例文 (999件) |
Protection filmの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2576件
A method of manufacturing the anti-reflection film and the protection film for polarizing plate by coating is obtained.例文帳に追加
また、塗布法による上記反射防止フィルム及び偏光板用保護フィルムの製造方法。 - 特許庁
Thus, the optical disk 37 in which the information recording and reflecting film is coated with the protection film is manufactured.例文帳に追加
こうして、情報記録反射膜を保護膜でコーティングされた光ディスク37が製造される。 - 特許庁
In the protection layer 24, a film thickness at the bottom part 201 is thicker than a film thickness at the leg part 202.例文帳に追加
保護層24は、底部201における膜厚が脚部202における膜厚よりも大きい。 - 特許庁
METHOD FOR SAPONIFYING CELLULOSE ACYLATE FILM, POLARIZING PLATE PROTECTION FILM, POLARIZING PLATE, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE例文帳に追加
セルロースアシレートフィルムの鹸化方法、偏光板保護フィルム、偏光板および液晶表示装置 - 特許庁
CELLULOSE ESTER FILM, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, POLARIZING PLATE PROTECTION FILM, POLARIZING PLATE AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE例文帳に追加
セルロースエステルフィルムとその製造方法、偏光板保護フィルム、偏光板及び液晶表示装置 - 特許庁
PROTECTION FILM MAINLY INCLUDING TETRAHEDRAL AMORPHOUS CARBON FILM AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM HAVING THE SAME例文帳に追加
テトラヘドラル・アモルファス・カーボン膜を主体とする保護膜および該保護膜を有する磁気記録媒体 - 特許庁
SURFACE PROTECTION FILM FOR PRISM SHEET, AND PROCESS FOR PRODUCTION THEREOF, AND PRISM SHEET WITH THE FILM PUT THEREON例文帳に追加
プリズムシート用表面保護フィルム、およびその製造方法、およびそれが貼り付けられたプリズムシート - 特許庁
In a low-area region AreaL; a lower insulating film 102, a first protection insulating film 103, and a second protection insulating film 104 are formed on a semiconductor substrate 101.例文帳に追加
低面積領域AreaLには、半導体基板101上に下地絶縁膜102、第1の保護絶縁膜103及び第2の保護絶縁膜104を形成する。 - 特許庁
A metal silicide film 6 is provided on the parts of the source-drain regions 5 where the silicide protection film 10 is not provided so as to adjoin the silicide protection film 10.例文帳に追加
シリサイドプロテクション膜10が設けられていないソース・ドレイン領域の上には、シリサイドプロテクション膜10に隣接して金属シリサイド膜6が形成されている。 - 特許庁
An element separating oxide film 2 and a protection film 3 are formed on the main surface of a semiconductor substrate 1, and a fuse 4b and an alignment mark 4a are formed on the protection film 3.例文帳に追加
半導体基板1の主表面に素子分離酸化膜2および保護膜3が形成され、その保護膜3上にヒューズ4bとアライメントマーク4aが形成されている。 - 特許庁
An upper layer protection film 13 composed of a polyimide and a sealing film 14 made of an epoxy resin are provided on the upper surface of the lower layer protection film 5 containing the re-wiring 9.例文帳に追加
再配線9を含む下層保護膜5の上面にはポリイミドからなる上層保護膜13およびエポキシ系樹脂からなる封止膜14が設けられている。 - 特許庁
Thus, the gap is formed between the light shielding film 14 and the protection film 13, and the light shielding film 14 and the protection film 13 are continued to only the support part 15 formed by the same metal material as the light shielding film 14.例文帳に追加
したがって、遮光膜14と保護膜13との間にギャップが形成され、遮光膜14と保護膜13とは遮光膜14と同じ金属材料により形成された支持部15のみで繋がっている。 - 特許庁
The Ni film forming step (S22) is a step of forming an Ni film on IGBT after the protection film forming step.例文帳に追加
Ni膜形成工程(S22)は、上記の保護膜形成工程後に、IGBT上にNi膜を形成する工程である。 - 特許庁
The organic protection film 4 is provided which keeps a polychloroparaxylylene film 52 and a polyparaxylylene film 53 overlying an adherend 51 in this order.例文帳に追加
有機保護膜4は、被着体51にポリクロロパラキシリレン膜52とポリパラキシリレン膜53とがこの順に積層されている。 - 特許庁
A metal film 8 is formed on the surface of a SOI substrate 7, and a protection film 12 is formed on the surface of the metal film 8.例文帳に追加
SOI基板7の表面に金属膜8を形成し、金属膜8の表面に保護膜12を形成する。 - 特許庁
The slide protection films 13 and 23 are formed by a coating type insulation film and the lamination film of DLC film according to the plasma CVD.例文帳に追加
摺動保護膜13,23は、塗布型絶縁膜と、プラズマCVDによるDLC膜の積層膜により形成される。 - 特許庁
PRODUCTION METHOD FOR OPTICAL FUNCTIONAL FILM, OPTICAL FUNCTIONAL FILM, PROTECTION FILM FOR POLARIZING PLATE AND POLARIZING PLATE AND IMAGE DISPLAY DEVICE例文帳に追加
光学機能フィルムの製造方法、光学機能フィルム、偏光板用保護フィルム及び偏光板、画像表示装置 - 特許庁
For instance, a real amorphous silicon film 21 and a silicon nitride film (channel protection film forming film) 22 are formed on the upper surface of a gate insulating film 3, and a resist film 23 is formed on the silicon nitride film.例文帳に追加
例えば、ゲート絶縁膜3の上面には真性アモルファスシリコン膜21および窒化シリコン膜(チャネル保護膜形成用膜)22が成膜され、その上にはレジスト膜23が形成されている。 - 特許庁
The protection film is etched and the material is removed, so that a second surface finishing layer which is smoother than the first surface finishing layer is provided on the protection film.例文帳に追加
保護膜はエッチングされ、材料が取り除かれ、保護膜に、第一の表面仕上げより平滑な第二の表面仕上げ層が設けられる。 - 特許庁
The protection film 52a remains while the etching mask 52b is removed.例文帳に追加
次に、保護膜52aを残存させたままエッチングマスク52bを除去する。 - 特許庁
To provide an SiO_2-based film formation composition that is easy to peel a protection film after the diffusion of impurities and has superior protection effect.例文帳に追加
不純物拡散後の保護膜の剥離が容易であり、より高い保護効果を有するSiO_2系の膜形成組成物を提供すること。 - 特許庁
A protection film is formed on the side of the recording medium opposite to the substrate.例文帳に追加
記録媒体上の、基板と反対側に保護膜が成膜される。 - 特許庁
As a result, a protection film 25 is formed only on the side of the main part.例文帳に追加
この結果、本体部の側面のみに保護膜25が形成される。 - 特許庁
To provide an organic protection film which can be a protection film for devices and the like capable of achieving a sufficient reliability in insulating properties and chemical resistance, an ink jet head, and manufacturing methods of the organic protection film and the ink jet head.例文帳に追加
十分な絶縁性及び耐薬品性における信頼性を確保できるデバイス等の保護膜となり得る有機保護膜、インクジェットヘッド、有機保護膜の製造方法、及びインクジェットヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁
A protection film 20 is formed in advance in a position corresponding to a photosensitive part, and a transfer electrode layer 16a is formed in a region not involving the protection film 20.例文帳に追加
受光部に対応する位置に予め保護膜20を形成し、保護膜20以外の領域に転送電極層16aを形成する。 - 特許庁
To efficiently peel a surface protection film of a cover lay by consecutive operations.例文帳に追加
カバーレイの表面保護フィルムを連続動作で効率よく剥離する。 - 特許庁
POLARIZER PROTECTION FILM, POLARIZING PLATE USING SAME AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE例文帳に追加
偏光子保護フィルム及びそれを用いた偏光板、液晶表示装置 - 特許庁
POLARIZER PROTECTION FILM, POLARIZER WITH ANTIREFLECTION FUNCTION AND OPTICAL PRODUCT例文帳に追加
偏光板保護フィルム、反射防止機能付偏光板及び光学製品 - 特許庁
To provide a polarizing plate which has a low viscosity to allow coating at room temperature in sticking the protection film to the polarizer and in which a polarizer and a protection film are stuck together using a photocurable adhesive which does not dissolve the protection film.例文帳に追加
偏光子に保護膜を貼合する際に室温での塗工が可能な低い粘度を有し、保護膜を溶かさない光硬化性接着剤を用いて、偏光子と保護膜とが貼合された偏光板を提供する。 - 特許庁
The end part of the protection film 31 is buried in the packing 27 and the invasion of moisture between the translucent cover 13 and the end part of the protection film 31 is prevented and the scattering prevention function of the protection film 31 in the case of breakage of the translucent cover is maintained.例文帳に追加
保護膜31の端部がパッキング27に埋もれ、透光性カバー13と保護膜31の端部との間への水分の浸入を防止し、透光性カバー13が割れた場合の保護膜31による飛散防止機能を維持する。 - 特許庁
Furthermore, a protection film 6 is fitted on the outer circumference of the glass tube 2.例文帳に追加
また、ガラス管2の外周面には保護フィルム6が被着されている。 - 特許庁
Further, a protection film 4 is formed on the inner circumference of the glass tube 2, and a phosphor layer 5 is laminated on the inner circumference of the protection film 4.例文帳に追加
また、ガラス管2の内周面には保護膜4が着膜され、さらに保護膜4の内周面には、蛍光体層5が積層されている。 - 特許庁
Thereafter, after a certain period of time is passed, the composition for the protection film is peeled off.例文帳に追加
その後、一定期間経過後に、保護フィルム用組成物を剥離する。 - 特許庁
JIG FOR HEAT TREATMENT AND SURFACE PROTECTION FILM FORMING METHOD THEREFOR例文帳に追加
熱処理用治具の表面保護膜形成方法及び熱処理用治具 - 特許庁
Further, the protection film 10 can be formed simultaneously in the same process as the pixel electrode 9, and thereby the protection film 10 can be formed without using a dedicated device and process for formation of the protection film 10.例文帳に追加
また、保護膜10は、画素電極9と同一の工程で同時に形成することができるので、保護膜10を形成するための専用の装置や工程を用いることなく、保護膜10を形成することができる。 - 特許庁
A polyimide layer is provided on a protection film of FET, and a shield metal is provided.例文帳に追加
FETの保護膜上にポリイミド層を設け、シールドメタルを設ける。 - 特許庁
An organic compound layer 21 is formed on the second protection film 20.例文帳に追加
第2保護膜20上には、有機化合物層21が形成されている。 - 特許庁
SPUTTERING TARGET FOR FORMATION OF OPTICAL LOGGING PROTECTION FILM CAPABLE OF DC SPUTTERING例文帳に追加
直流スパッタリング可能な光記録保護膜形成用スパッタリングターゲット - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF PLASMA DISPLAY PANEL, AND MANUFACTURING DEVICE OF DIELECTRIC PROTECTION FILM例文帳に追加
プラズマディスプレイパネルの製造方法および誘電体保護膜製造装置 - 特許庁
The polarizing plate for liquid crystal display is obtained by laminating the protection film on the side of the liquid crystal cell and another protection film one over the other across a polarizer.例文帳に追加
この液晶セル側保護フィルムと別の保護フィルムとで偏光子を挟んで積層することによって液晶表示用偏光板を得る。 - 特許庁
At least the protection film 8 on the wiring inside a region overlapping the bonding pad 14 is bridged with the protection film 8 on its adjacent wiring.例文帳に追加
少なくともボンディングパッド14と重なる領域内の上記配線上の保護膜8は、隣合う配線上の保護膜8と橋架している。 - 特許庁
The upper-layer protection insulation film could contain silicon and nitride.例文帳に追加
上層保護絶縁膜は、シリコンおよび窒素を含有することができる。 - 特許庁
To provide an arcing and charging protection film composition, and to provide a field emission element with an arcing and charging protection film formed therefrom.例文帳に追加
アーキング及びチャージング保護膜組成物、及びそれから形成されたアーキング及びチャージング保護膜を備えた電界放出素子を提供する。 - 特許庁
KIT FOR FORMING METAL ELECTRODE PROTECTION FILM, METAL ELECTRODE PROTECTION FILM AND FORMATION METHOD THEREFOR, AND SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加
金属電極保護膜作製用キット、金属電極保護膜及びその製造方法、並びに半導体発光デバイス及びその製造方法 - 特許庁
ANTIREFLECTION AGENT, ANTIREFLECTION MATERIAL, PROTECTION FILM FOR POLARIZING PLATE, AND POLARIZING PLATE例文帳に追加
反射防止剤、反射防止材、偏光板保護フィルム、及び偏光板 - 特許庁
To reduce parasitic resistance in a Zener diode for input protection, and to increase the gate insulating film protection function in the Zener diode.例文帳に追加
入力保護用ツェナーダイオードの寄生抵抗を小さくして同ダイオードのゲート絶縁膜保護機能を高める。 - 特許庁
A reflective mask blank is prepared in which a multilayer reflection film 12, a protection film 13, an absorption film, and a rear face conductive film are formed on a substrate 11.例文帳に追加
基板11上に多層反射膜12、保護膜13、吸収膜、裏面導電膜が形成された反射型マスクブランクスを準備する。 - 特許庁
An interlayer insulating film is formed on a substrate 1 with lamination structure that pinches an SiO_2 film 3 as a protection film between an organic film 2 and an SiOC-based film 4 as a low dielectric constant film.例文帳に追加
低誘電率膜である有機膜2とSiOC系膜4との間に、保護膜としてSiO_2膜3を挟持してなる積層構造の層間絶縁膜を、基板1上に形成する。 - 特許庁
An insulation film 17 being a final protection film and the insulation film for the thin film resistor protection is deposited on the entire surface of the semiconductor substrate 1 by a plasma CVD manner using a trimethoxysilane as the base material (C).例文帳に追加
トリメトキシシランを原材料としたプラズマCVD法により最終保護膜及び薄膜抵抗体保護用の絶縁膜としての絶縁膜17を半導体基板1上全面に堆積させる(C)。 - 特許庁
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