例文 (999件) |
Protection filmの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2576件
To provide a highly reliable semiconductor device that can form a protection film uniformly.例文帳に追加
保護膜を均一に形成することが出来、信頼性の高い半導体装置を提供する。 - 特許庁
POLARIZING PLATE, MANUFACTURING METHOD OF SAME, AND MANUFACTURING METHOD OF BIREFRINGENT PROTECTION FILM USED FOR SAME例文帳に追加
偏光板とその製法、及びそれに用いる複屈折性保護フィルムの製造方法 - 特許庁
A film forms a protection cover over a central section of the pair of electrical conductive strips.例文帳に追加
膜が電気導体条片対の中間セクションの上に保護被覆を形成している。 - 特許庁
The surface of an insulating protection film 25 for protecting an electrode 23 is modified so as to have the hydrophobic property.例文帳に追加
電極23を保護する絶縁保護膜25の表面を疎水性に改質した。 - 特許庁
The surface protection film includes yttria (Y_2O_3) as a principal component and cerium.例文帳に追加
本発明の表面保護膜は、イットリア(Y_2O_3)を主成分とし、セリウムを含有する膜である。 - 特許庁
An insulation protection film 13 is formed around the region of the land 14 for soldering.例文帳に追加
ハンダ用ランド14の領域周辺には絶縁性の保護膜13が形成されている。 - 特許庁
The protection circuit includes a diode composed of a semiconductor film formed on an insulating surface.例文帳に追加
保護回路は、絶縁表面上に形成される半導体膜からなるダイオードを含む。 - 特許庁
A protection layer composed of silica particles and/or alumina particles is formed on the film.例文帳に追加
また、前記膜の上にシリカ粒子及び/又はアルミナ粒子よりなる保護層が具備される。 - 特許庁
The protection film 16 consists of poly-paraxylene and protect mainly the scintillator 14 from humidity.例文帳に追加
保護膜16は、ポリパラキシリレンからなり、主としてシンチレータ14を湿気から保護する。 - 特許庁
A silicide protection film 11c is formed to cover a lower electrode 6 of a capacitor.例文帳に追加
シリサイドプロテクション膜11cは、キャパシタの下部電極6を覆って形成されている。 - 特許庁
CONDUCTIVE LAMINATE, ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELDING FILM FOR PLASMA DISPLAY AND PROTECTION BOARD FOR PLASMA DISPLAY例文帳に追加
導電性積層体、プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムおよびプラズマディスプレイ用保護板 - 特許庁
POLARIZER PROTECTION FILM HAVING COATING LAYER EXCELLING IN ADHESION, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
密着性が良好なコーティング層を有する偏光子保護フィルム、及びその製造方法 - 特許庁
The lower-layer protection insulation film could have a high-dielectric-constant layer having a relative permittivity of ≥10.例文帳に追加
下層保護絶縁膜は、比誘電率が10以上の高誘電体層を有してよい。 - 特許庁
THERMOPLASTIC RESIN COMPOSITION, RESIN MOLDED ARTICLE USING THE SAME AND POLARIZER PROTECTION FILM例文帳に追加
熱可塑性樹脂組成物とそれを用いた樹脂成形品および偏光子保護フィルム - 特許庁
A pixel electrode connected to the driving circuit 1a is formed on the upper part of the protection film.例文帳に追加
保護膜の上方に、駆動回路1aに接続された画素電極を形成する。 - 特許庁
ADHESIVE FILM FOR SEMICONDUCTOR WAFER PROTECTION AND METHOD OF PROTECTING SEMICONDUCTOR WAFER USING THE SAME例文帳に追加
半導体ウェハ保護用粘着フィルム及びそれを用いた半導体ウェハの保護方法 - 特許庁
A protection film to be formed as covering input-output wiring portions 5 and 6 is provided.例文帳に追加
入出力配線5・6を被覆するように形成された保護膜12を備えている。 - 特許庁
PROTECTION FILM FOR POLARIZING PLATE, ITS MANUFACTURING METHOD, POLARIZING PLATE AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE例文帳に追加
偏光板用保護フィルム、及びその製造方法、偏光板、並びに液晶表示装置 - 特許庁
To provide a surface protection film with superior abrasion resistance, its manufacturing method, and its application.例文帳に追加
耐摩耗性に優れた表面保護膜、その製造方法及びその用途を提供する。 - 特許庁
An insulating protection resin film 10 is provided to the sloping side surface 7 of the semiconductor base material 4.例文帳に追加
半導体基体4の傾斜側面7に絶縁性保護樹脂膜10を設ける。 - 特許庁
Since the protection film 10b in the pixel is formed thinner than the protection film 10a in the wiring, the absorption of light can be lowered, for example, in the wavelength region of the blue color visible light from a near ultraviolet ray by the protection film 10b.例文帳に追加
画素部における保護膜10bの膜厚が、配線部における保護膜10aの膜厚に比べて薄く形成されていることから、例えば、保護膜10bによる近紫外から青色可視光の波長領域の光の吸収を小さくすることができる。 - 特許庁
To provide an adhesive, capable of peeling the end of the surface protection adhesive film easily from an adherend, even when a blanked piece is obtained by blanking from a laminate of the adherend and the surface protection adhesive film; and to provide a surface protection adhesive film.例文帳に追加
被着体と表面保護粘着フィルムとの積層体から、打ち抜き加工によって打ち抜き片が得られたときでも、表面保護粘着フィルムの端部を被着体から容易に剥がすことができる粘着剤及び表面保護粘着フィルムの提供。 - 特許庁
Further, the contact holes for connecting the first conductive film and a second conductive film in the protection circuit are dispersedly formed on the semiconductor film.例文帳に追加
また、保護回路の1層目の導電膜と2層目の導電膜とを接続するためのコンタクトホールは、半導体膜上に存在し、かつ分散して形成される。 - 特許庁
To provide a polyester film for a solar cell back surface protection film for a thin film silicon solar cell, which exhibits superior durability even under high-temperature and high-humidity conditions and superior long-term thermal stability.例文帳に追加
薄膜シリコン太陽電池において高温高湿度下および、長期熱安定性に優れた太陽電池裏面保護膜用ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁
A carrier film 70 is formed in the entire surface area of a face 54a of the first substrate 54 and a protection resin film 71 is formed on the carrier film 70.例文帳に追加
次いで、第一基板54の一方の面54aの一面に担体膜70を成膜し、その担体膜70上に保護樹脂膜71を成膜する。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition capable of forming a surface protection film and an inter-layer insulation film with excellent flatness owing to a high film remaining ratio after a heat treatment.例文帳に追加
加熱処理後の残膜率が高いため平坦性に優れた表面保護膜、層間絶縁膜を形成しうる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
The planar thermoplastic resin composition is a film or sheet and preferably a protection film for optical use, an optical film and an optical sheet.例文帳に追加
本発明に係る面状熱可塑性樹脂成形体は、フィルムまたはシート、好ましくは、光学用保護フィルム、光学フィルム、あるいは光学シートである。 - 特許庁
An a-Si film 12 is formed all over a quartz substrate 11 and a protection film 13 is formed in a region which becomes a display part on the a-Si film 12.例文帳に追加
石英基板11全面にa−Si膜12を形成し、そのa−Si膜膜12上の表示部となる領域に保護膜13を形成する。 - 特許庁
Further, a base interference film 25 which controls the transmissivity of the phase change recording film 22 to the laser beam is formed beneath the lower transparent protection film 21.例文帳に追加
更に、透明下部保護膜21の下には、相変化記録膜22におけるレーザ光の透過率を調節する下地干渉膜25が形成されている。 - 特許庁
The fuse insulating film 13b with a small film thickness which consists of a part of the lower protection insulating film 13a is formed on the side face of the fuse element 12a.例文帳に追加
そして、ヒューズ素子12aの側面上には、下部保護絶縁膜13aの一部からなる膜厚の薄いヒューズ部絶縁膜13bが形成されている。 - 特許庁
Further, a second reflection film 15 such as an aluminum thin film for reflection natural light is deposited on the first protection film 14 as a complete mirror surface shape.例文帳に追加
更に、第1保護膜14上に自然光を反射する為のアルミニウム薄膜などの第2反射膜15が蒸着され完全な鏡面状となる。 - 特許庁
Further, the protection films comprise etching preventing protection films 51, 53 for covering the upper surface of the electrode films, and an electromigration preventing protection film 55 for covering the upper surface of the etching preventing protection films, the side surfaces 47a, 49a of the electrode films and the upper surface of the magnetic resistance effect film.例文帳に追加
また、保護膜は、電極膜の上面を被覆するエッチング防止用保護膜51、53と、エッチング防止用保護膜の上面、電極膜の側面47a、49a及び磁気抵抗効果膜の上面を被覆するエレクトロマイグレーション防止用保護膜55とを含む。 - 特許庁
To provide a surface protection film which is suitably used for surface protection of a synthetic resin sheet or the like, especially used for surface protection of the constitutional member of a liquid crystal display unit for a deflecting plate and a phase difference plate etc., and does not necessitate peeling of the protection film at time of inspection and furthermore is low cost.例文帳に追加
合成樹脂板などの表面保護、特に、偏光板や位相差板などの液晶表示装置の構成部材の表面保護として好適に用いられる表面保護フィルムに関し、検査時に保護フィルムの剥離を必要とせず、更に、低コストの保護フィルムを提供する。 - 特許庁
To provide a production method for a protection film for a polarizing plate that is a cellulose ester film used as the protection film for the polarizing plate, preventing occurrence of grain-like foreign matter hardly to cause the occurrence of the grain-like foreign matter.例文帳に追加
偏光板用保護フィルムとして用いられるセルロースエステルフィルムであって、砂目状異物の発生を防止することができて、砂目状異物が生じにくい偏光板用保護フィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁
After a protection film is formed by coating an electromagnetic wave shielding metal foil with a paint and a peeling film is laminated on the protection film with a pressure-sensitive adhesive layer interposed, the electromagnetic wave shielding metal foil is patterned in a mesh shape.例文帳に追加
電磁波シールド性金属箔に塗料を塗布して保護膜を形成し、この保護膜上に粘着剤層を介して剥離フィルムを積層した後、前記電磁波シールド性金属箔をメッシュ形状にパターニングする。 - 特許庁
The transmissivity of the protection film formed on the organic compound layer is 70-100%, and the protection film prevents the damage which may generated on the organic layer when forming the positive electrode film by sputtering method.例文帳に追加
なお、有機化合物層上に形成された保護膜は、透過率が70〜100%であり、また、陽極をスパッタリング法により成膜する際に有機化合物層に与えられるダメージを防ぐことができる。 - 特許庁
After the wafer 10 for the temperature measurement is charged in a plasma CVD device, an FSG film 30 sedimented on the protection film 12 and the protection film 12 are removed by buffer hydrofluoric acid to expose the second semiconductor layer 11b.例文帳に追加
温度測定用ウェハ10をプラズマCVD装置に投入した後、保護膜12上に堆積したFSG膜30と保護膜12とをバッファードフッ酸により除去して、第2の半導体層11bを露出する。 - 特許庁
Also, this organic electroluminescent display device includes: a protection film positioned on the whole surface of the substrate; and a first electrode, organic film layer and second electrode positioned on the protection film and electrically connected to the source/drain electrodes.例文帳に追加
また、基板全面にかけて位置する保護膜;及び保護膜上に位置し、ソース/ドレイン電極と電気的に連結される第1電極、有機膜層及び第2電極を含む有機電界発光表示装置に関する。 - 特許庁
To provide a material for forming a protection film used regardless of characteristics of a photoresist film formed in a liquid immersion exposure process, and to provide a method of forming a photoresist pattern using the material of forming the protection film.例文帳に追加
液浸露光プロセスにおいて、形成するホトレジスト膜の特性に関係なく利用できる保護膜形成用材料、及びこの保護膜形成用材料を用いたホトレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
There is provided an organic protection film 7 covering the thin-film capacitor element 2 on the inorganic protection film 6, and having a first opening 8 that is larger than the second opening 9 to expose the second opening 9.例文帳に追加
無機保護膜6の上から薄膜キャパシタ要素2を覆うと共に、第2の開口部9よりも大きく第2の開口部9を露出する第1の開口部8が形成された有機保護膜7が設けられている。 - 特許庁
By spraying deposition-film forming gas from the gas gun 5 for the protection film on the surface of the sample cooled by the sample-cooling mechanism, the deposition-film forming gas is trapped at the surface of the sample, whereby, a protection film is formed on the surface of the sample.例文帳に追加
試料冷却機構3によって冷却された試料表面に、保護膜用ガス銃5からデポジション膜形成用ガスを吹き付けることにより、デポジション膜形成用ガスは試料表面にトラップされ、試料表面に保護膜を形成する。 - 特許庁
A corona discharge treatment method for a plastic film surface includes the step of making a protection film 2 overlie the rear surface 1b of a plastic film surface 1a, the discharge treatment step of corona discharge from the plastic film surface, and the peeling step of peeling off the protection film.例文帳に追加
プラスチックフィルム表面にコロナ放電をする処理方法であって、上記プラスチックフィルム表面1aの裏面1bに保護フィルム2を積層する積層工程と、上記プラスチックフィルム表面側からコロナ放電する放電処理工程と、上記保護フィルムを剥離する剥離工程とを備える。 - 特許庁
The epitaxial film is formed on the top surface of the semiconductor wafer, the protection film for dopant vaporization prevention is formed on the reverse surface of the semiconductor wafer, and the polysilicon film having the same conductivity as the epitaxial film is formed on the protection film for dopant vaporization prevention, thereby obtaining the semiconductor epitaxial wafer.例文帳に追加
および、半導体ウエーハの表面にエピタキシャル膜が形成され、前記半導体ウエーハの裏面にドーパント揮散防止用保護膜が形成され、前記ドーパント揮散防止用保護膜上に前記エピタキシャル膜と同じ導電型を有するポリシリコン膜が形成されている半導体エピタキシャルウエーハ。 - 特許庁
A light shielding film 14 is arranged opposite to a protection film 13 covering a semiconductor device in the main surface side of a substrate 1, and a gap between the protection film 13 and the light shielding film 14 is held a prescribed distance by a support part 15 consisting of the same metal material as the light shielding film 14.例文帳に追加
基板1の主表面側において半導体デバイスを覆う保護膜13に対向して遮光膜14を配置し、遮光膜14と同じ金属材料からなる支持部15によって保護膜13と遮光膜14との間のギャップを規定距離に保つようにしてある。 - 特許庁
The protection film 4 is configured of at least a SiOx film 41 and a SiN film 12 formed of a Si compound containing N, and the SiN film 42 and the SiOx film 41 are laminated on the ITO film 3 in this order.例文帳に追加
保護膜4は、少なくとも、SiOx膜41と、Nを含むSi化合物からなるSiN膜12とからなり、ITO膜3上にSiN膜42、SiOx膜41の順に積層形成されて構成される。 - 特許庁
An insulating film used for a TFT such as, for example, a gate insulating film, protection film, undercoating film, interlayer insulating film or the like, is formed by sputtering a silicon nitride film containing 0.1-50 atoms % or 1-50 atoms %, preferably 0.1-10 atoms % of boron.例文帳に追加
TFTに利用する絶縁膜、例えばゲート絶縁膜、保護膜、下地膜、層間絶縁膜等として、ボロンを0.1〜50atoms %又は1〜50atoms %、望ましくは0.1〜10atoms %含む窒化珪素膜をスパッタ法で形成する。 - 特許庁
The film stack characteristically includes at least one infrared light-reflecting metallic film, a dielectric film on the metallic film and a silicon nitride protection film of 10-150 Å on the dielectric film.例文帳に追加
該フィルムスタックは少なくとも1つの赤外線反射金属フィルム、該金属フィルム上の誘電フィルム、および該誘電フィルム上の厚さ10Åないし150Åの保護用窒化ケイ素フィルムを包含することを特徴とする。 - 特許庁
The steel structures preferably have insulating film layers formed between the steel products and the electrolytic protection films and preferably have protective film layers formed on the electrolytic protection films.例文帳に追加
前記防食皮膜の少なくとも1層は、陽イオン選択透過性を有する固体電解質と陰イオン選択透過性を有する固体電解質とを含有することを特徴とする。 - 特許庁
To provide a protection sheet for solar cell that has excellent adhesion between a base film and a gas barrier layer of the protection film for solar cell, and also has superior weatherability, gas barrier property, and ultraviolet-ray cutting property.例文帳に追加
太陽電池用保護フィルムの基材フィルムとガスバリア性層との密着性が良好で、かつ耐候性、ガスバリア性、紫外線カット性に優れた太陽電池用保護フィルムを提供する。 - 特許庁
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