「PRODUCTION TARGET」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

SPUTTERING TARGET FOR FORMING HIGH DIELECTRIC THIN FILM AND ITS PRODUCTION例文帳に追加

高誘電体薄膜形成用スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, AND OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM AND PRODUCTION METHOD THEREFOR例文帳に追加

スパッタリングターゲット並びに光情報記録媒体及びその製造方法 - 特許庁

HARD FILM, PRODUCTION METHOD THEREFOR, AND TARGET FOR FORMING HARD FILM例文帳に追加

硬質皮膜及びその製造方法並びに硬質皮膜形成用ターゲット - 特許庁

SPUTTERING TARGET FOR PRODUCING TRANSPARENT ELECTRICALLY CONDUCTIVE THIN FILM AND ITS PRODUCTION METHOD例文帳に追加

透明導電性薄膜製造用スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

SPUTTERING SYSTEM, TARGET FIXING STRUCTURE THEREOF AND PRODUCTION DEVICE OF LIQUID CRYSTAL APPARATUS例文帳に追加

スパッタ装置とそのターゲット固定構造及び液晶装置の製造装置 - 特許庁

ALLOY TARGET FOR MAGNETO-OPTICAL RECORDING, ITS PRODUCTION AND REGENERATING METHOD THEREFOR例文帳に追加

光磁気記録用合金ターゲット、その製造方法およびその再生方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET FOR INTERFERENCE FILM OF OPTICAL RECORDING MEDIUM AND ITS PRODUCTION例文帳に追加

光記録媒体の干渉膜用スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, SILICON CARBIDE FILM, OPTICAL DISK AND PRODUCTION METHOD FOR THE OPTICAL DISK例文帳に追加

スパッタリングターゲット、炭化珪素被膜、光ディスク及び光ディスクの製造方法 - 特許庁

HIGH PURITY NICKEL OR NICKEL ALLOY SPUTTERING TARGET AND PRODUCTION METHOD THEREFOR例文帳に追加

高純度ニッケル又はニッケル合金スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, ITS PRODUCTION METHOD, REFLECTIVE COATING, AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE ELEMENT例文帳に追加

スパッタリングターゲット、その製造方法、反射膜、及び有機エレクトロルミネッセンス素子 - 特許庁

CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET, CERAMIC SINTERED COMPACT AND PRODUCTION METHOD THEREFOR例文帳に追加

円筒形スパッタリングターゲット並びにセラミックス焼結体及びその製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET FOR FORMING MAGNETO-OPTICAL RECORDING MEDIUM FILM AND ITS PRODUCTION例文帳に追加

光磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

To appropriately recognize an impression as the target of design production.例文帳に追加

デザイン制作の目標となる印象を適確に把握することを可能とする。 - 特許庁

PRODUCTION METHOD OF TITANIUM OXIDE TARGET EXCELLENT IN STRENGTH AND RESISTANCE TO CRACK AT SPUTTERING例文帳に追加

強度および耐スパッタ割れ性に優れた酸化チタンターゲットの製造方法 - 特許庁

PRODUCTION OF NICKEL/VANADIUM SPUTTERING TARGET WITH MINIMAL ALPHA EMISSION例文帳に追加

アルファ放射が極少のニッケル／バナジウム・スパッタリング・ターゲットを製造する方法 - 特許庁

ALUMINA SPUTTERING TARGET, ITS PRODUCTION AND HIGH- FREQUENCY SPUTTERING DEVICE例文帳に追加

アルミナ・スパッタリング・ターゲット及びその製造方法並びに高周波スパッタリング装置 - 特許庁

The target pricing method has been widely adopted in a lot of industries, such as chemical production.例文帳に追加

ターゲットプライシングは化学品など多くの産業で広く用いられている。 - Weblio英語基本例文集

PRODUCTION METHODS OF METAL POWDER WITH HIGH MELTING POINT AND TARGET MATERIAL例文帳に追加

高融点金属系粉末の製造方法およびターゲット材の製造方法 - 特許庁

DIFFUSEDLY JOINED TARGET ASSEMBLAGE OF HIGH PURITY COBALT TARGET WITH BACKING PLATE MADE OF COPPER ALLOY, AND ITS PRODUCTION METHOD例文帳に追加

高純度コバルトターゲットと銅合金製バッキングプレートとの拡散接合ターゲット組立体及びその製造方法 - 特許庁

To draft a production plan that fulfills target values of a plurality of management indices.例文帳に追加

複数の経営指標の目標値を満足する生産計画を立案する。 - 特許庁

SPUTTERING TARGET FOR OXIDE FILM FORMATION AND PRODUCTION METHOD OF OXIDE FILM USING THE SAME例文帳に追加

酸化膜形成用スパッタリングターゲットとそれを用いた酸化膜の製造方法 - 特許庁

To plan a production plan which satisfies a plurality of target values of management indices.例文帳に追加

複数の経営指標の目標値を満足する生産計画を立案する。 - 特許庁

SINTER, SPUTTERING TARGET AND MOLDING DIE, AND PRODUCTION PROCESS OF SINTERED COMPACT例文帳に追加

焼結体、スパッタリングターゲット及び成形型並びに焼結体の製造方法 - 特許庁

Co-Fe-Zr-BASED ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL AND PROCESS FOR PRODUCTION THEREOF例文帳に追加

Ｃｏ−Ｆｅ−Ｚｒ系合金スパッタリングターゲット材およびその製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET ASSEMBLED BODY SUBJECTED TO SOLID PHASE DIFFUSION JOINING AND ITS PRODUCTION例文帳に追加

固相拡散接合されたスパッタリングターゲット組立体およびその製造方法 - 特許庁

Cr ALLOY TARGET MATERIAL, PRODUCTION METHOD THEREFOR AND FILM COATING METHOD例文帳に追加

Ｃｒ合金ターゲット材およびその製造方法ならびに皮膜コーティング方法 - 特許庁

SINTERED COMPACT TARGET FOR FORMING OPTICAL RECORDING MEDIUM PROTECTIVE FILM, AND ITS PRODUCTION METHOD例文帳に追加

光記録媒体保護膜形成用焼結体ターゲット及びその製造方法 - 特許庁

Co-Cr-Pt-B-BASED ALLOY SPUTTERING TARGET AND ITS PRODUCTION METHOD例文帳に追加

Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｂ系合金スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

ROD TARGET FOR ARC EVAPORATION SOURCE, ITS PRODUCTION METHOD AND ARC VAPOR DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加

アーク蒸発源用のロッドターゲット、その製造方法及びアーク蒸着装置 - 特許庁

INDIUM OXIDE SINTERED COMPACT, PRODUCTION METHOD THEREFOR AND SPUTTERING TARGET USING THE SAME例文帳に追加

酸化インジウム焼結体、その製造方法及びそれを用いたスパッタリングターゲット - 特許庁

ELECTRICALLY CONDUCTIVE MATERIAL FOR SEMICONDUCTOR DEVICE, SPUTTERING TARGET AND ITS PRODUCTION METHOD例文帳に追加

半導体素子用導電材料及びスパッタリングターゲット並びにその製造法 - 特許庁

BaxSr1-xTiO3-α SPUTTERING TARGET AND ITS PRODUCTION例文帳に追加

ＢａｘＳｒ１−ｘＴｉＯ３−αスパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

TARGET FOR SPUTTERING AND PRODUCTION OF BLACK MATRIX FOR COLOR FILTER USING THE SAME例文帳に追加

スパッタリング用ターゲットとこれを用いたカラーフィルタ用ブラックマトリクスの製造方法 - 特許庁

SIO2 POWDER FOR SINTERED COMPACT TARGET FOR FORMING OPTICAL RECORDING MEDIUM PROTECTIVE FILM, PRODUCTION METHOD OF SINTERED COMPACT TARGET USING THE POWDER, AND SINTERED COMPACT TARGET例文帳に追加

光記録媒体保護膜形成用焼結体ターゲットのＳｉＯ２粉末及び該粉末を用いた焼結体ターゲットの製造方法、並びに焼結体ターゲット - 特許庁

TE-BASED SPUTTERING TARGET FOR FORMING FILM OF OPTICAL RECORDING MEDIUM WITH REDUCED PARTICLE PRODUCTION例文帳に追加

パーティクル発生の少ない光記録媒体膜形成用Ｔｅ系スパッタリングターゲット - 特許庁

TARGET FOR SPUTTERING, ITS PRODUCTION AND HIGH MELTING POINT METAL POWDER MATERIAL例文帳に追加

スパッタリング用ターゲット及びその製造方法ならびに高融点金属粉末材料 - 特許庁

To provide a production control system for a sputtering target which enables a target user to efficiently operate a sputtering device and also enables a target maker to greatly shorten the period of delivery of the sputtering target and a medium where a program for the production control system is recorded.例文帳に追加

ターゲットユーザがスパッタリング装置を効率よく稼働させることができ、一方、ターゲットメーカはスパッタリングターゲットの納期を格段に短縮できるスパッタリングターゲットの生産管理システムおよび生産管理システム用プログラムを記録した媒体を提供する。 - 特許庁

A first calculation section 12 calculates the amounts of production of the type for each material at each production base, on the basis of the target amounts of production of the type of each material and the unit amounts of production at each production base in each allocation scheme, and calculates the total amounts of production at each production base from the calculated mounts of production of each type of material.例文帳に追加

第１の算出部１２は、各割当案において、各材種の目標生産量と、各生産拠点の単位生産量とを基に、各生産拠点における各材種の生産量を算出し、算出した各材種の生産量から各生産拠点の総生産量を算出する。 - 特許庁

ITO SINTERED COMPACT SPUTTERING TARGET FOR HIGH RESISTANCE FILM DEPOSITION AND PRODUCTION METHOD THEREFOR例文帳に追加

高抵抗膜形成用ＩＴＯ焼結体スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

ITO SINTERED COMPACT, PRODUCTION METHOD THEREFOR AND ITO SPUTTERING TARGET USING THE SINTERED COMPACT例文帳に追加

ＩＴＯ焼結体とその製造方法、及びそれを用いたＩＴＯスパッタリングターゲット - 特許庁

TARGET SUBSTANCE FOR SCREENING SUBSTANCE FOR PREVENTING OR TREATING HAY FEVER AND PRODUCTION METHOD THEREFOR例文帳に追加

スギ花粉症予防乃至治療用物質スクリーニング用標的物質及びその製法 - 特許庁

ITO SPUTTERING TARGET, AND PRODUCTION OF ITO SINTERED COMPACT AND TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM例文帳に追加

ＩＴＯスパッタリングターゲット、並びにＩＴＯ焼結体及び透明導電膜の製造方法 - 特許庁

CoPt SPUTTERING TARGET, ITS PRODUCTION AND CoPt-MAGNETIC RECORDING MEDIUM例文帳に追加

ＣｏＰｔ系スパッタリングターゲットおよびその製造方法ならびにＣｏＰｔ系磁気記録媒体 - 特許庁

Ti-Si ALLOY BASED TARGET MATERIAL, PRODUCTION METHOD THEREFOR AND FILM COATING METHOD例文帳に追加

Ｔｉ−Ｓｉ合金系ターゲット材およびその製造方法ならびに皮膜コーティング方法 - 特許庁

OXIDE SINTERED COMPACT, SPUTTERING TARGET, TRANSPARENT CONDUCTIVE THIN FILM, AND THEIR PRODUCTION METHOD例文帳に追加

酸化物焼結体、スパッタリングターゲット、透明導電性薄膜およびその製造方法 - 特許庁