「Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(301ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a polyester resin composition which is excellent in suitability to direct metal vapor deposition, surface smoothness, shock resistance and mold releasability and producing a molded article excellent in fogging property, and a light reflector excellent in brightness, in which a metal vapor-deposited film is formed on a molded article of the polyester resin composition.例文帳に追加

直接金属蒸着性、表面平滑性、衝撃性、離型性に優れ、かつフォギング性に優れた成形品を製造することができるポリエステル樹脂組成物、および該ポリエステル樹脂組成物の成形品に金属蒸着膜を形成した、輝度感に優れた光反射体を提供する。 - 特許庁

To provide a binder type carrier which continuously suppresses fogging, unevenness in density, deposition of the carrier, and color turbidity on images from relatively early time and for a long period of time and is excellent in electrification rising property, stability of electrification, and bindability between a resin and a magnetic particle, and also provide a two-component developer.例文帳に追加

比較的早期から長期にわたって継続して画像上のカブリ、濃度ムラ、キャリア付着および色濁りを抑制する、帯電立ち上がり性、帯電安定性および樹脂と磁性粒子との結着性に優れたバインダー型キャリアおよび2成分現像剤を提供すること。 - 特許庁

The method for calculating a stationary erosion rate distribution in the designated cross-section in the magnetic field structural model based on the erosion rate of the erosion central line segment, a rotary erosion rate distribution accompanying the rotation of the magnets, and further, a film deposition rate distribution on an object using the rotary erosion rate distribution, is disclosed.例文帳に追加

エロージョン中心線分のエロージョンレートに基づいた磁場構造モデルの指定断面での静止エロージョンレート分布、磁石の回転に伴う回転エロージョンレート分布、更に上記回転エロージョンレート分布を用いた対象物上の成膜レート分布の計算方法。 - 特許庁

To provide an optical sheet capable of reducing the number of the sheets to be used, manufactured with reduced steps to improve production efficiency, prevented from the deposition of dust and free from the occurrence of irregular color or unevenness of luminance, a light source device using the optical sheet and having excellent frontal luminance and a display device.例文帳に追加

用いるシートの枚数を減らすことができ、製造工程が少なくなり生産効率が向上し、ゴミの付着を防止でき、色ムラや輝度ムラの発生が少ない光学シート、並びに該光学シートを用いた良好な正面輝度を有する光源装置及び表示装置の提供。 - 特許庁

To provide a shut-off valve for suppressing the stay of liquid such as water on a diaphragm or a first spring seating member, suppressing the deposition of dust resulting from the liquid such as water and a trouble such as corrosion and suppressing the freezing of the liquid such as water, and a fuel cell system.例文帳に追加

水等の液体がダイヤフラムや第１バネ着座部材に溜まることを抑制することができ、水等の液体に起因する塵埃付着、腐食といった不具合を抑制でき、更には水等の液体の凍結も抑制できる遮断弁及び燃料電池システムを提供する。 - 特許庁

To provide a surface treatment method which is capable of reducing the number of steps for adjusting a terminal state of a substrate surface in advance and in which a film deposited on a surface-treated substrate is not altered and no particle is generated during surface treatment, and to provide a deposition method.例文帳に追加

表面処理された基板上に膜を成膜する際に膜が変質せず、表面処理の際にパーティクルが発生せず、また、予め基板表面の終端状態を調整するための工程数を削減できる表面処理方法及び成膜方法を提供する。 - 特許庁

In a process of forming the organic functional layer in a plurality of pixel regions 33 of element substrate 30 provided with the pixel regions 33, a vapor deposition boat 10 is used which is partitioned by a barrier rib BH coping with the plurality of pixel regions 33 and which has a plurality of material arranging parts 20 at which a heater 50 is installed.例文帳に追加

複数の画素領域３３を備える素子基板３０の画素領域３３に有機機能層を形成する工程で、複数の画素領域３３に対応して隔壁ＢＨにより区画され、ヒータ５０が設けられた複数の材料配置部２０を有する蒸着ボート１０を用いる。 - 特許庁

To provide a recording medium conveying device capable of preventing damage of a conveying belt and a recording head by leakage of a current and sufficiently conveying the recording medium while deviation of a deposition position is suppressed by the fact that an ink drop delivered from the recording head receives influence of an electric field.例文帳に追加

電流リークによる搬送ベルトや記録ヘッドの破損を防ぎ、記録ヘッドから吐出されるインク滴が電界の影響を受けることによる着弾位置のずれを抑えつつも、記録媒体を良好に搬送することが可能な記録媒体搬送装置を提供する。 - 特許庁

The scintillator panel 30 comprises a scintillator 12 formed on one surface of a substrate 10, and an organic film 14 covering the whole surface of the substrate 10, from the whole surface of the scintillator 12 to the opposite surface of the formed surface of the scintillator 12, and is formed as one body by vapor deposition.例文帳に追加

シンチレータパネル３０は、基板１０の一方の表面上にはシンチレータ１２が形成されており、シンチレータ１２の表面全体から基板１０のシンチレータ１２形成面の反対面までの基板１０の略全面を覆って一体として蒸着形成されている有機膜１４を有している。 - 特許庁

To provide a vapor deposition equipment capable of suppressing a high-temperature-atmosphere and corrosive gas in a chamber so that it flows not from all directions, but from only one direction even if it flows out without giving thermal damage due to radiation of heat to devices in all the directions outside the chamber.例文帳に追加

チャンバー外部の全方位にある装置に熱の輻射による熱ダメージを与えることなく、チャンバー内部の高温雰囲気かつ腐食性のあるガスが、例え流れ出しても、全方位ではなく一方向のみから流れ出すように抑えることができる気相成長装置を提供する。 - 特許庁

To provide a heater panel with no deposition of printing toners, no paper clogging, and no drop in processing speed in the manufacturing method of an information communication unit by piling up plural paper sheet and uniting them by heating and pressing treatment, and provide the manufacturing method of an information communication unit using this heater panel.例文帳に追加

複数の用紙を重ね合わせて加熱・加圧処理で一体化する情報通信体の製造方法において、印字トナーが堆積することがなく紙詰まりや処理速度を低下させることもないヒーターパネルとそれを用いた情報通信体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a feed width-aligning lamination method for controlling a shim or a pattern joint so as not to overlap the same with a pattern printed later when the film having the pattern or the like formed thereto by a hologram or metal vapor deposition is laminated on a sheet.例文帳に追加

本発明は、ホログラムや金属蒸着の模様等が形成されたフィルムを枚葉紙にラミネートする際に、シムまたは柄の繋ぎ目が後から印刷する絵柄にかからないように制御する送り幅合わせラミネート方法および送り幅合わせラミネート装置に関するものである。 - 特許庁

To provide a lead-free glass composition for sealing a metal-made vacuum double container which contains no lead, is small in the crystal deposition when degassing and firing in vacuum sealing or the like and is surely sealing at a low temperature of ≤550°C at high yield.例文帳に追加

鉛を含有せず、また脱ガス処理時及び真空封着処理時等の焼成時において結晶析出が少なく、５５０℃以下の低温で良好に且つ歩留まりよく、確実に封着を行うことができる金属製真空二重容器の封着用無鉛ガラス組成物の提供を課題とする。 - 特許庁

Laser is irradiated on a surface 2S of the mask 2 for the organic EL, the deposition VM is fractured, formed liberated products are scattered upward, and the liberated products are removed by a transportation air flow CF formed at a position separated from the surface of the mask 2 for the organic EL.例文帳に追加

有機ＥＬ用マスク２の表面２Ｓにレーザを照射して蒸着物質ＶＭを破砕して生じる遊離生成物を上方に飛散させて、有機ＥＬ用マスク２の表面から離間した位置に形成した搬送空気流ＣＦにより遊離生成物を除去させる。 - 特許庁

In this vapor phase deposition device, a space is provided between the contact surfaces of a shower head and a shower plate, and thereby, a gas passed through the gas discharge holes passes the space, and is discharged from plate holes provided at positions shifted from the gas discharge holes.例文帳に追加

本発明の気相成長装置は、上記課題を解決するために、シャワーヘッドとシャワープレートとの接面の間に空間を設けることにより、ガス吐出孔を通過したガスが空間を通り、ガス吐出孔とずれた位置に設けられたプレート孔から吐出することを特徴としている。 - 特許庁

To provide a thermal decomposition apparatus, of a waste gas detoxification apparatus in semiconductor device fabrication, having a high detoxification treatment efficiency to an object harmful component to be treated in a waste gas and capable of lessening deposition of powder dust formed by detoxification treatment with no need of formation of a movable part or a through hole in the inside.例文帳に追加

半導体製造排ガス除害装置において、排ガス中の有害被処理成分の除害処理効率が高く、内部に可動部分や貫通孔を設けることなく、除害処理により生じる粉塵の堆積を少なくすることのできる加熱分解装置を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering target for oxide film formation which can increase production efficiency of a metal oxide film, e.g. an optical thin film etc. by inhibiting a decrease in film-forming rate of the metal oxide film at sputter-deposition of the oxide film which is suitably used as an optical thin film.例文帳に追加

光学薄膜に好適な金属酸化膜をスパッタ成膜するにあたって、金属酸化膜の成膜速度の低下を抑制することによって、金属酸化膜ひいては光学薄膜等の生産効率を高めることを可能にした酸化膜形成用スパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

As an Si material source for the metallic Si melt layer 18, a metallic Si film with a thickness of about 50-200 μm is formed on the single crystal SiC substrate through vapor phase deposition, or a metallic Si plate of a similar thickness is stacked on the substrate to control the thickness of the metallic Si melt layer 18.例文帳に追加

金属Si融液層18のSi材料供給源としては、前記単結晶SiC基板上に厚さ50以上200μｍ以下程度の金属Si膜を気相法で形成させるか、基板上に同程度の厚みの金属Si板を重ねて金属Si融液層18の厚みを制御する。 - 特許庁

A substrate for deposition 1 is lowered diagonally to be dipped in a molten metal 15 and then lifted up diagonally to a downstream side along its moving direction to be pulled up from the molten metal 15, where a semiconductive substrate 2 solidified and grown from the molten metal 15 is formed at the dipped part.例文帳に追加

析出用基板１は、進行方向の上流側から斜め方向に下降されて溶湯１５に浸漬された後、進行方向の下流側に斜め方向に上昇されて溶湯１５から引き上げられることによって、浸漬された部分に溶湯１５の凝固成長した半導体基板２を得る。 - 特許庁

Even if a given number of films are formed, and then an NF_3 gas is introduced to the deposition chamber 11 as the cleaning gas, aluminum fluoride is not generated, and hence adherence to the susceptor 14 and a shower plate 16 is prevented, thus forming the SiO_2 film having uniform film thickness, and preventing contamination due to an AF_3 particle from being generated.例文帳に追加

所定枚数の成膜後に、ＮＦ_3 ガスをクリーニングガスとして成膜室１１へ導入してもフッ化アルミニウムは生成せず、従ってサセプタ１４やシャワープレート１６に付着することはなく、膜厚の均一なＳｉＯ_2 膜が形成され、ＡＦ_3 パーティクルによる汚染も生じない。 - 特許庁

To provide a method for preventing the deposition of an NH_4Cl in CVD apparatus exhaust piping in which the reduction of a running cost, an increase in working efficiency, and/or the reduction of an apparatus cost can be attained when a silicon nitride film (Si_3N_4 film) is formed by using a CVD apparatus.例文帳に追加

ＣＶＤ装置を用いた窒化膜（Ｓｉ_３Ｎ_４膜）の膜付けの実施にあたり、ランニングコストの低減、装置稼働率の向上および／または装置コストの低減が図れるようなＣＶＤ装置排気系配管におけるＮＨ_４Ｃｌの付着防止方法を確立する。 - 特許庁

The film deposition system where a target material is evaporated from a target 1 by arc discharge, so as to be deposited on a substrate 2 is provided with a sticking face-changing mechanism changing the particle sticking face 5 of a sticking preventive plate 3 capturing particles 7 from the target 1 without carrying out atmospheric air release.例文帳に追加

アーク放電により、ターゲット１からターゲット材料を蒸発させ、基板２上に堆積させる成膜装置に、ターゲット１からのパーティクル７を捕獲する防着板３のパーティクル付着面５を大気解放することなく取り替える付着面取替機構を設ける。 - 特許庁

To provide a mask inspecting device capable of detecting the desired quality characteristics of a deposition mask and capable of efficiently inspecting the mask, to provide an apparatus of manufacturing an organic EL device with the mask inspecting device and a mask inspecting method using the mask inspecting device, and to provide a method of manufacturing the organic EL device.例文帳に追加

成膜用マスクの所望の品質特性を検出可能であって、効率的にマスク検査が可能なマスク検査装置、これを備えた有機ＥＬ装置の製造装置、これを用いたマスク検査方法および有機ＥＬ装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for melting solidified pig iron in a mixer car by which only solidified pig iron can be removed by efficiently and quickly melting without damaging an outer part iron shell and a lining refractory of the mixer car, even in the case of deposition of a large quantity of solidified pig iron in the mixer car.例文帳に追加

本発明は、混銑車に大量の凝固銑が堆積しても、混銑車の外部鉄皮や内張り耐火物を損傷することなく、該凝固銑のみを効率的、且つ迅速に溶解して除去可能な混銑車内凝固銑の溶解方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

The present invention relates to a method for manufacturing the optical preform by means of an internal vapor deposition process, in which use is made of an energy source and a substrate tube, in which the energy source is movable over the length of the substrate tube between a point of reversal at the supply side and a point of reversal at the discharge side.例文帳に追加

本発明は、内部蒸着プロセスによって光学予備成形物を製造する方法に関し、エネルギー源および基体管が使用され、エネルギー源は供給側の反転ポイントと排出側の反転ポイントの間で基体管の全長にわたって移動可能である。 - 特許庁

The method for producing the thin film of the nitride on the sapphire substrate comprises the steps of: hydrotreating the sapphire substrate at a high temperature: irradiating it with an electron beam; depositing the nitride to form the thin film on the substrate treated with the electron beam by a metal organic chemical vapor deposition method; and forming a pattern of the thin film of the nitride.例文帳に追加

サファイア基板上への窒化物薄膜の製造方法において、高温水素処理を行ったサファイア基板に電子線を照射し、この電子線処理基板に有機金属化学堆積法によって窒化物薄膜を堆積し、窒化物薄膜を描画する。 - 特許庁

In a state where a region, at the surface of the substrate, free from deposition of vapor grown film, is coated with a silicon-metal-containing film containing silicon metal, a vapor grown film on a region other than the above region having vapor grown film on a region other than the above region having the silicon-metal-containing film thereon.例文帳に追加

基体の表面のうち気相成長膜を形成しない領域を、珪素金属を含有する珪素金属含有被膜によって被覆した状態で、基体を気相成長プロセスに供することによって、珪素金属含有被膜以外の領域に気相成長膜を形成する。 - 特許庁

To provide a method for preventing a urinary stone deposition from being generated, by dissolving a chemical in an effective concentration over a long period in a circulating water of a so-called circulating type toilet installed in a traveling body such as a car of a train, an aircraft and a passenger ship, and using the washing water by circulating the water.例文帳に追加

列車車両やバス、航空機、旅客船などの移動体に設置される、洗浄水が循環して使用される所謂循環式トイレの循環水に長期間にわたり有効濃度で薬剤を溶解させて、尿石の発生を防止する方法を提供すること。 - 特許庁

The resultant material gas is exhausted from an exhaust port 34 of a chamber member 31 to the side of a CVD (Chemical Vapor Deposition) system 1, but the atomized liquid materials 26a and 26b which have not been vaporized, particles 27 produced by the solidification of the liquid material or the like are captured by a vaporization filter 35.例文帳に追加

これによって生成された材料ガスはチャンバ本体３１の排出口３４からＣＶＤ装置１側へと排出されるが、気化されなかった霧状液体材料２６ａ，２６ｂや液体材料が固化して生成されたパーティクル２７等は、気化フィルタ３５によって捕捉される。 - 特許庁

To provide a method for forming a vapor-deposited film in which a vapor-deposited film is formed on the surface of the object to be coated in a vacuum using the raw materials of synthetic resins, capable of maintaining the characteristics such as film thickness of the vapor-deposited film and also improving the working efficiency of a vapor-deposition tank.例文帳に追加

合成樹脂の原料材料を用い、被コーティング物の表面に真空中で蒸着膜を形成する方法であって、蒸着膜の膜厚み等の特性を維持し、且つ、蒸着槽の稼動効率が向上する蒸着膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

Thus, since the sealing glass does not contain a lead oxide, the reaction of a magnetic tape material and the sealing glass does not occur, there is no level difference of the head surface due to reaction products and no deposition of the reaction products even when a tape is made to travel and there is the advantage that the generation of the spacing loss is little.例文帳に追加

これにより、封着ガラスが酸化鉛を含んでいないため、磁気テープ材料と封着ガラスの反応が生じず、テープ走行しても反応生成物に起因するヘッド表面の段差の発生や、反応生成物の付着がなく、スペーシングロスの発生が少ないという利点がある。 - 特許庁

Furthermore, gas partial pressure detection means 219a-219c at near the completion time of film-forming process and gas partial pressure detection means 320a-320c at near the starting time of the film-forming process are respectively installed at the discharge exit side 224 and the taking-in entrance side 225 of the vapor deposition chamber 202.例文帳に追加

また、蒸着室２０２の搬出口側２２４および搬入口側２２５には、それぞれ成膜過程終了時間付近のガス分圧検出手段２１９ａ〜２１９ｃ、成膜過程開始時間付近のガス分圧検出手段３２０ａ〜３２０ｃが設けられている。 - 特許庁

To provide a barrier film enhanced in the close adhesiveness with a vapor deposition membrane of an inorg. oxide, improved in the gas barrier properties to oxygen gas and steam and excellent in transparency, heat resistance, flexibility and laminate strength and a laminated material using the same.例文帳に追加

無機酸化物の蒸着薄膜との密接着性を向上させ、その酸素ガスおよび水蒸気等に対するガスバリア性に改良し、更に、透明性、耐熱性、柔軟性、ラミネ−ト強度等に優れたバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材を提供することである。 - 特許庁

To make batch processing applicable when an external electrode is formed by growing a plating deposition deposited at the exposed end of an internal electrode in a stacked electronic component, and to form an external electrode to be a plating film efficiently at a specific position.例文帳に追加

積層型電子部品において、内部電極の露出端に析出しためっき析出物を成長させて外部電極を形成するにあたり、バッチ処理の適用を可能にするとともに、外部電極となるべきめっき膜の特定の箇所への能率的な形成を可能とする。 - 特許庁

The method for simulating the shape of the formed film, which calculates the thickness of the thin film formed by supplying deposition seeds onto the surface of a substrate, includes changing a parameter used for calculation according to the thickness of the deposited thin film.例文帳に追加

基体の表面に堆積種を供給することにより形成される薄膜の厚みを計算する成膜形状シミュレーション方法であって、計算に用いるパラメータを、堆積された薄膜の厚みに応じて変更することを特徴とする成膜形状シミュレーション方法が提供される。 - 特許庁

Further, a coil body 13 and a pair of external electrodes 14 are formed on the periphery and on both the edges of the chip core 12, through deposition of electroless plating by respectively using the metal nucleus aggregate for the coil and the metal nucleus aggregates for the pair of electrodes as nuclei.例文帳に追加

更にコイル用金属核集合体及び一対の電極用金属核集合体をそれぞれ核として無電解めっきを析出させることにより、チップ状コア１２の外周面及び両端面にコイル本体１３及び一対の外部電極１４，１４を形成する。 - 特許庁

PROCESS OF FORMING SUBSTANCE FILM TO ENHANCE EFFICIENCY OF VAPOR DEPOSITION OF NOBLE METAL FILM ON FERROELECTRIC FILM, MANUFACTURING METHOD OF FERROELECTRIC FILM CAPACITOR USING METHOD, FERROELECTRIC FILM CAPACITOR FORMED BY METHOD, SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE HAVING FERROELECTRIC FILM CAPACITOR, AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

強誘電膜上で貴金属膜の蒸着率を向上させうる物質膜の形成方法、この方法を利用した強誘電膜キャパシタの製造方法及びこの方法で形成された強誘電膜キャパシタ、このような強誘電膜キャパシタを備える半導体メモリ装置及びその製造方法 - 特許庁

The thin film deposition system includes a reactive chamber for forming a thin film on a treating body that is mounted on a susceptor given in the reactive chamber, and a cleaning unit for cleaning an inadequate deposit attached to the inside of the treatment chamber at prescribed time intervals.例文帳に追加

薄膜形成装置は、(a)反応チャンバ内に与えられたサセプタ上に載置された被処理体上に薄膜を形成するための反応チャンバ、及び(b)所定の時間間隔で反応チャンバの内側へ付着した不所望の析出物を清浄にするための清浄装置を含む。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, which can reduce residual impurities in a film without giving plasma damage, can improve flatness of the film, and can improve a deposition speed while restraining usage of a precursor; and to provide a substrate treatment device.例文帳に追加

プラズマダメージを与えることなく膜中の残留不純物を低減でき、膜の平坦性を向上でき、さらには、プリカーサの使用量を抑えつつ堆積速度を向上させることができる半導体装置の製造方法および基板処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a fine processing surface treating liquid with homogeneous composition for a glass substrate, capable of processing the glass substrate having multi-components such as a liquid crystal or organic electroluminescence flat panel display, without deposition of crystals or surface roughening.例文帳に追加

多成分を有する例えば液晶や有機ＥＬなどのフラットパネルディスプレイ用のガラス基板自体を結晶の析出及び表面あれを生じさせることなく加工する事が出来る多成分を有するガラス基板用の均一組成を有する微細加工表面処理液を提供すること。 - 特許庁

A phosphate glass containing an alkaline earth oxide is formed by preparing a reaction zone on a deposition burner, supplying a synthetic phosphorus compound to be oxidized and an alkaline earth compound, forming amorphous oxide particles under the existence of an oxygen-containing gas, and depositing the particles on a carrier.例文帳に追加

堆積バーナーに反応域を設け、この反応域に被酸化性、合成リン化合物とアルカリ土類化合物とを供給し、酸素含有ガスの存在下で非晶質酸化物粒子を形成し、そしてこの粒子をキャリヤー上に堆積させてアルカリ土類酸化物を含むリン酸塩ガラスを形成させる。 - 特許庁

The method of laminating the decorative metallic film protected by the protective film on the resin substrate includes the steps of: laminating a polymer film formed by vapor deposition polymerization and the decorative metallic film on the resin substrate; and subsequently laminating the protective film by using the organic solvent.例文帳に追加

保護膜で保護された金属装飾膜を樹脂製基材に積層する方法であって、前記樹脂製基材上に、蒸着重合法による高分子膜と、金属装飾膜とを積層した後、有機溶剤を用いて保護膜を積層することを特徴とする。 - 特許庁

In a heat treating method of P-type impurity doped gallium nitride compound semiconductor crystal, a heat cycle heat treatment for repeating sudden heating treatment and sudden cooling treatment is performed on the P-type impurity doped gallium nitride compound semiconductor crystal formed by growing it by an metal organic vapor phase deposition method.例文帳に追加

有機金属気相成長法により成長して成るｐ型不純物ドープ窒化ガリウム系化合物半導体結晶を急熱処理、急冷処理を繰り返すヒートサイクル熱処理することを特徴とするＰ型窒化ガリウム系化合物半導体結晶の熱処理方法にある。 - 特許庁

To provide a transparent vapor deposition film enhanced in barrier properties against an oxygen gas and steam by investigating the characteristics of a base material film, keeping high gas barrier properties stably and having good transparency, impact resistance, hot water resistance or the like, and its manufacturing method.例文帳に追加

基材フィルムの特性を検討し、酸素ガス、水蒸気に対するバリア性を向上させ、高いガスバリア性を安定して維持すると共に、良好な透明性、および、耐衝撃性、耐熱水性等を備えた透明蒸着フィルムおよびその製造法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

Disclosed is the film deposition material 202 which is fed to a film forming apparatus through a chute (material supply passage), and constituted of a mixture of a film forming material of a hexahedron shape and a film forming material of other shape.例文帳に追加

この目的を実現するために本発明は、成膜装置への供給がシューター（材料補給路）を通じて行われる成膜材料であって、六面体形状の成膜材料と、その他の形状の成膜材料とが混合されて構成された成膜材料２０２である。 - 特許庁