Depositionを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 17021件
In one or more embodiments, the first zone denotes a radially inner zone and the second zone denotes a radially outer zone wherein a ratio of inner zone gas flow rate to an outer zone gas flow rate during the deposition is smaller than that during the etching.例文帳に追加
一つ以上の実施形態において、第1ゾーンは内部半径方向ゾーンであり、第2ゾーンは外部半径方向ゾーンであり、内部ゾーンガス流と外部ゾーンガス流との比はエッチングの間より堆積の間の方が小さい。 - 特許庁
In the repair method in which cladding by welding is applied on a rotor material to form a repair part, this cladding by welding is thin build-up welding with a high deposition rate, forming the repair part by laminating beads of the thin build-up welding.例文帳に追加
ロータ材に肉盛溶接を施し、補修部を形成する補修方法において、前記肉盛溶接は溶着速度の速い薄盛溶接であり、その薄盛溶接のビードを積層することにより前記補修部を形成する。 - 特許庁
Based on the conversion result, the driving speed of a motor 6 for moving the lid 5 upward is controlled to keep the distance between the surface of the single crystal (deposition surface) grown at the underside of the lid 5 and the surface of the raw material 11 to be constant.例文帳に追加
そして、その換算結果に基づき、蓋5の下面に成長した単結晶表面(析出面)と原料11の表面との距離が一定になるように、蓋5を上方に移動させるモータ6の駆動速度を調節する。 - 特許庁
A through hole 6 that communicates with each recessed part is formed at the glass pedestal 7, and a surface at the opposite side of the junction surface with the silicon wafer is metallized by deposition or sputtering using metal to form a metal film 8.例文帳に追加
ガラス台座7には各凹所に連通する貫通孔6が形成されており、シリコンウェハ2との接合面13と反対側の面は蒸着又はスパッタなどにより金属でメタライズされて金属膜8が形成される。 - 特許庁
The substrate processing device hermetically connects a film deposition device 101 for performing ALD and a heat treatment device 102 for performing annealing treatment to a vacuum transfer chamber 103, and is provided with a rotating stage 132 as a revolution mechanism in the vacuum transfer chamber 103.例文帳に追加
ALDを行う成膜装置101と、アニール処理を行う熱処理装置102と、を真空搬送室103に気密に接続すると共に、真空搬送室103内に自転機構である回転ステージ132を設ける。 - 特許庁
To provide a gas-barrier film which relaxes propagation of an external stress to the barrier layer by imparting a stress relaxing layer to the outer surface of the vapor deposition film and presents performance from deteriorating even under compression/expansion stress due to changes of the circumstance.例文帳に追加
蒸着膜の外面に応力緩和層を付与することで、外部応力のバリア層への伝播を緩和し、環境変化による圧縮/膨張応力によっても性能が劣化しないガスバリアフィルムを提供すること。 - 特許庁
The biaxially oriented polyamide film, characterized in that the elongation in the transverse direction (TD direction) when moisture is absorbed by changing humidity from 20°C, 0%RH to 20°C, 65%RH is 2.5% or less, is used as a substrate film for transparent vapor deposition.例文帳に追加
20℃、0%から20℃、65%RHへ湿度変化させたときの横方向(TD方向)吸湿伸び率が2.5%以下であることを特徴とする二軸延伸ポリアミドフィルムを透明蒸着用基材フィルムとして用いる。 - 特許庁
To reduce the production cost of an EL (electroluminescent) layer, to make excellent the uniformity in the film deposition of the EL layer and throughput, and to avoid the contamination by impurities by increasing the utilizing efficiency of an EL material.例文帳に追加
本発明は、EL材料の利用効率を高めることによって製造コストを削減し、且つ、EL層成膜の均一性やスループットの優れた製造装置の一つである蒸着装置及び蒸着方法を提供する。 - 特許庁
The film deposition device is provided with a plurality of first chambers 11 for forming a soft magnetic thin film on a base material by sputtering and at least one second chamber 12 for layering and forming a non-magnetic thin film on the soft magnetic thin film by sputtering.例文帳に追加
基材に軟磁性薄膜をスパッタリングにより形成するための複数の第1チャンバ11と、軟磁性薄膜に非磁性薄膜をスパッタリングにより積層して形成するための少なくとも1つの第2チャンバ12とを備える。 - 特許庁
To provide a deposition method for smoothly providing desired pattern shapes of material layers while improving throughput when a plurality of different material layers are laminated on a substrate, and also to provide a manufacturing method of a light-emitting device.例文帳に追加
基板上に異なる複数の材料層を積層する際、スループットを向上しつつ、円滑に材料層の所望のパターン形状を得る成膜方法および発光装置の作製方法を提供することを課題とする。 - 特許庁
When CF_4 gas is not added to treatment gas (c), the amount of a deposition of deposit 310 at a mask opening is increased in the latter half of etching treatment when a hole is deep, and the aperture diameter Rc1 of the mask is made extremely narrow.例文帳に追加
処理ガスにCF_4ガスを添加しない場合(c),ホールが深くなっているエッチング処理の後半では,マスク開口部における付着物310の堆積量が多くなり,マスクの開口径Rc1は,極めて狭くなってしまう。 - 特許庁
To provide a ceramic-coated member in which a gradient composition structure, in which the composition of the boundary between the respective films continuously changes, is formed using electron beam physical deposition, and which has excellent heat shielding properties and excellent thermal cycle life.例文帳に追加
電子ビーム物理蒸着を用いて、各皮膜間の界面の組成が連続的に変化する傾斜組成組織が形成され、遮熱特性、熱サイクル寿命に優れたセラミックス被覆部材を提供することを目的とする。 - 特許庁
More specifically, the film is formed by specifying the sputtering gaseous pressure during the deposition of the Ru ground surface layer to 8.9 to 14 Pa (67 to 105 mTorr) and the X-ray diffraction peak intensity ratio of the Ru layer is specified to (002)/(100)≤0.4.例文帳に追加
具体的には、Ru下地層成膜時のスパッタガス圧力を8.9Pa〜14Pa(67mTorr〜105mTorr)として膜形成し、Ru層のX線回折ピーク強度比を(002)/(100)≦0.4とする。 - 特許庁
It is desirable that the piezoelectric thin-films and the metallic thin-films can be formed alternately and continuously without an extraction to the outside from the inside of one deposition device, in the piezoelectric thin-film element to be manufactured in a forming process for the laminated region 3.例文帳に追加
この積層領域3の形成工程においては、製造すべき圧電薄膜素子を、一つの成膜装置内から外部に出すことなく圧電体薄膜と金属薄膜を交互に、且つ連続的に成膜することが望ましい。 - 特許庁
After depositing the coating film with the spray gun, the spray gun is moved to outside a coating film deposition area, a cap is applied to the tip of the spray gun and the inner and outer surfaces of the tip of the nozzle are washed with a washing liquid from a nozzle through an air jetting hole.例文帳に追加
スプレーガンによる塗膜形成後、このスプレーガンを塗膜形成領域外に移動し、スプレーガンの先端にキャップをあてがい、洗浄液をノズルからエアー噴出孔を通じてノズルの先端の内外面を洗浄する。 - 特許庁
To provide a new method for depositing a microperiodic structure in which, by devising a general deopsition method, the degree of freedom in the deposition method is expanded as possible, and utilization for magnetic and optical memories and optical elements is made possible.例文帳に追加
一般的形成法を工夫して、可能な限りの形成法の自由度を拡大し、磁気的、光学的メモリ及び光素子に利用可能となる微小周期的構造の新しい形成法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a sputtering method and system with which occurrence of arc discharge on a target can be suppressed over a long period of time, and also, an extremely thin film can be secured at a high film deposition rate with high in-plane uniformity.例文帳に追加
本発明は、ターゲット上でのアーク放電の発生を長期的に抑制でき、かつ、速い成膜速度にて非常に薄い膜を高い面内均一性で確保できるスパッタリング方法及び装置を提供するものである。 - 特許庁
In a co-extrusion laminated film consisting of an antistatic agent-containing layer (A) and an antistatic agent-free layer (B), an anchor coat layer and an inorganic matter vapor deposition layer are successively formed on the surface of the antistatic agent-free layer (B).例文帳に追加
帯電防止剤含有層(A)と帯電防止剤非含有層(B)とから成る共押出積層フイルムにおいて、帯電防止剤非含有層(B)の表面にアンカーコート層と無機物蒸着層とを順次に形成して成る。 - 特許庁
In this situation, a conductive film is formed by plating or deposition, or by using metal paste such that it fills the via hole 4 and the opening 6a, and a through electrode 12 is formed by cutting using a cutting tool 11.例文帳に追加
この状態で、メッキ法や蒸着法、または金属ペーストを用いた手法によりビア孔4及び開孔6aを埋め込むように導電膜を形成し、バイト11を用いた切削加工により貫通電極12を形成する。 - 特許庁
This method comprises: a process for spraying at least one kind of material on a support body by plasma spraying or by another deposition technique to obtain the filament molded on the support body; and a process for separating the obtained filament from the support body.例文帳に追加
プラズマ吹付けや他の堆積手法によって支持体上に少なくとも1種類の材料を吹き付けて、支持体上にモールド成形されたフィラメントを得る工程と、得られたフィラメントを支持体から分離する工程とを有する。 - 特許庁
To provide an optical fiber preform which allows the distinct measurement of the boundary between a cored clad and external deposition clad formed in two stages and allows the measurement of a thickness fluctuation and the eccentricity and elliptical shape formation of a cross sectional circular surface and its production.例文帳に追加
2段階で形成される芯付クラッドおよび外付クラッドの境界面が明確に計測でき、厚みの変動、断円面での偏芯や楕円化の測定が可能な光ファイバプリフォーム、およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
In the vapor deposition mask 20, a first aperture 7 is formed in the surface of a substrate 13, and also a second aperture 8 communicating with the first aperture 7 from the rear side and being larger than the first aperture 7 is provided.例文帳に追加
蒸着用マスク20は、基板13表面に第1の開口窓7を形成し、この裏面側から第1の開口窓7に連通し、この第1の開口窓7よりも大きい第2の開口窓8を有するようにしたものである。 - 特許庁
The film composed of the carbon-containing silicon oxide is produced through plasma excitation chemical vapor deposition process by using an organosilicon compound as a base material which has a structure in which alkoxyalkyl is directly bonded to a silicon atom, as shown below in formulae 1 and 4 for examples.例文帳に追加
アルコキシアルキルがケイ素原子に直結した構造を有する有機ケイ素化合物、例えば下式1、4を原料として用い、プラズマ励起化学気相成長法により炭素含有酸化ケイ素からなる膜を形成する。 - 特許庁
To provide a nozzle substrate manufacturing method of not forming a nozzle substrate with multi-step structure nozzle holes by thin-plate machining such as grinding, but forming the nozzle substrate by deposition, thereby achieving enhancement in accuracy in substrate-thickness and nozzle-length.例文帳に追加
多段構造のノズル孔を有するノズル基板を研削等の薄板化加工で形成するのではなく、成膜によって形成することで、板厚・ノズル長さの精度向上が可能なノズル基板の製造方法等を提供する。 - 特許庁
In the laser deposition process, a film pattern 40 containing a functional liquid material is formed on a substrate 21 and irradiated with a laser beam, and a wiring pattern is formed with heat generated through photothermal transformation caused by absorbing laser light.例文帳に追加
レーザ成膜方法は、機能性液状材料を含む膜パターン40を基板21上に形成し、膜パターン40にレーザ光を照射し、レーザ光の吸収による光熱変換で発生する熱で配線パターンを形成する。 - 特許庁
To provide a comfortable health product thanks to e.g. improvement in the touch feeling and UY-cutting rate of textiles and woven fabrics utilizing the resultant bulkiness by changing the structure of silk ( e.g. cocoon, silk threads) by vacuum deposition blasting technique.例文帳に追加
蒸着爆砕法によりシルク(繭及び繭糸など)に構造的な変化を与え、生じた嵩高性を利用した繊維及び織物の風合い、感触、UVカット率の向上などによる、快適な健康商品を得ることを目的とする。 - 特許庁
To provide a force-feed method of cement fluid material and a device thereof, and a spray method of cement-based mixture and a device thereof, capable of effectively preventing the deposition of sludge in a pipe during force-feeding of a cement fluid material.例文帳に追加
セメント流動物の圧送中における管内でのスラッジの堆積を効果的に防止することができるセメント流動物の圧送方法及びその装置並びにセメント系混合物の吹付け工法及びその装置を提供すること。 - 特許庁
To provide an apparatus and method for manufacturing of an electronic device, capable of cleaning vapor deposition masks without giving rise to increase of an occupation space of the electronic device manufacturing apparatus or loss time at flowing of a substrate.例文帳に追加
電子デバイス製造装置の占有スペースの増大や基板を流動させる際のロスタイムを発生させることなく、蒸着マスクをクリーニングすることのできる電子デバイス製造装置および電子デバイスの製造方法を提供すること。 - 特許庁
In a vapor deposition mask structural body manufacturing method, a mask under the tension is fixed to a first frame, a rear side of the mask and a second frame are fixed on the inner side of the first frame, and the mask is cut from the first frame.例文帳に追加
テンションがかかったマスクを第1のフレームに固定し第1のフレームの内側においてマスクの裏面と第2のフレームとを固定し、マスクを第1のフレームから切断して蒸着用マスク構造体の製造方法を提供する。 - 特許庁
To control the temperature of a base material in a part to be deposited with a thin film (film deposition region) to a suitable temperature range and to deposit a thin film uniform along the longitudinal direction of the base material and also having high characteristics.例文帳に追加
薄膜を堆積させる部分(成膜領域)の基材の温度を成膜に適切な温度範囲に制御でき、基材の長さ方向に沿って均一で、かつ高い特性を有する薄膜の形成が可能にすることを目的とする。 - 特許庁
To provide a hot-dip galvanizing device capable of suppressing production and deposition of dross as a zinc ingot is charged in a molten zinc pot with a simple mechanism, and a hot-dip galvanized metal strip manufacturing method using the same.例文帳に追加
溶融亜鉛ポットへの、亜鉛インゴットの投下に伴って、ドロスが発生、堆積するのを、簡単なしくみで抑制できる、溶融亜鉛めっき装置およびそれを用いた溶融亜鉛めっき金属帯の製造方法を提供する。 - 特許庁
To regulate deposition of film-forming material on a supporting claw regarding a film forming method by repeatedly forming a film on a substrate supported on a holder, dismounting the substrate after forming the film from the holder and mounting the new substrate on the holder.例文帳に追加
本件は、ホルダに支持された基板上への製膜と、製膜後の基板のホルダからの取外しおよび新たな基板のホルダへの取付けとを繰り返す製膜方法に関し、支持爪への製膜材料の堆積を抑える。 - 特許庁
A wiring groove 5 is formed within the porous MSQ(2) with the plasma etching with an SiC mask 3 used as a mask, and a deposited film 7 is formed on the entire surface of the silicon substrate 1 including the side surface of the wiring groove 5 using the plasma of deposition gas.例文帳に追加
SiCマスク3をマスクとしたプラズマエッチングによりポーラスMSQ(2)内に配線溝5を形成し、堆積性ガスのプラズマを用いて配線溝5の側面を含むシリコン基板1全面に堆積膜7を形成する。 - 特許庁
The fiber array substrate provided with a plurality of V-shaped grooves is formed on a substrate surface and the solder layer is formed on the surface over the entire part of the substrate by a chemical deposition system and is further diced, thereby, a plurality of the fiber array substrates are formed.例文帳に追加
基板表面に複数のV形溝を具えたファイバアレイ基板を形成し、化学堆積方式で基板全体表面にソルダ層を形成し、さらにダイシングしてソルダ層を具えた複数のファイバアレイ基板を形成する。 - 特許庁
To provide a polyester film for molding that is excellent in moldability under the condition of a low temperature and a low pressure, transparency, solvent resistance, heat resistance and handlability and is excellent in aesthetic appearance when it is provided with a deposition layer, a sputtering layer or a printing layer thereon.例文帳に追加
低い温度及び低い圧力下での成型性、透明性、耐溶剤性、耐熱性、取扱い性に優れ、かつ蒸着層、スパッタリング層、又は、印刷層を設けた際の意匠性に優れた成型用ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁
Then, a transparent electrode 3 and a p-side electrode 4 are formed on the surface of the p-type contact layer 10 through a vacuum vapor deposition method or the like, and an n-side electrode 5 is formed on the oxygen polar plane 1b of the ZnO substrate 1.例文帳に追加
次いで、真空蒸着法等によりp形コンタクト層10の表面に透明電極3及びp側電極4を形成し、また、ZnO基板1の酸素極性面1b上にn側電極5を形成する。 - 特許庁
The method comprises (1) preparing the processed polycrystalline silicon by chemical deposition, (2) crushing the processed polycrystalline silicon into a various size polycrystalline silicon piece mixture, and (3) classifying the polycrystalline silicon piece mixture into at least two size distributions.例文帳に追加
(1)化学蒸着法で多結晶シリコン加工物を調製し、(2)多結晶シリコン加工物を破砕して様々なサイズの多結晶ポリシリコン片の混合物とし、(3)多結晶シリコン片混合物を少なくとも2つのサイズ分布に分類する。 - 特許庁
To provide an optical disk with a reflection layer formed first on the substrate, wherein deformation of a substrate due to heat and stress generated by film-deposition, repetitive recording and reproduction operation and the like is suppressed to have excellent long term stability.例文帳に追加
基板上に先ず反射層が形成される光ディスクにおいて、成膜時や繰り返しの記録再生動作等によって生じる熱や応力による基板変形を抑制し、長期安定性に優れた光ディスクを提供する。 - 特許庁
Thus, the function of the frame body 3 of checking the dimensional change and shape change of the mask body 2 caused by thermal influence can satisfactorily be secured, and a vapor deposition layer having a uniform shape can be formed at high precision with satisfactory reproducibility.例文帳に追加
従って、熱影響によるマスク本体2の寸法変化、形状変化を阻止するという枠体3の機能を良好に担保でき、均一な形状を有する蒸着層を高精度に再現性良く形成できる。 - 特許庁
A primer layer 2 comprising a composite containing a polyol, an isocyanate compd. and colloidal silica and a vapor deposition membrane layer 3 with a thickness of 5-300 nm comprising inorg. oxide are successively laminated on at least the single surface of a plastic base material 1.例文帳に追加
プラスチック基材1の少なくとも片面に、ポリオール、イソシアネート化合物およびコロイダルシリカを含む複合物からなるプライマー層2、厚さ5〜300nmの無機酸化物からなる蒸着薄膜層3を順次積層した。 - 特許庁
To provide a liquid jet head that can suppress deposition of ink mist due to continuous adhesion without interrupting a recording operation even when the ink mist adheres on an orifice plate, in particular, a portion between ejection nozzle arrays.例文帳に追加
オリフィスプレート上、特に吐出口の列の間にインクによるミストが付着したとしても、記録動作を中断させることなく、インクによるミストが付着し続けて堆積することを抑える液体吐出ヘッドを提供すること。 - 特許庁
To make a plating deposition speed for wiring uniform on the entire surface of a wafer, and at the same time to prevent voids and defects from occurring inside the wiring in a semiconductor device-manufacturing process for manufacturing copper wiring by the electric plating method.例文帳に追加
銅配線を電気めっき法により製造する半導体装置製造プロセスにおいて、配線のためのめっき成膜速度をウエハ全面にて均一にし、かつ配線の内部にボイドや欠陥が発生するのを防止する。 - 特許庁
To obtain a transparent gas barrier film which is formed by providing a silicon oxide film on a transparent high-molecular film base material by using a vacuum vapor deposition method, not colored, transparent, has a gas barrier capacity and is equipped with the advantages of both aspects.例文帳に追加
真空蒸着法を用いて透明高分子フィルム基材の上に酸化珪素膜を蒸着したフィルムで、着色せず透明であり、かつ、ガスバリア性能を有する、両面の利点を兼ね備えた透明ガスバリア性フィルムを得る。 - 特許庁
To provide a propylene polymer multi-layer film for vapor deposition which shows improved adhesive properties with an inorganic compound-vapor deposited film, low temperature heat sealing properties, sealing performance and resistance to blocking/ripping without disturbing wettability, and to provide a multi-layer vapor-deposited film.例文帳に追加
無機化合物蒸着膜との密着性、濡れ性を阻害せず、低温ヒートシール性、密封性、ブロッキング性、引裂性が改良された蒸着用プロピレン系重合体多層フィルム及び多層蒸着フィルムを提供する。 - 特許庁
To avoid high temperature of a thin rod, contamination due to handling of a cleaned thin rod from intermediate storage to deposition, and insufficient cleaning action of the surface of the attached thin rod, and to improve the prior art.例文帳に追加
高い心棒温度、中間貯蔵から堆積までの間での清浄化された心棒の取り扱いによる汚染、及び取り付けられた心棒の表面の不十分な清浄化作用を回避し、かつ上記先行技術を改善すること - 特許庁
To provide a vapor deposition polyamide-based mixed resin-laminated film roll having high gas barrier properties, capable of being smoothly subjected to bag-making process due to lamination in a good yield and capable of efficiently obtaining a package free from an S-shaped curl.例文帳に追加
ガスバリア性が高く、スムーズに歩留まり良くラミネートによる製袋加工を行うことができ、S字カールのない包装物を効率的に得ることが可能な蒸着ポリアミド系混合樹脂積層フィルムロールを提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a magnetic recording disk and a dipping deposition apparatus for manufacturing the magnetic recording disk by which the irregularity of film thicknesses caused by the waver of the surface of a liquid chemical can surely be prevented when forming a thin film by a dipping method.例文帳に追加
浸漬法により薄膜を形成する際、薬液の液面の揺れに起因する膜厚むらの発生を確実に防止可能な磁気記録ディスクの製造方法および磁気記録ディスク製造用浸漬成膜装置を提案すること。 - 特許庁
To provide a ceramics-coated member in which a gradient composition structure where the composition of the boundary between the respective films continuously changes is formed using electron beam physical deposition, and which has excellent heat shielding properties and an excellent thermal cycle life, and to provide its production method.例文帳に追加
電子ビーム物理蒸着を用いて、各皮膜間の界面の組成が連続的に変化する傾斜組成組織が形成され、遮熱特性、熱サイクル寿命に優れたセラミックス被覆部材およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
At least an inorganic oxide vapor deposition layer, a gas-barrier thin film layer, and a water base ink layer are laminated in turn at least on one side of a biodegradable resin layer having biodegradability equivalent or superior to paper which is to be a base material.例文帳に追加
基材となる、紙と同等もしくはそれ以上の生分解性を有する生分解性樹脂層の少なくとも片面に、少なくとも無機酸化物蒸着層、ガスバリア性薄膜層、水性インキ層を順次積層する。 - 特許庁
Further, the substrate cooling mechanism for cooling the substrate in the reaction chamber is included, due to which the force cooling of the substrate after the film deposition is made possible and the additional reduction of the thermal load exerted on the substrate is made possible.例文帳に追加
更に、反応室内の基板を冷却する基板冷却機構を備えることで、成膜後において基板の強制冷却が可能となり、これにより基板に加わる熱的負荷の更なる低減を図れるようになる。 - 特許庁
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