「Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(259ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a paper feeder capable of being cleaned automatically or by a user according to the degree of deposition of foreign matters on a surface of a paper feed member, and capable of avoiding interruption of an image forming work.例文帳に追加

給紙部材の表面への異物付着度合いに応じて自動的にまたはユーザ自身で清掃できるようにして画像形成作業の中断を避けることが可能な構成を備えた給紙装置を提供する。 - 特許庁

A heater housing part 102 sealed against the treating chamber 30 is formed in the vapor deposition head 65, and a communication passage 101 which communicates between the heater housing part 102 and the outside of the treating chamber 30 is provided.例文帳に追加

蒸着ヘッド６５の内部には、処理室３０内に対して封止されたヒータ収納部１０２が形成されるとともに、ヒータ収納部１０２と処理室３０の外部とを連通させる連通路１０１が設けられる。 - 特許庁

To provide a continuous manufacturing apparatus for nano carbon enabling the realization of the continuous running of the CVD (Chemical Vapor Deposition) by a basal plate method using a rotary table having the basal plates and excellent in the stability and controllability employing the advantage of the basal plate method.例文帳に追加

基板を有する回転テーブルを用いて基板法ＣＶＤの連続運転を実現可能にし、基板法の利点を生かした安定性、制御性の良いナノカーボンの連続製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a deposition friction stir welding process that compensates for the production of flash and general thinning of material along the joint line as well as a relatively smooth transition from the non-weld regions to the welded region.例文帳に追加

フラッシュの生成、および溶接線に沿って材料が概して薄くなることを補償し、溶接されない領域から溶接された領域に比較的滑らかに移行する堆積摩擦攪拌溶接方法を提供する。 - 特許庁

To provide an organic EL display device excellent in light emitting property, in which elements can be deposited by contacting a substrate and a mask closely without complicating a mechanism of a vapor deposition apparatus, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

蒸着装置の機構を複雑にすることなく、基板とマスクとを確実に密着させて素子の蒸着を行うことができる、発光特性に優れた有機ＥＬ表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The problem is solved by controlling a substrate temperature at the start of forming a phosphor layer by the vapor phase deposition to 152-189°C and controlling a substrate temperature at the end of such forming to 190-250°C, respectively.例文帳に追加

気相堆積法による蛍光体層の形成開始時における基板温度を１５２〜１８９℃に、形成終了時における基板温度を１９０〜２５０℃に、それぞれ制御することにより、前記課題を解決する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an electrode plate effectively preventing an active material layer from blocking, as a result, with excellent battery performance, restraining deposition of metal (generation of dendrite) and short-circuit, with excellent productivity.例文帳に追加

活物質層のブロッキングを有効に防止し、その結果、電池性能がよく、金属の析出（デンドライトの発生）およびショートの発生を抑制し、さらに生産性のよい電極板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The vapor deposition apparatus has two perpendicular/horizontal transport mechanisms 100 which can each independently move a substrate-holding tool 18 in a horizontal direction and a perpendicular direction in a chamber 1.例文帳に追加

気相成長装置は、チャンバ１内で基板保持器具１８を水平方向および垂直方向のそれぞれに独立して移動させることが可能な２つの垂直・水平方向搬送機構１００を備えている。 - 特許庁

To provide a silicon carbide surface which is electrically excellent with less defect by removing at least a part of the surface of silicon carbide formed on a substrate through chemical vapor deposition(CVD) by at least 500 nm.例文帳に追加

化学蒸着（ＣＶＤ）により基板上に形成された炭化珪素の表面の少なくとも一部を５００ｎｍ以上除去することにより、欠陥が少なく電気的に良好な炭化珪素表面を提供する。 - 特許庁

This modifying method is characterized by forming a mixed film of copper and boron nitride on the surface of the inner wall of the vacuum vessel through simultaneous sputter deposition of copper and boron nitride with the use of a target made from a mixture of copper and boron nitride.例文帳に追加

銅と窒化ホウ素の混合体をターゲットとし、真空容器の内壁表面に銅と窒化ホウ素を同時にスパッタ蒸着して銅と窒化ホウ素の混合膜を真空容器内壁表面に形成させる。 - 特許庁

In the manufacturing method of a mask 1 for vapor deposition, a plurality of metallic thin films 10 are fixed to a frame 11 while applying the tension T thereto, and then, a plurality of through hole patterns 10A are formed in each metallic thin film 10.例文帳に追加

蒸着用マスク１の製造方法は、複数の金属薄膜１０を、張力Ｔを付加しつつ枠体１１に固着させたのちに、各金属薄膜１０に複数の透過孔パターン１０Ａを形成する。 - 特許庁

The protective film for the surface of a metal working tool is composed of a mixed film or a stacked film of the nitride of a transition metal element and carbon having an amorphous structure and deposited on a metal surface by a vapor phase thin film deposition process.例文帳に追加

気相薄膜形成法によって金属表面に形成される、遷移金属元素の窒化物と非晶質構造の炭素との混合膜又は積層膜からなる金属加工工具表面保護膜。 - 特許庁

To provide an ITO sputtering target in which nodules are hardly produced and which is stably used for film deposition to its life end even in the case when the plate thickness of a sintered compact used for the target is made thicker than that of a conventional one.例文帳に追加

ターゲットに用いられる焼結体の板厚が従来より厚くなった場合においても、ノジュールの発生量が少なく、ライフエンドまで安定して成膜することが可能なＩＴＯスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

The position 1012 of ink droplet deposition may be varied by changing the position of a printing head during printing and/or moving the position of the substrate laterally (for example, vertically to the printing direction) during printing.例文帳に追加

液滴着地位置１０１２の変動は、印刷中に印字ヘッド位置を変化させること及び／又は印刷中に基板の位置を横方向に（例えば、印刷方向と直角に）移動させることによって達成してもよい。 - 特許庁

In the cleaning step (step S13), the residual film removing treatment for removing the residual film adhering to the chamber by the deposition treatment, and the residue removing treatment for removing the residue of the product by the residual film removing treatment are executed.例文帳に追加

クリーニング工程（ステップＳ１３）では、チャンバに付着している成膜処理による残膜を除去する残膜除去処理と、残膜除去処理による生成物の残渣を除去する残渣除去処理とが実行される。 - 特許庁

To provide a plating process including the application of a soft metallic coating, composed of substantially pure metal or alloy, to resilient metal seals utilizing a high-volume, high-energy electro-deposition plating process.例文帳に追加

本発明は、高容量および高エネルギーの電着めっきプロセスを用いた、弾力性金属シールにほぼ純粋な金属あるいは合金からなる軟質金属コーティングの塗布を含むめっき方法を提供する。 - 特許庁

The rotating mechanism 7 has a bearing 9 arranged with a cylinder-shaped pressing member 8 installed between the bottom surface of bottom wall 1a of the deposition chamber 1 and itself, and a drive source 10 arranged down below the bearing 9.例文帳に追加

回転機構部７は、成膜室１の底壁部１ａの下面との間に筒状の押え部材８を介設した状態で配置した軸受９と、軸受９の下方に配置した駆動源１０とを有する。 - 特許庁

To provide a device and a method for manufacturing an information recording disk to effectively prevent production of particles in a PCVD chamber for formation of a carbon film and to improve the productivity, and to provide a method for plasma ashing to efficiently remove a carbon deposition film.例文帳に追加

本発明は、カーボン膜形成用ＰＣＶＤ室のパーティクル発生を効果的に防止し、生産性を向上させる情報記録ディスク製造装置及び方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To form a piezoelectric layer 4, an aerosol deposition method which does not require a sintering process (the method of forming a thin film by spraying an aerosol containing material particles and sticking the particles) is used.例文帳に追加

これとともに、圧電層４の形成に、焼成工程を必要としないエアロゾルデポジション法（材料粒子を含むエアロゾルを噴き付けてこの粒子を付着させることにより薄膜を形成する方法）を用いる。 - 特許庁

The vacuum film deposition apparatus 3 has a locking mechanism for holding the swing arm 90 at the closing position, and an energizing member 61 for energizing the swing arm 90 toward the opening position side when the swing arm 90 is at the closing position.例文帳に追加

真空成膜装置３は、スイングアーム９０を閉位置に保持するロック機構と、スイングアーム９０が閉位置にあるとスイングアーム９０を開位置側に向かって付勢する付勢部材６１と、を備えている。 - 特許庁

To provide a developing device in which the adhesion and deposition of a toner to an opposite surface of a case opposing to a developer carrier are reduced and the occurrence of an abnormal image, such as an image stain, is averted, a process cartridge, and an image forming apparatus.例文帳に追加

現像剤担持体に対向するケースの対向面へのトナーの付着堆積が軽減されて、画像汚れ等の異常画像が生じることのない現像装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a skin-whitening agent that effectively suppress the formation of melanin, prevents and improves the deposition of pigment after sunburn, flecks, age spots, liver spots and the like with high safety and provide an external preparation for skin-whitening including the skin-whitening agent.例文帳に追加

メラニンの生成を抑制し、日焼け後の色素沈着・しみ・そばかす・肝斑等の予防および改善に有効で、かつ安全性が高い美白剤およびそれを配合した美白用皮膚外用剤を提供する。 - 特許庁

This is the porous oxide film comprised that ultra fine particle materials in which the particle size is 10 nm to 3 μm and in which the particle size distribution is within a range of 0.2 M to 3 M against the median particle size M are film-formed by means of a gas deposition method (GD method).例文帳に追加

粒径が１０ｎｍ〜３μｍであり、粒径分布がメジアン粒径Ｍに対し０．２Ｍ〜３Ｍの範囲内にある超微粒子材料をガスデポジション法（ＧＤ法）で成膜して成る多孔質酸化物膜である。 - 特許庁

Thus, the parts exchange frequency is reduced, and the cleanliness inside the film deposition chamber can be retained.例文帳に追加

また、本発明は、蒸着ホルダを成膜室から設置室１０３ｂに移動させた後、蒸着ホルダの部品、代表的には膜厚モニタやシャッター等をクリーニングすることで交換頻度を下げ、成膜室内の清浄度を保つことができる。 - 特許庁

To provide a photopolymerization initiator which can eliminate or at least reduce the accumulation of scum and residue in a developing solution and a resist stripper and the deposition of the scum and residue on a device and a printed wiring board.例文帳に追加

現像液と剥離液中のスカムと残渣の蓄積並びに装置とプリント配線板上のスカムや残渣の堆積をなくすか、少なくとも低下させることの出来る光重合開始剤成分を提供する。 - 特許庁

The film deposition apparatus 1 includes a magnetic field forming device 5, and the magnetic field forming device 5 forms first and second magnetic line groups Ma, Mb being parallel to each other and having opposite directions at the inside of a vacuum tank 2.例文帳に追加

本発明の成膜装置１は磁界形成装置５を有しており、磁界形成装置５は真空槽２内部に互いに平行であって、かつ逆向きの第一、第二の磁力線群Ｍａ、Ｍｂを形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a solid electrolyte thin film and a parallel flat-plate type magnetron sputtering device, which can improve a deposition rate and is free from damage caused by energy of plasma, and to provide a manufacturing method for a thin-film solid lithium ion secondary battery.例文帳に追加

成膜速度が向上し、プラズマのエネルギによるダメージがない固体電解質薄膜の製造方法、平行平板型マグネトロンスパッタスパッタ装置、及び薄膜固体リチウムイオン２次電池の製造方法の提供。 - 特許庁

Measurement data including particle size distribution of the solid particle, bottom compression pressure and average porosity of a sedimentation deposition layer, partial porosity in a cake, and the product of partial specific resistance and grain density in the cake are acquired.例文帳に追加

固体粒子の粒度分布と、沈降堆積層の底部圧縮圧力および平均空隙率と、ケーク内の部分空隙率と、ケーク内の部分比抵抗および粒子密度の積とを含む実測データを取得する。 - 特許庁

To provide a radius end mill which can prevent the breakage of corner cutting edges and the deposition of chips and can appropriately perform a high speed and high feed cutting operation, etc. when a non-ferrous metal, such as aluminum, is cut by the radius end mill.例文帳に追加

ラジアスエンドミルによりアルミニウムなどの非鉄金属を切削する際に、コーナ刃が欠損したり、切り屑が溶着したりするのを防止し、高速で高送りの切削等が適切に行えるようにする。 - 特許庁

To provide a film deposition method with which, when a plurality of film layers corresponding to optical properties are formed on a transparent substrate, density gradients in a gradation region where film thickness is gradually decreased can be set per film layer.例文帳に追加

透明な基板上に光学特性に応じた複数の膜層を形成する際に、膜厚さが漸減するグラデーション領域の濃度勾配を膜層毎に設定することの可能な成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide an additive and a film deposition method in which copper plating is preferentially progressed in grooves with the width of ≤1 μm or holes with the diameter of ≤1 μm to prevent the generation of voids, in a copper plating process in a semiconductor.例文帳に追加

半導体における銅めっきプロセスにおいて、幅１μｍ以下の溝もしくは直径１μｍ以下のホール内で優先的に銅めっきを進行させボイドが生じない添加剤及び成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a compound which serves as a photoelectric conversion element when applied to the photoelectric conversion element, exhibits high photoelectric conversion efficiency, low dark current, and rapid response, and does not decompose during vapor deposition.例文帳に追加

光電変換素子に適用した場合に光電変換素子として機能し、高光電変換効率、低暗電流性、高速応答性を示し、かつ蒸着時に分解が起こらない化合物を提供すること。 - 特許庁

To suppress the generation of a foreign material in an exhaust mechanism for reducing the pressure within a deposition chamber in a thin film forming apparatus for forming a thin film on a substrate by oxidizing the component of a gaseous raw material by gaseous ozone.例文帳に追加

オゾンガスにより原料ガスの成分を酸化することで基板の上に薄膜を形成する薄膜形成装置において、成膜室内を減圧するための排気機構における異物発生を抑制する。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for producing a hot dip plated metal strip by which the defect of buckling in a metal strip can be suppressed while preventing the defect of quality and the reduction of operation efficiency caused by the deposition of dross or the like.例文帳に追加

ドロス付着等による品質不良や操業効率低下を防止しつつ、腰折れ欠陥をも抑制することのできる溶融めっき金属帯の製造装置及び製造方法を提供する。 - 特許庁

The deformation and deposition of the outer frames 9a, 9b of the manifold due to the inner pressure produced in the manifolds 7a, 7ba have no effect upon the opening (h) of the slit 3 because the diaphragms 10a , 10b are deformed with that of the manifold outer frames9a, 9b.例文帳に追加

また、マニホールド７ａ，７ｂに発生した内圧力により、マニホールド外郭部９ａ，９ｂが変形変位するが、ダイヤフラム１０ａ，１０ｂがこれとともに変形し、スリット３の開度ｈに影響しない。 - 特許庁

To provide a method, an apparatus and a program for manufacturing an optical fiber preform by which the optical fiber preform small in the change of deposition in the longitudinal direction is manufactured only by the rate control of a heating source.例文帳に追加

熱源の速度制御のみにより長手方向における堆積量の変動が少ない光ファイバー母材を製造することができる光ファイバー母材の製造方法、製造装置および製造プログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a cellulose acylate film obtained by a casting film formation method which causes only a slight increase in haze and no deposition of functional additives even when a draw ratio is increased and is excellent in durability.例文帳に追加

流延製膜方法により得られるセルロースアシレートフィルムであって、延伸倍率を上げても、ヘイズの増加少なく、機能性の添加剤の析出（泣き出し）がなく、耐久性に優れたセルロースアシレートフィルムを提供すること。 - 特許庁

To provide a technology to improve Ic by forming a superconducting oxide thin film comprising large crystal grains and having few crystal grain boundaries, on a polycrystal substrate by a fluorine-free metal organic deposition (FF-MOD) method.例文帳に追加

ＦＦ−ＭＯＤ法を用いて多結晶基板上に、大きい粒サイズの結晶粒からなり結晶粒界が少ない酸化物超電導薄膜を形成してＩｃの向上を図る技術を提供する。 - 特許庁

To provide a clamp device giving structural completeness to T-boxes in a boiling water reactor pressure vessel and firmly holding welded seams when one or more deposition sections are broken.例文帳に追加

沸騰水型原子炉圧力容器内のＴ−ボックスに構造的な完全さを持たせると共に、１つ又は更に多くの溶着部が破損した場合に、溶接された継目をしっかりと保持するクランプ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a fluid control valve device, in which malfunction or breakage is prevented even if it is operated under a low temperature environment wherein water drops can be frozen, by reducing the deposition amount of water drops in a part in contact with a valve.例文帳に追加

バルブと接触する部分における水滴の付着量を低減して、水滴が凍結し得る低温環境下で作動させても作動不良や破損することのない流体制御バルブ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a ground reinforcing agent displaying a crack inhibition effect, a moisture evaporation inhibition effect, a ground reinforcing effect and a salt deposition inhibition effect to a ground to be preserved and a method using it.例文帳に追加

保存しようとする地盤に対してひび割れ抑制効果・水分蒸発抑制効果・地盤補強効果・塩分析出抑制効果を発揮するような地盤補強剤、およびこれを用いる方法を提供する。 - 特許庁

This invention provides a method for manufacturing a matrix of carbon nanotubes by the chemical vapor deposition method, in which grown tubes have a uniform and controlled length and do not connect with each other and can easily disperse, as compared to the conventional technology.例文帳に追加

従来の技術に比べて、本発明は化学気相成長法により、一種の生長の長さが均一で且つ制御され、結ばなく、分散し易い炭素ナノチューブのマトリックスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum thin-film deposition device, which can form a thin film of a high quality on a light incident and a light emitting end face of a semiconductor optical device, with a vacuum chamber being kept at high vacuum.例文帳に追加

真空室を高真空に保持したままで、半導体光デバイスにおける光入射端面および光出射端面に高い品質の薄膜を形成できるようにする真空薄膜成膜装置の提供にある。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a transparent conductive film by which a transparent conductive film having a low resistivity and satisfactory optical characteristics by suppressing generation of streamer during film-deposition and reducing mixing of particles in the film caused by generation of streamer to suitably prevent deterioration of resistivity and having favorable texture (ruggedness) formed on the surface even when proper ruggedness does not exist on the deposition surface can be film-deposited with high productivity.例文帳に追加

成膜中のストリーマの発生を抑制して、ストリーマ発生に起因する膜中へのパーティクルの混入を減少させ、抵抗率の劣化を好適に防止した低い抵抗率および良好な光学特性を有し、しかも、成膜面に適正な凹凸が無い場合でも、表面に好適なテクスチャ（凹凸）が形成された透明導電膜を、高い生産性で成膜することができる透明導電膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

The protective film for PDP is formed by the electron beam vapor deposition method, the ion irradiation vapor deposition method or the sputtering method using the single crystal MgO sintered compact as the target material.例文帳に追加

粒径２００μm以上の粒子を含有するとともに、Ｘ線回折法により測定した（２００）面のＸ線強度及び（１１１）面のＸ線強度を、それぞれａカウント毎秒及びｂカウント毎秒としたとき、２０＜ａ／ｂ＜３００であることを特徴とする単結晶ＭｇＯ焼結体、及び、この単結晶ＭｇＯ焼結体をターゲット材として使用し、電子ビーム蒸着法、イオン照射蒸着法、又はスパッタリング法により製造したＰＤＰ用保護膜である。 - 特許庁