Depositionを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 17021件
Thereby, even when the distribution density changes, discrepancy between the deposition amount of the vapor deposition material M depositing on a vapor deposition position and a deposition amount of the vapor deposition material depositing on a detection position can be prevented.例文帳に追加
このため、分布密度が変化する場合であっても、蒸着位置に付着する蒸着材料Ｍの付着量と検出位置に付着する蒸着材料Ｍの付着量とが異なる値になってしまうのを防ぐことができる。 - 特許庁
To provide a sputtering film deposition system in which, as for film deposition on a film depositing substrate, the film thickness is correctly controlled in continuous film deposition without stopping the film deposition one or more times in the process of the film deposition, and actual film deposition working is performed so as to obtain an objective film thickness.例文帳に追加
本発明の目的は、成膜途上で成膜基板への成膜を一度或いは復数ともに停止させることなく生産性を落とさずに連続成膜の内に正確に膜厚を管理して、目標とする膜厚に実成膜加工を施すスパッタリング成膜装置を提供することにある。 - 特許庁
To provide a method for producing a vapor deposition material capable of achieving the film deposition with the lower energy when depositing a vapor deposition film by the plasma-type vapor deposition method, in particular, in the initial stage that sublimation of the vapor deposition material starts, and the vapor deposition material produced thereby.例文帳に追加
プラズマ式の蒸着法により蒸着膜を成膜する際、特に蒸着材の昇華が始まる初期段階において、従来よりも低エネルギーでの成膜を実現し得る蒸着材の製造方法及び該方法により製造された蒸着材を提供する。 - 特許庁
In depositing a film of vapor deposition material on the surface of a substrate 410b for vapor deposition by a vacuum vapor deposition method, temperature elevation in a substrate 410a for vapor deposition outside the vapor deposition area is suppressed by interrupting the radiant heat of the vaporized or sublimated vapor deposition material 409 by a shielding mechanism 414.例文帳に追加
真空蒸着法により被蒸着物４１０ｂ表面に蒸着物質の膜を形成する際に、気化又は昇華した蒸着物質４０９の輻射熱を遮蔽機構４１４により遮ることで、蒸着エリア外の被蒸着物４１０ａの昇温を抑制する。 - 特許庁
To provide an apparatus for simultaneous deposition of thin films on tow or more sides, which apparatus can subject a plurality of deposition surfaces varying in deposition components to simultaneous deposition of different specifications and can improve deposition efficiency by preventing the deformation of a substrate to be induced when only the one side of the substrate is subjected to the deposition.例文帳に追加
成膜部品の相異なる複数の成膜面に対して相異なる仕様の成膜を同時に実施することができ、基板の片面のみに成膜を形成した場合に生起する基板の変形を防止し、成膜効率を向上する複数面同時薄膜成膜装置を提供する。 - 特許庁
In the electronic device manufacturing device 10, vapor deposition masks used for mask vapor deposition at organic film vapor deposition chambers 66R, 66G, 66B are to be returned from a most downstream side organic vapor deposition chamber 66B to a most upstream side organic vapor deposition chamber 66R via a vapor deposition mask return passage 75.例文帳に追加
電子デバイス製造装置１０では、有機膜蒸着室６６Ｒ、６６Ｇ、６６Ｂでのマスク蒸着に用いた蒸着マスクについては、蒸着マスク返却路７５を介して、最下流側の有機膜蒸着室６６Ｂから最上流側の有機膜蒸着室６６Ｒに戻す。 - 特許庁
The vapor deposition apparatus to deposit a film on a vapor deposition surface of a substrate by vaporizing a vapor deposition material by a vapor deposition source has a shutter to regulate the vapor deposition rate between the vapor deposition source and the substrate, and very small irregularities are formed on a surface of the shutter on the vapor deposition source side in order to prevent separation of the deposited vapor deposition material.例文帳に追加
蒸着源により蒸着材料を気化させて、基板の蒸着面に膜形成を行う蒸着装置において、前記蒸着源と前記基板との間に、蒸着レートを調整するためのシャッターを備え、前記シャッターの前記蒸着源側の面に、付着する蒸着材料の剥離を防止するために、微細な凹凸を形成したものである。 - 特許庁
To provide a deposition method and a deposition apparatus, with which thermal degradation of a polymer is suppressed and deposition is suitably achieved on a surface of the polymer.例文帳に追加
ポリマーが熱により変質することを抑制してポリマーの表面に好適に成膜できる成膜方法及び成膜装置を提供する。 - 特許庁
To provide a film deposition system and a film deposition method, which suppress damage to a thin film caused by plasma generated in a film deposition space.例文帳に追加
成膜空間に生成するプラズマに起因した薄膜へのダメージを抑制する成膜装置及び成膜方法を提供することである。 - 特許庁
To manufacture a buffer layer of a uniform composition at a high deposition speed, by suppressing deposition of the buffer layer at a portion where deposition of the buffer layer is unnecessary.例文帳に追加
バッファ層の析出が不要な部分のバッファ層の析出を抑制し、組成の均一なバッファ層を析出速度を速く製造する。 - 特許庁
Such technologies as thermal spray, angled physical deposition, maskless electrophoresis deposition/dielectric electrophoresis deposition are used for depositing the getter substance.例文帳に追加
溶射、角を形成する物理析出、マスクレス電気泳動析出／誘電泳動析出のような技術が、ゲッタ物質を析出するために使用される。 - 特許庁
To reduce the contact heat resistance between a cooling body and a deposition-proof plate even if the deposition-proof plate is thermally deformed and to lower the temp. of the deposition-proof plate.例文帳に追加
防着板が熱変形しても冷却体と防着板との間の接触熱抵抗を小さくして防着板の温度を下げること。 - 特許庁
To supply a solid film deposition material stably in such a state that the solid film deposition material can be used in conventional film deposition method, e.g. CVD or ALD.例文帳に追加
固体成膜原料を、従来からのＣＶＤ法やＡＬＤ法による成膜方法に使用できる形態で安定的に供給する。 - 特許庁
Material 308 is deposited onto a substrate 300 through the apertures 306 of the deposition mask 302 from at least one deposition source 500 oriented at unique deposition angles.例文帳に追加
固有の蒸着角度に方向付けされた蒸着ソース500から蒸着マスク302のアパーチャ306を通して、材料308を基板300上に形成する。 - 特許庁
To uniformize a deposition angle of a deposition substance within the surface of a substrate without increasing a distance between a deposition source and the substrate.例文帳に追加
蒸発源と基板との間の距離を大きくすることなく、基板面内における蒸着物質の蒸着角度の均一化を図る。 - 特許庁
To provide a film deposition method and a film deposition apparatus capable of forming a desired coating film pattern on a substrate while conveying the substrate during the film deposition.例文帳に追加
成膜中に基板を搬送しつつ、基板上に所望の被膜のパターンを形成する成膜方法および成膜装置を提供する。 - 特許庁
FILM DEPOSITION APPARATUS, FILM DEPOSITION METHOD, PROGRAM FOR MAKING APPARATUS CONDUCT THE FILM DEPOSITION METHOD AND COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM FOR STORING THE PROGRAM THEREIN例文帳に追加
成膜装置、成膜方法、並びにこの成膜方法を成膜装置に実施させるプログラムおよびこれを記憶するコンピュータ可読記憶媒体 - 特許庁
From the vapor deposition source 20, the vapor deposition material is ejected downward and piled on the surface of the substrate 15 that is positioned below the vapor deposition source 20.例文帳に追加
蒸着源２０からは蒸着材料が下方に飛び出し、蒸着源２０の下方に位置する基板１５の表面に堆積される。 - 特許庁
To provide a film deposition method and a film deposition system where the restriction of cleaning conditions by plasma irradiation can be relaxed in a physical deposition process.例文帳に追加
物理蒸着法において、プラズマ照射によるクリーニング条件の制約を緩和できる成膜方法及び成膜装置を提供する。 - 特許庁
To provide a film deposition method and a film deposition apparatus capable of improving the physical property value for a film deposited by the AD (aerosol deposition) method.例文帳に追加
ＡＤ法によって形成された膜における物性値を向上させることができる成膜方法及び成膜装置を提供する。 - 特許庁
For forming the ITOC film on the substrate 81, an MPD (Multi Plasma Deposition) device being as a deposition device 1 using a plasma generation device is used.例文帳に追加
このＩＴＯＣ膜の基板８１への形成には、プラズマ発生装置を用いた成膜装置１であるＭＰＤ（Multi Plasma deposition）装置が用いられている。 - 特許庁
It is preferable to form the bonding coat 24 by physical vapor deposition, such as magnetron sputtering, electron beam physical vapor deposition, jet vapor deposition, and plasma thermal spraying.例文帳に追加
ボンディングコート（２４）は好ましくはマグネトロンスパッタ法、電子ビーム物理蒸着、ジェット蒸着、プラズマ溶射等の物理蒸着法で形成される。 - 特許庁
To provide a vacuum deposition apparatus capable of removing deposits from a deposition mask in a vacuum tank in a deposition chamber more efficiently compared to conventional devices.例文帳に追加
成膜室の真空槽内で従来より効率的に成膜マスクから付着物を除去できる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁
A base material 8 is arranged inside a vacuum chamber 1, and, film deposition of a metal part and film deposition of a resin part are performed to the base material 8 by vacuum film deposition.例文帳に追加
真空チャンバ１内に基材８を配置し、真空成膜により基材８に対して金属部の成膜と樹脂部の成膜を行う。 - 特許庁
The metal layer has at least a part formed by metal vapor deposition, and alumina vapor deposition may be employed for the metal vapor deposition.例文帳に追加
前記金属層は、少なくとも一部が、金属蒸着により形成されていてもよく、金属蒸着はアルミナ蒸着であってもよい。 - 特許庁
The film deposition device is provided with a film deposition part 1 for supplying the plasma P to the surface of the base material F and performing film deposition on the surface.例文帳に追加
このプラズマＰを基材Ｆの表面に供給してその表面に成膜するための成膜部１を備えた成膜装置に関する。 - 特許庁
In copper deposition processes, a sputter etching process 162 of deposited copper whose deposition is carried out in a same sputter chamber is performed following a sputter deposition process 160 of copper.例文帳に追加
同じスパッタチャンバ内で実行される堆積された銅のスパッタエッチング１６２が、銅のスパッタ堆積１６０の後に続いて実行される。 - 特許庁
To provide techniques for preventing decomposition of a vapor deposition material in vapor deposition of an organic material and for stabilizing a vapor deposition rate.例文帳に追加
有機材料の蒸着において蒸着材料の分解を防止し、かつ、蒸着速度を安定化させるための技術を提供する。 - 特許庁
To suppress the generation of film deposition defects caused by residue upon film deposition while efficiently cleaning a deposited film stuck to a reaction chamber upon the film deposition.例文帳に追加
成膜時に反応室に付着した堆積膜を効率良く洗浄しつつ、成膜時の残渣に起因する成膜欠陥の発生を抑制する。 - 特許庁
FILM DEPOSITION METHOD FOR PHOTOCATALYTIC TITANIUM DIOXIDE FILM例文帳に追加
光触媒性酸化チタン膜の成膜方法 - 特許庁
INSPECTION METHOD AND INSPECTION DEVICE OF DEPOSITION MASK例文帳に追加
蒸着マスクの検査方法及び検査装置 - 特許庁
THIN FILM DEPOSITION METHOD, FILM DEPOSITION METHOD OF MAGNETIC RECORDING MEDIUM, AND METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC RECORDING DISK例文帳に追加
薄膜成膜方法、磁気記録媒体の成膜方法および磁気記録ディスクの製造方法 - 特許庁
SUBSTRATE FOR DEPOSITION, DEPOSITION METHOD USING THE SUBSTRATE, LIGHT-EMITTING DEVICE, ILLUMINATING DEVICE, AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加
成膜用基板及びその基板を用いた成膜方法、発光装置、照明装置及び電子機器 - 特許庁
To provide an arc vapor deposition source capable of performing the film deposition on a large area with less production of droplets.例文帳に追加
液滴の発生が少なく、大面積に成膜できるアーク蒸着源を提供する。 - 特許庁
To provide a film deposition apparatus capable of realizing a uniform film thickness distribution by using a physical vapor deposition method.例文帳に追加
物理蒸着法を用いて膜厚分布をより均一にできる成膜装置を提供する。 - 特許庁
PLASMA TREATMENT DEVICE FOR SPUTTERING FILM DEPOSITION例文帳に追加
スパッタ成膜応用のためのプラズマ処理装置 - 特許庁
1st and 2nd film deposition abnormality monitoring references are provided in continuous film deposition of the optical disk.例文帳に追加
光ディスクの連続成膜において、第１および第２の成膜異常監視基準を設ける。 - 特許庁
PLASMA ENHANCED CVD SYSTEM FOR LARGE-DIAMETER CARBON NANOTUBE THIN FILM DEPOSITION, AND METHOD OF DEPOSITION FOR THE THIN FILM例文帳に追加
大口径カーボンナノチューブ薄膜形成プラズマＣＶＤ装置及び該薄膜の形成方法 - 特許庁
To provide a film deposition method and a film deposition apparatus capable of reducing the ununiformity of film thickness.例文帳に追加
膜の厚さムラを低減できる成膜方法および成膜装置を提供することにある。 - 特許庁
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|