「PRODUCTION TARGET」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a semiconductor manufacturing apparatus for quickly and accurately changing a controlled variable to a target value to thereby make the controlled variable quickly follow the target value, automatically adjusting the controlled variable and target value, and improving the production efficiency of the process.例文帳に追加

制御量を迅速且つ正確に目標値へ変化させることができて、速やかに制御量を目標値に追従させることができ、しかもそれらの調整を自動で行うことができ、プロセスの生産効率を向上させることができる半導体製造装置を得る。 - 特許庁

The production method for the tantalum sputtering target includes forging and recrystallization-annealing a tantalum ingot or a billet obtained by melting and casting, and rolling it to form a crystal structure in which an orientation (222) is preferential toward the central plane of the target from the position of 10% of a target thickness.例文帳に追加

溶解鋳造したタンタルインゴット又はビレットを鍛造及び再結晶焼鈍した後圧延し、ターゲット厚さの１０％の位置からターゲットの中心面に向かって、（２２２）配向が優先的である結晶組織を形成するタンタルスパッタリングターゲットの製造方法。 - 特許庁

To provide a Cr alloy target material with which production of particles can be reduced when a Cr alloy substrate film obtained by adding a specified element (s) and B to Cr is deposited by sputtering, and to provide its production method.例文帳に追加

Ｃｒに特定元素とＢが添加されたＣｒ合金下地膜をスパッタリングによって成膜する際に、パーティクルの発生を低減できるＣｒ合金ターゲット材およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a nanofiber film production apparatus which can switch the presence or absence of nanofiber accumulation by a simple method on a film-forming target surface in electrospinning, and to provide a nanofiber film production method.例文帳に追加

エレクトロスピニングによる膜形成の対象面において、簡便な方法でナノファイバの堆積の有無の切り替えることができるナノファイバ膜製造装置およびナノファイバ膜製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a fixed bed multitubular reactor and its usage, which reactor enables the production of a target product stably for a long period when solid particulates such as catalyst are packed and are used in the production of substances.例文帳に追加

触媒等の固体粒状物を充填して各物質の製造に用いるにあたり、長期間安定して目的生成物を製造することができる固定床多管式反応器およびその使用方法の提供。 - 特許庁

To provide a means for improving the productivity of a saccharide from a C1 compound and for inhibiting the production of an unnecessary saccharide to improve the production yield of a target substance, by using a C1 compound-assimilating microorganism.例文帳に追加

C1化合物資化性微生物を用いることによるCl化合物から糖類の生産性の向上や、不要となる糖類生成を抑制し、目的物質の生成収率を向上させる手段を提供する。 - 特許庁

To provide a method of pulverizing coal for the production of coke which can pulverize coal with precision without varying the formulation of raw materials and the target particle size.例文帳に追加

原料の配合、及び目標粒度の変更によらず精度よく石炭を粉砕できるコークス製造用石炭の粉砕方法を提供する。 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering method using a magnetic substance having thickness suitable for mass production as a target, good in productive efficiency, low in the cost and excellent in cost effectiveness.例文帳に追加

量産に適した厚みをもつ磁性体をターゲットとして用い、生産効率がよく、低コストで経済性に優れたマグネトロンスパッタ方法を提供する。 - 特許庁

NEW SUGAR CHAIN-SUPPORTING CARBOSILANE DENDRIMER AND ITS PRODUCTION METHOD, AND DENGUE FEVER VIRUS INFECTION INHIBITOR, TARGET FOR SCREENING ANTIVIRAL AGENT AND ANTI-HIV AGENT例文帳に追加

新規糖鎖担持カルボシランデンドリマーおよびその製造方法、並びにデング熱ウイルス感染阻害剤、抗ウイルス剤及び抗ＨＩＶ剤のスクリーニング用標的物質 - 特許庁

To provide means for reducing the production of a byproduct in a method for producing a target substance such as an L-amino acid using a bacterium.例文帳に追加

Ｌ−アミノ酸等の目的物質を細菌を利用して製造する方法において、副生物の生成を低減するための手段を提供する。 - 特許庁

To allow efficient production of a composite oxide which has high flexibility of composition, has a target composition, and is excellent in the uniform dispersibility of each element.例文帳に追加

組成の自由度が高く、目標とする組成を有し、かつ、各元素の均一分散性に優れた複合酸化物を効率よく製造することを可能にする。 - 特許庁

To provide an in-line sputtering apparatus capable of executing the target cleaning before starting the production (film deposition) without using any dummy substrate, and enhancing the productivity.例文帳に追加

生産（成膜）開始前のターゲットクリーニングを、ダミー基板を使用することなく実施できる、生産性を向上させたインラインスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁

To provide a target material suitable for industrial production of a transparent titanium oxide-based thin film having electrical conductivity equal to or more than that of ITO.例文帳に追加

ＩＴＯと同等以上の導電性を有する透明な酸化チタン系薄膜を工業的に製造するのに適したターゲット材を提供すること。 - 特許庁

The method for production of the indium target includes a step of feeding an indium raw material from the lower portion of a mold to perform the fusion casting of the raw material.例文帳に追加

インジウム原料を溶解鋳造する工程を含み、該工程においてインジウム原料を鋳型の下部から供給するインジウムターゲットの製造方法。 - 特許庁

To provide an indium oxide powder which is excellent in an optimum specific surface area and uniformity of a grain size as a raw material for a high-density target material, and a production method therefor.例文帳に追加

高密度ターゲット材の原料として最適な比表面積と粒径の均一性に優れた酸化インジウム粉末とその製造方法を提供する。 - 特許庁

Mo-W MATERIAL FOR WIRING FORMATION, Mo-W TARGET FOR WIRING FORMATION AND ITS PRODUCTION, AND Mo-W WIRING THIN FILM AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE例文帳に追加

配線形成用Ｍｏ—Ｗ材、配線形成用Ｍｏ—Ｗタ—ゲットとその製造方法、およびＭｏ—Ｗ配線薄膜と液晶表示装置 - 特許庁

To improve production efficiency of tandem rolling equipment by dynamically correct the thickness target on the outlet side of each stand so as to optimally keep the draft distribution of a tandem rolling mill.例文帳に追加

タンデム圧延機の圧下率配分を最適に保つよう各スタンドの出側板厚目標をダイナミックに修正し、タンデム圧延設備の生産効率を高める。 - 特許庁

ENZYME SUBSTRATE-MODIFIED NUCLEOSIDE TRIPHOSPHATE, NUCLEIC ACID PROBE, MULTILABELED NUCLEIC ACID PROBE, METHOD FOR PRODUCTION OF MULTILABELED NUCLEIC ACID PROBE, AND METHOD FOR DETECTION OF TARGET NUCLEIC ACID例文帳に追加

酵素基質修飾ヌクレオシド三リン酸、核酸プローブ、マルチラベル化核酸プローブ、マルチラベル化核酸プローブの製造方法および標的核酸の検出方法 - 特許庁

To accurately control a resistance value into a target value even when a current value of a constant current source is dispersed by production dispersion or the like in a parameter correction circuit.例文帳に追加

パラメータ補正回路において、定電流源の電流値が製造ばらつきなどでばらつく場合であっても、精度良く抵抗値を目標値に調整する。 - 特許庁

To provide a sputtering target capable of reducing the production of particles and obtaining a thinned translucent light shielding film, and to provide a method for manufacturing a mask blank.例文帳に追加

パーティクルの発生を低減し、かつ膜厚を薄くした半透明遮光膜が得られるスパッタリングターゲット、及びマスクブランクの製造方法を提供する。 - 特許庁

Also, the conditions for satisfying the target value of the set production schedule are found based on the data of the production schedule and the production result, and conditions for satisfying the conditions are found, and the conditions are searched until a user wants.例文帳に追加

本発明による解決手段のさらにもう一つは、生産計画と製造実績のデータを基に、設定した生産計画の目標値を満たす条件を求め、さらにその条件を満たす条件を求め、利用者が望むまで前記条件を追求する仕組みを提供することである。 - 特許庁

To provide a nanocapsule manufacturing method capable of well and certainly manufacturing a nanocapsule prepared by coating a wax phase becoming a target substance to be encapsulated with a target capsule medium without using an auxiliary agent such as a polymerization initiator or a surfactant with good production efficiency in a short time by a mass production system.例文帳に追加

重合開始剤や界面活性剤等の助剤を用いることなく目的とする被封入体となる蝋相を目的とするカプセル媒体によって被覆したナノカプセルを良好にかつ確実に製造することができ、更に生産効率もよく短時間に大量生産可能なナノカプセル製造方法を提供すること。 - 特許庁

Upon production of a cylindrical sputtering target, when a joining material is filled into a space formed by the inside face of the cylindrical target and the outside face of a cylindrical base material by a pressure difference between the space and the joining material, the joining material can be densely filled, and further, the occurrence of cracking and chipping upon production can be remarkably reduced.例文帳に追加

円筒形スパッタリングターゲットの製造時に、円筒形ターゲット内側面、及び円筒形基材外側面によって形成される空間と接合材との圧力差により接合材を前記空間に充填した場合に、接合材を密に充填できるとともに、製造時の割れ、欠けの発生が著しく低減できる。 - 特許庁

To provide a method for producing an ingot for a sputtering target, which inhibits the production of a new defective mode (huge dust and large cavity) occurring when a target is sputtered in a new sputtering system such as long slow sputtering and reflow sputtering.例文帳に追加

ロングスロースパッタやリフロースパッタ等の新スパッタ方式でスパッタリングした際に発生する新たな不良モード（巨大ダストや大きな凹部）の発生を抑制することを可能にしたスパッタリングターゲット用インゴットの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a Cu-Ga alloy sputtering target containing an alkali metal without using an elemental alkali metal which is difficult to handle, and a Cu-Ga alloy sputtering target obtained by the production method.例文帳に追加

取り扱いが困難なアルカリ金属単体を使用することなく、アルカリ金属を含有したＣｕ−Ｇａ合金スパッタリングターゲットの製造方法及びこの製造方法により得られたＣｕ−Ｇａ合金スパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

To provide a seed crystal having less errors in a length and a tapered angle at a conical top end with respect to target values so as to improve the production yield of semiconductor products, and to provide a production method for efficiently producing the seed crystal.例文帳に追加

半導体製品の歩留りを向上するために、円錐状の先端部の長さ及びテーパ角度が目標値に対して誤差の少ない種結晶、及びその種結晶を効率的に製造できる製造方法を提供する。 - 特許庁

Further disclosed is a method for producing a target protein by using the bacmid mutant, wherein the production method comprises a process of obtaining a target protein expression bacmid by using the bacmid mutant, a polynucleotide comprising a sequence encoding the target protein, and a transposase; and a process of introducing the target protein expression bacmid into a cell derived from insects.例文帳に追加

更に、バクミド変異体を用いた目的タンパク質の製造方法であって、大腸菌中で、前記バクミド変異体と、目的タンパク質をコードする配列を含むポリヌクレオチドと、トランスポゼースとにより、目的タンパク質発現バクミドを得る工程と、前記目的タンパク質発現バクミドを昆虫由来の細胞に導入する工程と、を含む目的タンパク質の製造方法である。 - 特許庁

To provide a diffusedly joined target assemblage of a high purity cobalt target with a backing plate with which a high purity cobalt ferromagnetic target can effectively be sputtered, and the occurrence of warpage and peeling can be prevented even at the time of being joined with the backing plate and in the severe conditions of high power sputtering, and to provide its production method.例文帳に追加

高純度コバルト強磁性体ターゲットの実効あるスパッタリングが可能であり、またバッキングプレートとの接合時及びハイパワースパッタの過酷な条件下でも、反りや剥れの発生が防止できる高純度コバルトターゲットとバッキングプレートとの拡散接合ターゲット組立体及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a sputtering target in which oxygen present therein is uniformly dispersed, as a Cu alloy target containing oxygen for forming a wiring film having excellent adhesion with a glass substrate and an Si based under layer film and excellent barrier properties, and to provide a sputtering target produced by the production method.例文帳に追加

ガラス基板やＳｉ系下地膜との密着性やバリア性に優れた配線膜を形成するための酸素を含有したＣｕ合金ターゲットに関して、ターゲット中に存在する酸素を均一に分散させたスパッタリングターゲットの製造方法およびその製造方法で作製されるスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

When the result of the majority decision indicates production of white pixels, majority decision is conducted in windows C, D being two kinds of oblique pixel strings including the processing target pixels (step S6), then majority decision is made between the two majority decision results and the processing target pixels (step S7), and the result is used for an output value of the processing target pixels.例文帳に追加

その結果が白画素となった場合には，更に上記処理対象画素を含む斜め２種類の画素列であるウインドウＣ，Ｄ内での多数決を行い（ステップＳ６），更にその２つの多数決結果と上記処理対象画素との間で多数決を行い（ステップＳ７），その結果を処理対象画素の出力値とする。 - 特許庁

To provide a production unit of gas dissolved water which reduces deviation from a target value of an agent concentration after addition of chemicals when a change of an amount of water supply is high.例文帳に追加

給水量の変動が大きい場合であっても薬液添加後の薬剤濃度の目標値からの乖離が小さいものとなるガス溶解水の製造装置を提供する。 - 特許庁

The input production planning data are converted into planning variables for the calculation of the structure data of the planning target value by planning variable calculation (S14), and input (S16).例文帳に追加

入力された生産計画データは、計画変数算出（Ｓ１４）により、計画目標値の構造データの算出のための計画変数に変換され、入力される（Ｓ１６）。 - 特許庁

To provide a target bar display device for adjusting a back guide monitor, which can be operated in any of production steps, and capable of improving the adjustment accuracy.例文帳に追加

生産工程中の何れの工程でも実施可能であると共に、調整精度が向上するようにした、バックガイドモニター調整用ターゲットバー表示装置を提供する。 - 特許庁

This production apparatus includes a second electrode 27 installed in between a backing plate (first electrode) 23 and a substrate tray 22 which oppose to each other, specifically installed in between a target 24 and a substrate 21.例文帳に追加

互いに対面するバッキングプレート（第一電極）２３と基板トレイ２２との間、即ち、ターゲット２４と基板２１との間には、第二電極２７が形成される。 - 特許庁

To provide a method for promoting the growth of genetic recombinant cells, and to provide a method for increasing the production of a target genetic product to be expressed.例文帳に追加

遺伝子組み換え型細胞の成長を促進する方法及び発現させたいターゲット遺伝子産物の生産量を増加させることができる方法を提供すること。 - 特許庁

When the same target content is continuously printed twice under the same printing condition, the positioning is updated from the way of production to the final printing matter.例文帳に追加

位置付けは、同一の対象コンテンツについて、同一の印刷条件で２回連続して印刷された場合に、制作途中から最終印刷物に更新される。 - 特許庁

To provide a ZnS-SiO2 target material capable of applying DC sputtering and provided with high-speed and stable sputtering properties thereby and to provide its production method.例文帳に追加

ＤＣスパッタの適用が可能であり、これにより高速で安定したスパッタ性を備えたＺｎＳ−ＳｉＯ_2 系ターゲット材およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus having potential on a photoreceptor surface reach a target potential in a short time while suppressing production of a carrier band and a toner band.例文帳に追加

キャリアバンドおよびトナーバンドの発生を抑えながら、短時間で感光体表面の電位を目標となる電位に到達させることができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To suitably manage information concerned with empty carriers in a production line and information concerned with a target to be produced and to quickly process each information when necessary.例文帳に追加

生産ラインにおける空の搬送機に関する情報と生産対象に関する情報とを適切に管理し、必要に応じて各情報を迅速に処理する。 - 特許庁

To realize real time trace on mass production chips with a small number of terminal, and to generate trace information during target execution.例文帳に追加

少ない端子で量産チップ上でのリアルタイムトレースを実現し、ターゲット実行中にトレース情報の生成が可能なデバッグシステム及び情報記憶媒体を提供すること。 - 特許庁

To provide a liquid phase laser ablation apparatus having sufficiently high production efficiency continuously and stably producing particles in the liquid phase regardless of the kind of a target material.例文帳に追加

ターゲット材料の種類によらず、液相中に粒子を連続的に安定して製造できる製造効率の十分に高度な液相レーザーアブレーション装置を提供する。 - 特許庁

Next, the process design support device calculates the whole cycle time as the whole production line by use of the group cycle time in each the process group, and decides whether or not the whole cycle time is a target cycle time or below (step 5).例文帳に追加

次に、各工程群での群サイクルタイムを用いて生産ライン全体としての全サイクルタイムを計算し、目標サイクルタイム以下となっているか判断する（ステップ５）。 - 特許庁

The target 20A for this radioisotope production apparatus is equipped with a grid 21, a permeation film 22 and a container 26 for accommodating basic materials for radioisotopes.例文帳に追加

この放射性同位元素製造装置のターゲット２０Ａは、グリッド２１と、透過膜２２と、放射性同位元素の元になる物質を収容する容器２６とを備えている。 - 特許庁

To provide a method for identification and production of a nucleic acid ligand to a target molecule based on systematic evolution of ligands by exponential enrichment (SELEX) process.例文帳に追加

指数関数的増加によるリガンドの系統的展開（ＳＥＬＥＸ）プロセスに基づいく標的分子に対する核酸リガンドの確認方法及び製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a sulfide target for forming a sulfide fluorescent film composed of Al_2S_3, BaS and EuS and having satisfactory crystallinity by a sputtering process, and to provide its production method.例文帳に追加

Ａｌ_２Ｓ_３、ＢａＳ、ＥｕＳからなり、結晶性の良い硫化物蛍光体膜をスパッタリング法で形成するための硫化物ターゲット、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁