒体の製造方法 - 特許庁

ZINC OXIDE CYLINDRICAL TARGET AND PROCESS FOR PRODUCTION THEREOF例文帳に追加

酸化亜鉛系円筒ターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

SINTERED BODY, SPUTTERING TARGET AND ITS PRODUCTION例文帳に追加

焼結体及びスパッタリングターゲット並びにその製造方法 - 特許庁

HIGH CONCENTRATION TIN OXIDE ITO TARGET, AND PRODUCTION METHOD THEREFOR例文帳に追加

高濃度酸化スズＩＴＯターゲットとその製造方法 - 特許庁

PRODUCTION OF SPUTTERING TARGET CONTAINING ZINC OXIDE例文帳に追加

酸化亜鉛を含有するスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁

Co-Pt-B BASE TARGET AND ITS PRODUCTION例文帳に追加

Ｃｏ−Ｐｔ−Ｂ系ターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

PALLADIUM ALLOY SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR PRODUCTION THEREOF例文帳に追加

Ｐｄ合金系スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

MULTIDIVIDED ITO SPUTTERING TARGET AND ITS PRODUCTION例文帳に追加

多分割ＩＴＯスパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

HIGH PURITY IRIDIUM SPUTTERING TARGET AND PRODUCTION METHOD THEREFOR例文帳に追加

高純度イリジウムスパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR CALCULATING PRODUCTION TARGET VALUE例文帳に追加

生産目標値の算出方法および算出装置 - 特許庁

PRODUCTION OF HIGHLY PURE RUTHENIUM SPUTTERING TARGET AND HIGHLY PURE RUTHENIUM SPUTTERING TARGET例文帳に追加

高純度ルテニウムスパッタリングターゲットの製造方法及び高純度ルテニウムスパッタリングターゲット - 特許庁

SINTERING FURNACE FOR SPUTTERING TARGET AND PRODUCTION OF ITO SPUTTERING TARGET USING THE SAME例文帳に追加

スパッタリングタ—ゲット用焼結炉およびそれを用いたＩＴＯスパッタリングタ—ゲットの製造方法 - 特許庁

PRECIPITATE FOR SPUTTERING TARGET, SINTERED COMPACT, TARGET, PROTECTIVE FILM AND THEIR PRODUCTION METHODS例文帳に追加

スパッタリングターゲット用沈殿物、焼結体、ターゲットおよび保護膜並びにそれらの製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET FOR FORMING MAGNETIC LAYER HAVING REDUCED PRODUCTION OF PARTICLE例文帳に追加

パーティクル発生の少ない磁性層形成用スパッタリングターゲット - 特許庁

PRODUCTION OF SPUTTERING TARGET FOR FORMING OPTICAL DISK PROTECTIVE FILM例文帳に追加

光ディスク保護膜形成用スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁

PRODUCTION OF LOW OXYGEN HIGH DENSITY Cu/Cr SPUTTERING TARGET例文帳に追加

低酸素高密度Ｃｕ／Ｃｒスパッタ・ターゲットの製造方法 - 特許庁

Ta TARGET FOR FILM-FORMING BARRIER MATERIAL AND ITS PRODUCTION例文帳に追加

バリア材成膜用Ｔａ系ターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

INDIUM-GERMANIUM VAPOR DEPOSITING TARGET AND ITS PRODUCTION例文帳に追加

インジウム−ゲルマニウム系蒸着ターゲット及びその製造方法 - 特許庁

COBALT-NICKEL ALLOY SPUTTERING TARGET AND ITS PRODUCTION例文帳に追加

Ｃｏ−Ｎｉ合金スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

COPPER-GALLIUM ALLOY SPUTTERING TARGET AND ITS PRODUCTION例文帳に追加

Ｃｕ−Ｇａ合金スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

ZnS-SiO2 TARGET MATERIAL AND ITS PRODUCTION METHOD例文帳に追加

ＺｎＳ−ＳｉＯ２系ターゲット材およびその製造方法 - 特許庁

TI-AL ALLOY SPUTTERING TARGET AND ITS PRODUCTION例文帳に追加

Ｔｉ−Ａｌ合金スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

TIN OXIDE POWDER FOR ITO SPUTTERING TARGET, PRODUCTION METHOD OF THE POWDER, SINTERED BODY SPUTTERING TARGET FOR ITO FILM FORMATION AND PRODUCTION METHOD OF THE TARGET例文帳に追加

ＩＴＯスパッタリングターゲット用酸化錫粉末、同粉末の製造方法、ＩＴＯ膜形成用焼結体スパッタリングターゲット及び同ターゲットの製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, AND PRODUCTION METHOD AND REGENERATION METHOD THEREFOR例文帳に追加

スパッタリング用ターゲット、並びに、その製造方法及び再生方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET FOR FORMING MAGNETIC RECORDING FILM, AND ITS PRODUCTION METHOD例文帳に追加

磁気記録膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

PRODUCTION OF TARGET MATERIAL FOR Ge-Sb-Te SYSTEM SPUTTERING例文帳に追加

Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系スパッタリング用ターゲット材の製造方法 - 特許庁

TRANSPARENT INSULATION FILM AND PRODUCTION METHOD THEREOF, AND SPUTTERING TARGET例文帳に追加

透明絶縁膜及びその製造方法、並びにスパッタリングターゲット - 特許庁

HIGH PURITY TITANIUM SHEET FOR TITANIUM TARGET MATERIAL AND ITS PRODUCTION例文帳に追加

チタンターゲット材用高純度チタン板およびその製造方法 - 特許庁

Ge-Bi ALLOY TARGET FOR SPUTTERING AND PRODUCTION METHOD THEREOF例文帳に追加

スパッタリング用Ｇｅ−Ｂｉ合金ターゲット及びその製造方法 - 特許庁

Co-Ta ALLOY SPUTTERING TARGET AND ITS PRODUCTION例文帳に追加

Ｃｏ−Ｔａ系合金スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

PRODUCTION OF ITO SPUTTERING TARGET AND TRANSPARENT ELECTRICALLY CONDUCTIVE FILM例文帳に追加

ＩＴＯスパッタリングターゲットおよび透明導電膜の製造方法 - 特許庁

OXIDE SUPERCONDUCTOR SINGLE CRYSTAL GRAIN AGGREGATE, TARGET MATERIAL AND PRODUCTION PROCESS OF THE SAME TARGET MATERIAL例文帳に追加

酸化物超電導体単結晶粒子の集合体およびターゲット材並びにその製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, ITS PRODUCTION METHOD, ORGANIC PIGMENT-DISPERSED TYPE THIN FILM AND ITS PRODUCTION METHOD例文帳に追加

スパッタリングターゲット及びその製造方法、有機顔料分散型薄膜及びその製造方法 - 特許庁

HIGH PURITY NICKEL OR NICKEL ALLOY TARGET AND PRODUCTION METHOD THEREFOR例文帳に追加

高純度ニッケル又はニッケル合金ターゲット及びその製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET FOR FORMING OPTICAL RECORDING PROTECTIVE FILM AND ITS PRODUCTION例文帳に追加

光記録保護膜形成用スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

HIGH PURITY IRON, ITS PRODUCTION METHOD AND HIGH PURITY IRON TARGET例文帳に追加

高純度鉄およびその製造方法ならびに高純度鉄ターゲット - 特許庁

SPUTTERING TARGET FOR DEPOSITING FILM HAVING HIGH REFRACTIVE INDEX, AND ITS PRODUCTION METHOD例文帳に追加

高屈折率膜形成用のスパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCTION OF POWDER MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING TARGET MATERIAL例文帳に追加

粉末原料の製造方法およびターゲット材の製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET MATERIAL COMPOSED OF COBALT ALLOY AND ITS PRODUCTION例文帳に追加

コバルト合金よりなるスパッタリングタ—ゲット材料及びその製造方法 - 特許庁

The production control system for the sputtering target which uses a computer network is structured between the target maker and target user and various information regarding production control such as history information on a backing plate, production information on the sputtering target, and use information on the sputtering target is shared.例文帳に追加

ターゲットメーカとターゲットユーザとの間でコンピュータネットワークを利用したスパッタリングターゲットの生産管理システムを構築し、バッキングプレートの履歴情報、スパッタリングターゲットの生産情報、スパッタリングターゲットの使用情報等の生産管理に関する種々の情報を共有するようにした。 - 特許庁

RUTHENIUM SPUTTERING TARGET, RUTHENIUM RAW MATERIAL POWDER FOR PRODUCING THE TARGET AND PRODUCTION THEREOF例文帳に追加

Ｒｕスパッタリングターゲット、並びにこのターゲットを製造するためのＲｕ原料粉末およびその製造方法 - 特許庁