「PRODUCTION TARGET」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an indium target capable of favorably suppressing the occurrence of abnormal discharge, and to provide a method for production thereof.例文帳に追加

異常放電の発生を良好に抑制することの可能なインジウムターゲット及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

ACTIVATED INCLUSION BODY AND ITS PRODUCTION METHOD, ISOLATED GENE, EXPRESSION VECTOR, AND METHOD FOR PRODUCING TARGET PROTEIN例文帳に追加

活性型封入体及びその製造方法、単離された遺伝子、発現ベクター、並びに、目的タンパク質の製造方法 - 特許庁

BLACK MATRIX THIN FILM, MULTILAYERED BLACK MATRIX, COLOR FILTER SUBSTRATE, TARGET FOR FORMATION OF BLACK MATRIX THIN FILM AND PRODUCTION OF SUBSTRATE例文帳に追加

ブラックマトリックス薄膜、多層ブラックマトリックス、カラ—フィルタ基板、ブラックマトリックス薄膜形成用タ—ゲットおよび基板の製造方法 - 特許庁

To increase a production yield of a target product by segregating a cell from a culturing liquid with a very simple structure.例文帳に追加

非常に簡便な構成によって培養液から細胞を分離して目的生産物の生産収率を向上する。 - 特許庁

PRODUCTION METHOD OF LIGHT ABSORPTION LAYER FOR COMPOUND SEMICONDUCTOR THIN FILM SOLAR CELL, AND In-Cu ALLOY SPUTTERING TARGET例文帳に追加

化合物半導体薄膜太陽電池用光吸収層の製造方法、およびＩｎ−Ｃｕ合金スパッタリングターゲット - 特許庁

To provide a method for obtaining a sputtering target containing indium oxide at high production efficiency while maintaining high density.例文帳に追加

酸化インジウムを含有するスパッタリングターゲットを、高い密度を維持して、かつ、高い生産効率で得る方法を提供する。 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering method with the use of a rectangular target, which has enhanced sputtering treatment efficiency and production efficiency.例文帳に追加

短冊形ターゲットを用いるマグネトロンスパッタ法においてスパッタ処理効率ないし生産効率の向上を実現する。 - 特許庁

To provide a Pd alloy sputtering target having a low content of impurities such as oxygen and to provide a method for the production thereof.例文帳に追加

酸素等の不純物の量の少ないＰｄ合金系スパッタリングターゲット及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a production process which enables production of a high- performance, high-density, metal oxide sintered compact target without causing any variation in composition within the produced target, and with a remarkably lower sintering temperature than that used in a conventional similar process, by using a starting material that is homogeneous at a molecular level.例文帳に追加

分子レベルで均一な出発原料を用いることにより、組成ズレがなく、しかも従来法よりも格段に低い焼結温度で高性能の高密度金属酸化物焼結体ターゲットを得ることのできる製法を提供すること。 - 特許庁

To provide a sintered target on which a deposited film having sedimented on a non-erosion part resists exfoliating from the target surface even in a continuous sputtering process in mass production, and a nodule and arcing resist occurring.例文帳に追加

量産時の連続スパッタリング工程においても、非エロージョン部に堆積した付着膜がターゲット表面から剥がれにくく、ノジュールやアーキングの生じにくい焼結体ターゲットの提供。 - 特許庁

To provide a method for producing a transparent electroconductive film, which does not blacken the surface of a target, can stably provide a film of low resistance, and shows a high efficiency in the use of the target, and to provide a production apparatus therefor.例文帳に追加

ターゲット表面の黒化がなく、安定して低抵抗の膜が得られ、かつターゲットの使用効率の高い透明導電膜の製造方法及び製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a sintering method with which the production yield and the producing efficiency can be improved by efficiently restraining the warp developed when sintering material target, especially ceramics target is sintered.例文帳に追加

焼結体ターゲット、特にセラミックスターゲットの焼結に際して発生する反りを効果的に抑制することができ、製造歩留りと生産効率を向上できる焼結方法を提供する。 - 特許庁

To provide production number control technology, dispensing with reproduction or confirmation of a discharge amount after production completion of a work by readily and accurately taking into consideration the discharge amount of the work, in a short time, in a series of production processes, allowing accordance between a target production number and an actual production number at all times, and allowing simultaneous satisfaction of improvement of production efficiency and reduction in the production cost of the work.例文帳に追加

一連の生産工程においてワークの排出分を短時間で簡単に且つ正確に考慮することで、ワークの生産完了後での排出分の確認や再生産を不要とし、常に目標生産数と実生産数とを一致させることが可能であると共に、ワークの生産コストの低減と生産効率の向上を同時に満足させることが可能な生産数制御技術を提供する。 - 特許庁

Therefore, a process designing and production planning system and a process designing and production planning device equalize the loads on the processing machines, and create a process design and a production plan that meet the delivery schedule that the customer requests and attain the target production quantity.例文帳に追加

上記手段により、本発明の工程設計・生産計画システム、並びに工程設計・生産計画装置では、加工機の負荷を平準化し、顧客の要求する納期の順守や目標生産量の達成を実現する工程設計・生産計画を作成することができる。 - 特許庁

Even when the collection apparatus or the kind of the target production information is changed, all that is required is to change content of the production information attribute definition table or to add a collection function.例文帳に追加

収集機器や対象となる製造情報の種類が変更となった場合でも製造情報属性定義テーブルの内容変更や収集機能の追加だけで対応が可能。 - 特許庁

Namely, an individual target production amount for a combinational balance 30, whose operation is interrupted, is set smaller than a primary individual target produced amount, and an individual target produced amount of a combinational balance 30, whose operation is continued is set larger than the primary individual target production amount, based on the operation interruption of the first combination balance 30X or the second combination balance 30Y.例文帳に追加

すなわち、第１組合せ秤３０Ｘまたは第２組合せ秤３０Ｙの運転が中断されたことに基づいて、運転が中断された組合せ秤３０の個別目標生産量を当初の個別目標生産量よりも小さくし、運転が継続されている組合せ秤３０の個別目標生産量を当初の個別目標生産量よりも大きくする。 - 特許庁

The operation support image production section reads out the scenario, and produces an operation support image based on the input target and the input method.例文帳に追加

操作支援画像生成部は、シナリオを読み出し、入力対象及び入力方法に基づく操作支援画像を生成する。 - 特許庁

CoPt SPUTTERING TARGET, ITS PRODUCTION, MAGNETIC RECORDING FILM AND CoPt MAGNETIC RECORDING MEDIUM例文帳に追加

ＣｏＰｔ系スパッタリングターゲットおよびその製造方法ならびにこれを用いた磁気記録膜およびＣｏＰｔ系磁気記録媒体 - 特許庁

To provide a laminated structure in which the contamination of an indium target by impurities is favorably suppressed, and to provide a method for production thereof.例文帳に追加

インジウムターゲットへの不純物の混入が良好に抑制された積層構造体及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering apparatus which detects any abnormal sputtering of a metal other than a target material, and prevents a large volume of defective production.例文帳に追加

ターゲット材以外の金属の異常スパッタリングを検出し、大量の不良生産を防止するスパッタ装置を提供する。 - 特許庁

To visually and clearly present a difference between the target impression of design production and an impression received by a user from an actual design.例文帳に追加

デザイン制作の目標とした印象と実際のデザインからユーザが受けた印象との差異を視覚的に明確に呈示する。 - 特許庁

To provide a method for producing an MoNb based sputtering target material where production of splashes upon sputtering film deposition is remarkably reduced.例文帳に追加

スパッタリング成膜時のスプラッシュの発生を格段に低減させるＭｏＮｂ系スパッタリングターゲット材の製造方法を提供する。 - 特許庁

PRODUCTION OF HIGH-DENSITY ITO SINTERED COMPACT AND THE RESULTANT SINTERED COMPACT, AND ITO SPUTTER TARGET USING THE SAME例文帳に追加

高密度ＩＴＯ焼結体の製造方法及び高密度ＩＴＯ焼結体、並びにそれを用いたＩＴＯスパッタターゲット - 特許庁

SPUTTERING TARGET AND ITS PRODUCTION METHOD, REFLECTOR FOR LCD, REFLECTION WIRING ELECTRODE, AND THIN FILM AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

スパッタリングターゲット及びその製造方法、反射型ＬＣＤ用反射板、反射配線電極、薄膜及びその製造方法 - 特許庁

To provide a new peptide that can efficiently induce the production of an antibody upon conducting immunization with a target antigen.例文帳に追加

標的となる抗原で免疫したときに効率的に抗体産生を惹起させることができる新規ペプチド類の提供。 - 特許庁

To obtain a semiconductor production apparatus, capable of rapidly and accurately changing a control amount to a target value, speedily forcing the control amount to follow the target value, and improving production efficiency by automatically adjusting the process.例文帳に追加

制御量を迅速且つ正確に目標値へ変化させることができて、速やかに制御量を目標値に追従させることができ、しかもそれらの調整を自動で行うことができ、プロセスの生産効率を向上させることができる半導体製造装置を得る。 - 特許庁

To provide a Ti-Al-based alloy target with which droplets composed of target components are hard to be formed on a thin film formed by arc ion plating or the like, and to provide its production method by a powder metallurgical process.例文帳に追加

アークイオンプレーティング等により形成した薄膜にターゲット成分からなるドロップレットが形成しにくいＴｉ−Ａｌ系合金ターゲット及びその粉末冶金法による製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a system capable of managing an actual quantity and a target quantity of each of production machines in a unified manner and also presenting the actual quantity and the target quantity and the like of an own machine to an operator.例文帳に追加

各生産機の実績数量や目標数量を一元管理できると共に，オペレータに対して自機の実績数量や目標数量などを提示することのできるシステムを提供する。 - 特許庁

The effective critical area value therefor, defect density in the production line of the target product, and a specified yield model are used to calculate yield of the target product.例文帳に追加

前記対象製品の回路要素別の実効クリティカルエリア値と、前記対象製品の製造ラインにおける欠陥密度と、所定の歩留まりモデルとを用いて、前記対象製品の歩留まりを算出する。 - 特許庁

To provide a plasma sterilizer continuing the production of plasma regardless of the presence of the arrangement of a sterilization target and having high-degree sterilization capacity deactivating the toxicity of the sterilization target.例文帳に追加

滅菌対象物の配置の有無に関わらずプラズマ発生を継続することができ、滅菌対象物の毒性を不活化する高度な滅菌能力を有するプラズマ滅菌装置の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a laminated structure in which an indium target adheres favorably to a backing plate, and inclusion of unnecessary impurities in the indium target is properly inhibited, and to provide a method for production thereof.例文帳に追加

インジウムターゲットとバッキングプレートとが良好に密着し、インジウムターゲット内における不要な不純物の含有が良好に抑制された積層構造体及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a production method which controls generating of a by-product and can synthesize a target silafluorene derivative in a simple process.例文帳に追加

副生成物の発生を抑制し、簡便なプロセスで目的のシラフルオレン誘導体を合成することができる製造方法を提供する。 - 特許庁

Moreover, since the above target can be performed by the simple method, the efficiency is improved, and a production time and a cost are reducible.例文帳に追加

また、簡単な方法で以上の目的を達成できるので、効率を向上し、生産時間及びコストを削減することができる。 - 特許庁

To provide an indium target capable of achieving a high sputtering rate while suppressing the occurrence of abnormal discharge, and to provide a method for production thereof.例文帳に追加

異常放電の発生を抑えながら高いスパッタレートを達成することの可能なインジウムターゲット及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an oxide having a new crystal form which can be utilized suitably as a target or the like used for production of an oxide thin film.例文帳に追加

酸化物薄膜の作製に使用するターゲット等として好適に利用できる、新規な結晶型を有する酸化物を提供する。 - 特許庁

To provide an indium target capable of achieving a high sputtering rate while suppressing the occurrence of abnormal discharge, and to provide a method for production thereof.例文帳に追加

異常放電の発生を抑えながら高いスパッタレートを維持することの可能なインジウムターゲット及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Co ALLOY TARGET AND ITS PRODUCTION METHOD, SOFT MAGNETIC FILM FOR PERPENDICULAR MAGNETIC RECORDING AND PERPENDICULAR MAGNETIC RECORDING MEDIUM例文帳に追加

Ｃｏ合金ターゲット材の製造方法、Ｃｏ合金ターゲット材および垂直磁気記録用軟磁性膜ならびに垂直磁気記録媒体 - 特許庁

PRODUCTION OF HIGH PURITY ALUMINUM AND ALLOY CONTINUOUSLY CAST MATERIAL AND CAST MATERIAL THEREOF AND ALUMINUM ALLOY SINGLE CRYSTAL TARGET USING IT例文帳に追加

高純度アルミニウムおよび合金の連続鋳造材の製造方法、該鋳造材、並びにそれを用いたアルミニウム合金単結晶ターゲット - 特許庁

An intensity target is expressed as a reduction in the ratio of GHG emissions relative to a business metric, such as output, production, sales or revenue. 例文帳に追加

原単位目標は、アウトプット、製造、販売、収入など、事業評価基準に対するGHG 削減比率による削減量を示す。 - 経済産業省

To provide a production method for realizing a target material having high density and a uniform structure by using a discharge plasma sintering method as a sintering method having excellent production efficiency among powder metallurgical methods.例文帳に追加

粉末冶金法の中でも、製造効率に優れた焼結法である放電プラズマ焼結法を用いて、高密度かつ組織が均一なターゲット材を実現するための製造方法を提供する。 - 特許庁

A production time component-based time calculation means 11 acquires production history information, operation history information and operation time zone information of a target product, and calculates, with respect to the production time of the individual product from line input to completion, the time used for each element constituting the production time except a non-operation time.例文帳に追加

生産時間構成要素別時間算出手段１１は、対象製品の生産履歴情報と稼働履歴情報と稼働時間帯情報とを取得し、ライン投入から完了までの製品個々の生産時間について、生産時間を構成する要素別に費やした時間を非稼働時間を除いて算出する。 - 特許庁

In a member production management system, a delivery volume of members in each divided period into which a target period is divided is received from a terminal of a supplier.例文帳に追加

部材生産管理システムでは、対象期間を区分した区分期間毎の部材の納入数を仕入先の端末から受信する。 - 特許庁

To provide a vapor growth device which shortens a time needed to raise a temperature of a substrate up to a target temperature, and has higher production capacity than before.例文帳に追加

基板が目標温度に達するまでの時間を短縮し、従来よりも生産能力の優れた気相成長装置を提供する。 - 特許庁

To produce high purity iron in which the content of impurities such as copper is reduced, to provide its production method and to provide a high purity iron target.例文帳に追加

銅などの不純物の含有量を低減した高純度鉄およびその製造方法ならびに高純度鉄ターゲットを提供する。 - 特許庁

To provide an Ru alloy target in which abnormal discharge is hard to occur upon vapor phase film deposition, and which has uniform composition; and to provide its production method.例文帳に追加

気相成膜の際に異常放電が起こり難く均一な組成を有するＲｕ合金ターゲットとその製造方法を提供すること。 - 特許庁