「Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(299ページ目) - Weblio英語例文検索

A half-insulating compound semiconductor film 4 such as CdTe, CdZnTe, GaAs or HgI2 is formed on the surface of a hard conductive plate 1 of Si or the like having an electrode 3 on both sides or only backside using a gas phase deposition method such as CVD or evaporation.例文帳に追加

表裏両面もしくは裏面のみに電極３を形成したＳｉ等の硬質導電性平板１の表面上に、ＣｄＴｅ、ＣｄＺｎＴｅ、ＧａＡｓ、ＨｇＩ２ 等の半絶縁性化合物半導体膜４を、ＣＶＤ、もしくは、蒸着等の気相成膜法を用いて形成する。 - 特許庁

To provide a carrier giving high image density, having favorable graininess and stable charge imparting ability for a long period of time and capable of suppressing carrier deposition, and to provide a developer using the carrier, and an image forming method, an image forming apparatus and a process cartridge using the developer.例文帳に追加

画像濃度が高く、粒状性が良好であり、長期に亘って安定した帯電付与能力を有し、キャリア付着の発生を抑えることが可能なキャリア及び該キャリアを用いた現像剤、並びに該現像剤を用いた画像形成方法、画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供すること。 - 特許庁

To provide a new compound having a mercapto group-bound 1,3,4-thiadiazole group, which is useful as a surface-treating agent or the like, has improved solubility, prevents crystallization and deposition, does not change with the passage of time, and is stable, and to provide a method for producing the compound.例文帳に追加

表面処理剤等として有用なメルカプト基の結合した１，３，４−チアジアゾール基を有する新規な化合物およびその製造方法を与えることを課題とし、溶解性が向上し、結晶化や析出化を防止し、経時による変化のない安定な素材を与えること。 - 特許庁

In the two-stage cleaning steps, the etching rate of the first-stage cleaning step is made higher than the etching rate of the second-stage cleaning step, and the step is changed from the first-stage cleaning step to the second-stage cleaning step while a deposition film deposited in the vacuum chamber remains.例文帳に追加

二段階のクリーニング工程において、第１段階のクリーニング工程のエッチングレートを第２段階のクリーニング工程のエッチングレートよりも高速とし、真空チャンバ内に堆積する堆積膜が残存する間に第１段階のクリーニング工程から第２段階のクリーニング工程に変更する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition material formed by adding metal silicon, silicon dioxide and silicon monoxide which are non-sublime, in other words, vaporized after they are melted, and capable of raising the evaporation rate, suppressing any splash, and manufacturing a barrier film with excellent barrier property.例文帳に追加

昇華性ではない、すなわち溶融した後に蒸発する金属ケイ素と二酸化ケイ素と一酸化ケイ素とを添加した蒸着材料であって、蒸発速度が上昇し、スプラッシュが抑制され、バリア性の良好なバリアフィルムを製造できる蒸着材料を提供する。 - 特許庁

On a third region R3 of the surface 301S1, a schottky gate electrode 304 having schottky contact with the third region R3 and having a thickness ≥5 μm is formed, and on the back face of the semi-insulating substrate 305, a metal layer 306 formed by a vapor deposition method or the like is arranged.例文帳に追加

表面３０１Ｓ１の第３領域Ｒ３上には、第３領域Ｒ３とのショットキー接触を有する厚み５μ以上のショットキーゲート電極３０４が形成され、半絶縁性基板３０５の裏面上には、蒸着法等によって形成された金属層３０６が配設される。 - 特許庁

A bed layer 22 of ZrO_2-Y_2O_3 mixed oxide and an intermediate layer 23 made of film deposited by an ion beam assist deposition method are provided on a metal base material 21, and the oxide superconductor layer is laminated onto them so as to be used for the substrate of the oxide superconductor.例文帳に追加

本発明は、金属基材２１上に、ＺｒＯ_２−Ｙ_２Ｏ_３混合酸化物のベッド層２２とイオンビームアシスト法により成膜された中間層２３とが備えられ、酸化物超電導層が積層されて酸化物超電導導体の基材として利用されることを特徴とする。 - 特許庁

A wiring board plasma-processing device includes, in the same plasma processing chamber 109, a plasma source, a surface processing unit 106 for performing a pretreatment of the board 102 to be processed, and a plurality of sputtering film deposition units 107, 108 for forming a seed layer formed of a plurality of films.例文帳に追加

同一のプラズマ処理室１０９内に、プラズマ源を備え、被処理基板１０２の前処理を行なう表面処理部１０６と、複数の膜によって形成されたシード層を形成する複数のスパッタ成膜部１０７、１０８を備えた配線基板プラズマ処理装置とする。 - 特許庁

To provide a reflective thermosensitive recording medium that maintains its high glossiness, causes no image failure due to deposition of head dusts, nor sticking during printing, has excellent color tones of a background and an image, causes no curling or charging, causes no problem of handling due to odor, and is particularly suitable for medical use.例文帳に追加

高光沢性を維持し、ヘッドカス付着、印画によるスティッキングによる画像欠陥がなく、地肌及び画像の色調が良好で、カール及び帯電がなく、臭気による取扱い性の問題がない、特に医療用途に好適な反射型の感熱記録媒体の提供。 - 特許庁

To provide a method for producing a plastic material injection molded article, by which the adhesiveness of the surface-modified layer of the plastic material injection molded article to paint, hard coat, adhesive, coating agent, plating, deposition, spattering, or the like is improved, and to provide a good surface-treated plastic material injection-molded article produced by the method.例文帳に追加

プラスチック材料射出成形体の表面改質層と、塗料・ハードコート・接着剤・コーティング剤・めっき・蒸着・スパッタリング等との密着性を向上させる方法、およびその方法を用いた、良好な表面処理プラスチック材料射出成形体を提供する。 - 特許庁

A silicon nitride layer is deposited on a base film at a ratio P/Q of less than 10 [W/sccm], with Q being the silane gas flow rate and P being the plasma-generating electric power, a deposition pressure of 20 to 200 Pa, and at a base film temperature of not more than 70°C, under a bias potential of not more than -100V applied to the base film.例文帳に追加

シランガス流量Ｑ、プラズマ生成ＰとしたＰ／Ｑが１０［Ｗ／ｓｃｃｍ］未満、成膜圧力が２０〜２００Ｐａで、基板温度を７０℃以下として、前記基板に−１００Ｖ以下のバイアス電位を印加しつつ窒化珪素膜を成膜することにより、前記課題を解決する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal organic semiconductor material exhibiting excellent stability in an environment of film deposition and forming a film easily by coating or the like, and to provide an organic semiconductor structure having an organic semiconductor layer composed of such an organic semiconductor material, and an organic semiconductor device.例文帳に追加

成膜時の環境下での安定性に優れると共に、塗布等により容易に成膜できる液晶性有機半導体材料、そうした有機半導体材料からなる有機半導体層を有する有機半導体構造物及び有機半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method and device, that is for purifying a raw material gas obtained by coal gasification and that can reduce amount of process steam supplied to a shift converter by increasing amount of steam added to gas discharged from a scrubber, and also can control deposition of ammonium chloride in a heat exchanger.例文帳に追加

スクラバから排出されるガスの加湿量を増加させ、シフト器において供給するプロセススチームの量を低減させるとともに、熱交換器内における塩化アンモニウムの析出を抑制できる石炭のガス化によって得られる原料ガスの精製方法およびその方法を提供する。 - 特許庁

The column side surface of the columnar crystal forming the phosphor layer has small holes, and the phosphor layer is formed by vacuum deposition wherein a substrate is conveyed linearly in a reciprocative way, and conveyance speed is changed at the linear conveyance time.例文帳に追加

蛍光体層を形成する柱状結晶の柱側面に小孔を有すること、および、蛍光体層の形成を基板を直線的に往復搬送する真空蒸着で行い、かつ、この直線搬送時に搬送速度を変更することにより、前記課題を解決する。 - 特許庁

To improve the durability of diamond layers and to attain the reduction of cost by performing film deposition at a high speed in a diamond electrode used for an electrolytic treatment device or the like.例文帳に追加

電解処理装置等に用いられるダイアモンド電極は高い酸化活性を持つＯＨラジカルを作るので水処理や廃液処理等に広い応用が期待されているが、ＯＨラジカルによる膜の消耗・剥離や長い成膜時間に起因する高コストが原因で、実用化を妨げている。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor for precluding deposition, a crack and an uneven density from being generated even when using a polystyrene or polyphenylene oxide resin in a charge transport layer, and stable in storage over a long period, and a process cartridge and an electrophotographic device having the electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加

ポリスチレン、ポリフェニレンオキサイド樹脂を電荷輸送層用いた場合でも、析出、クラック、濃度ムラが発生することがなく、長期間の保存にも安定な電子写真感光体ならびに、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供することである。 - 特許庁

The deposition mask includes the mask sheet and the frame to which the edge part of the mask sheet is contacted and fixed.例文帳に追加

本発明は蒸着用マスクに関し、マスクフレームとマスクシートとの間に異物が入ることを防止して、マスクと蒸着基材との間に隙間が生じることを防ぎ、マスクと蒸着基材との密着性を向上させることができ、精密なパターンの蒸着が可能な蒸着用マスクに関する。 - 特許庁

The ion deposition mass spectrograph is provided with a discharging body 12 and a voltage impressing portion 11 for impressing a bias voltage on the discharging body and is equipped with an ion source which heats the discharging body and discharges metallic ion of a positive electric charge and deposits the metallic ion on detected gas and ionizes the detected gas.例文帳に追加

放出体１２と、この放出体にバイアス電圧を印加する電圧印加部１１とを有し、放出体を加熱して正電荷の金属イオンを放出させ、金属イオンを被検出ガスに付着させて被検出ガスをイオン化するイオン源を備えたイオン付着質量分析装置である。 - 特許庁

In the scale deposition suppressing method, a flow path or the inner surface of a storage tank which contacts with calcium-based spring and/or magnesium-based spring is formed of the sulfur-containing material obtained by melting and then solidifying a raw material containing sulfur and aggregate.例文帳に追加

本発明に係るスケール付着抑制方法は、カルシウム系温泉及び／又はマグネシウム系温泉が接触する流路又は貯槽の内面を、硫黄及び骨材を含む原料組成物を溶融させた後に固化させて得られる硫黄含有材料によって形成することを特徴とする。 - 特許庁

In the method, an oriented thin film exhibiting high anisotropy in electric conductivity that high ion conductivity is shown in a film thickness direction is deposited on the surface of a porous ceramic solid electrolyte layer from a crystalline oxide target depositing a proton conductive film by a pulsed laser ablation deposition method (PLD).例文帳に追加

多孔質のセラミック固体電解質層表面にプロトン導電性膜を形成する結晶性の酸化物のターゲットからパルスレーザアブレーション堆積法（ＰＬＤ）により膜厚方向に高いイオン導電性を示す電気伝導度に高い違法性を示す配向性薄膜を形成する方法。 - 特許庁

The catalyst being durable and capable of inhibiting carbon deposition is provided by adding a cocatalyst component to a catalytically active component and adding a component that neutralizes the acid site of a support component to the support component.例文帳に追加

触媒活性成分に耐熱性酸化物からなる助触媒成分を添加し、触媒担体成分に該触媒担体成分の酸性点を中和する成分を添加することによって、耐熱性があり、炭素析出の抑制が可能な耐久性のある触媒を提供する。 - 特許庁

To provide a disproportionated rosin composition which is a low viscosity liquid at normal temperature and shows an excellent shelf stability allowing no rosin crystal deposition after a long-term storage at normal temperature, and an emulsifier which is useful as an alkaline soap for emulsion polymerization of synthetic rubbers, synthetic resins, etc.例文帳に追加

常温で低粘度の液体であり，かつ常温で長期間保存してもロジンの結晶析出が生じない、保存安定性に優れた不均化ロジン組成物、およびアルカリ石鹸として合成ゴム、合成樹脂等の乳化重合に有用な乳化剤を提供することである。 - 特許庁

The method for manufacturing the film-deposition substrate includes a step of depositing the films by the CVD process on the surface of the substrate consisting of silicone.例文帳に追加

少なくとも表面がシリコーンからなる３次元構造を有する基体であって、ＣＶＤ法による膜が前記シリコーンの一部又は全面に形成されていることを特徴とし、またシリコーンからなる基体表面上にＣＶＤ法により膜を形成する工程を含むことを特徴とする - 特許庁

To provide a developing method which ensures high reproducibility of a dot image, effectively prevents toner deposition on a photoreceptor drum, effectively suppresses occurrence of image defects such as black spots or white spots and can give an image of high image quality, in an image forming system using an amorphous silicon photoreceptor.例文帳に追加

アモルファスシリコン感光体を用いた画像形成システムにおいて、ドット画像の再現性も高いばかりか、感光体ドラムへのトナー付着が有効に防止され、黒点或いは白点などの画像不良が有効に抑制され、高画質の画像を得ることが可能な現像方法を提供する。 - 特許庁

In boron-halogen plasma for selectively etching at least two materials, the etching speed of a first material is reduced to approximately zero by depositing a protective BxNy layer on the surface of the first material, and thus, deposition of the BxNy layer on a second material can be avoided.例文帳に追加

少なくとも２つの材料を選択的にエッチングするためのホウ素−ハロゲンプラズマであって、第１材料のエッチング速度は、第１材料の表面に保護ＢｘＮｙ層を堆積することでほぼゼロまで減じられ、第２材料へのＢｘＮｙ層の堆積が避けられる。 - 特許庁

In the inorganic film deposition system, treatment vapor is jetted from the jet ports 1434b, 1434a of the treatment vapor application part located respectively at the oblique upper parts of the first electrodes 91 and the second electrodes 92 in the crystal oscillators 9 toward the first electrodes 91 and the second electrodes 92.例文帳に追加

無機膜形成装置では、水晶振動子９の第１電極９１および第２電極９２の斜め上方にそれぞれ位置する処理蒸気付与部の噴出口１４３４ｂ，１４３４ａから、第１電極９１および第２電極９２に向けて処理蒸気が噴出される。 - 特許庁

To provide a method for performing an appropriate cleaning in accordance with the difference in deposition amount of electrolyte such as calcium deposited on the cathode side depending on the difference in hardness of raw water in installation location of electrolyzed water producing equipment which electrolyzes the raw water into alkaline water and acidic water.例文帳に追加

アルカリ性水と酸性水に電気分解する電解水生成装置の設置場所における原水の硬度の違いによる陰極側に析出するカルシウムなどの電解質の析出量の違いに追従した適切なクリーニングを行う方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

In the process for heating a porous glass synthesized by the vapor phase deposition in the presence of a fluorine compound, the fluorine compound and a substance which reacts with the fluorine compound and liberates fluorine gas are simultaneously added to liberate fluorine gas into the atmosphere where the porous glass is present.例文帳に追加

気相法により合成した多孔質ガラスをフッ素化合物の存在下で加熱する工程にて、フッ素化合物および該フッ素化合物と反応してフッ素ガスを遊離する物質を同時に添加し、前記多孔質ガラスの存在する雰囲気中にフッ素ガスを遊離する。 - 特許庁

The method for forming the refractory metal nitride film, in which the refractory metal nitride film is formed according to a chemical vapor phase deposition method by using a source gas and a reduction gas containing a refractory metallic alkyl amino compound, comprises a step of activating the reduction gas.例文帳に追加

高融点金属のアルキルアミノ化合物を含むソースガスと還元性ガスとを使用して半導体基板上に化学気相成長法により高融点金属窒化膜を形成する高融点金属窒化膜の形成方法であって、還元性ガスを活性化する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The state of the deposited particles flying in a zone just above a deposition source 21 is monitored by a light-shielding type particle monitor 4 which divides a laser beam outputted from a laser beam source 41 into two polarized beams and receives them with two light receiving elements of a sensor 42.例文帳に追加

蒸着源２１の直上領域を飛翔する蒸着粒子の状態を、レーザー光源４１から出力されたレーザー光を２つの偏光光線に分割してセンサー４２の２つの受光素子で受光する光遮蔽式のパーティクルモニター４によってモニターする。 - 特許庁

In the piezoelectric ceramic vibrator comprising the vibration electrode 3 formed on both principal faces of the piezoelectric ceramic plate 1, the vibration electrode 3 has a background layer 3a formed on the piezoelectric ceramic plate 1 by electroless plating and a vapor-deposition film 3b formed on the background layer 3a.例文帳に追加

圧電磁器板１の両主面に振動電極３を形成してなる圧電磁器振動体であって、振動電極３が、圧電磁器板１上に無電解メッキにより形成された下地層３ａと、該下地層３ａに設けられた蒸着膜３ｂとにより形成されていることを特徴とする。 - 特許庁

To provide an electro-chemical machining apparatus where ions or the like taken into contact members such as ion exchangers are continuously removed while machining a work, the deposition and precipitation of machining products at the insides of electrodes and the contact members are suppressed, and electro-chemical machining can be continuously performed.例文帳に追加

被加工物を加工しながら連続的にイオン交換体などの接触部材に取り込まれたイオン等を除去し、電極および接触部材の内部における加工生成物の堆積や析出を抑制して連続的に電解加工を行うことができる電解加工装置を提供する。 - 特許庁

To provide a deionization vessel which is capable of preventing deposition of scale, suppressing electric power consumption to a lower level, maintaining deionization performance and preventing deterioration arising from chlorine by accompanying electrolysis and a deionized water making apparatus using the same.例文帳に追加

本発明の目的は、スケールの析出を防止でき、消費電力を低く抑えるとともに脱イオン性能を維持することができ、電気分解に伴う塩素に起因する劣化を防止できる脱イオン槽及びこれを用いた脱イオン水製造装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

Thereby, a material dissolved in the electro-deposition polyimide solution is deposited on a surface exposed into the solution of the control electrode 105 applied with the positive voltage, the electrode 104, a support part 107 and the actuator 108, and a polyimide film 109 is formed on these surfaces.例文帳に追加

これにより、電着ポリイミド溶液に溶解している材料が、正電圧が印加された制御用電極１０５，電極１０４，支持部１０７，及びアクチュエータ１０８の溶液中に露出している表面に付着し、これら表面にポリイミド膜１０９が形成される。 - 特許庁

To provide an adhesive composition giving high water-resistance and surface hardness comparable to those of conventional formaldehyde-containing resin adhesive without using a formaldehyde-containing resin and causing little lowering of the adhesive property even after a long deposition time.例文帳に追加

本発明はホルムアルデヒド含有樹脂を使用することなく、従来のホルムアルデヒド含有樹脂接着剤と同等の高い耐水性や表面硬度が得られ、堆積時間が長い場合であっても接着性能の低下が少ないという特徴を有する接着剤組成物を提供する。 - 特許庁

To realize high heat exchange efficiency with a simple structure simultaneously, to suppress function stop of a heat exchanger caused by deposition of a mineral component such as calcium (Ca) in service water only on the high temperature side, and to suppress to the utmost decline of a heat conductivity caused by flow speed reduction of water.例文帳に追加

簡易な構造で同時に高い熱交換効率を実現できると共に、高温側のみ水道水のカルシウム（Ｃａ）等のミネラル成分の析出による熱交換器の機能停止を抑制し、かつ、水の流速低下による熱伝達率の低下を極力抑制する。 - 特許庁

The management/operation of the proceeds and capitals is performed, based on the exchange of information between servers 43X-43Z of the credit associations and a server 44 of the banking organization 16, a consumption deposition contract and a participation trade contract to a trust money repayment claim, and the like.例文帳に追加

信用金庫のサーバー４３Ｘ〜４３Ｚと金融機関１６のサーバー４４の間の情報のやり取りに基づき、かつ消費寄託契約及び寄託金返還請求権に対する参加取引契約等に基づいて売上金と資金の管理・運用が行われる。 - 特許庁

The opening 4 preferably has a fan shape in which a pivot corresponds to the center point of the wafer W, and, furthermore, a point at which the normal of a vapor deposition beam B is made incident on the wafer W from the vapor depositing source 2 preferably lies on the center in the opening 4 or in the vicinity thereof.例文帳に追加

前記開口４の形状はウエハＷの中心点Ｐに要が一致する扇形であることが好ましく、また、蒸着源２からウエハＷへの蒸着ビームＢの法線が入射する点が前記開口４内の中央或いはその近傍にあることが好ましい。 - 特許庁

A droplet ejection device includes a controlling part for ejecting the functional liquid toward the work as a droplet while relatively moving a droplet ejection head and a work, and the controlling part controls the deposition distance between a main droplet of the droplet to deposit a predetermined region on the work and a satellite.例文帳に追加

液滴吐出ヘッドとワークとを相対的に移動させながら、前記ワークに向けて前記機能液を液滴として吐出させる制御部を備え、前記制御部では、前記ワーク上の所定領域に着弾させる前記液滴の主滴とサテライトとの着弾距離を制御する。 - 特許庁

As a result, even when the alignment layer 16 is formed by using an oblique vapor deposition method in a state in which a level difference section 17 is arranged on the third interlayer insulating film 43, the alignment layer 16 is formed over the entire level difference section 17 and a pixel electrode 9a, without unevenness.例文帳に追加

この結果、第３層間絶縁膜４３上に段差部１７を設けた状態で斜方蒸着法を用いて配向膜１６を形成した場合でも、段差部１７及び画素電極９ａ上全体にムラなく配向膜１６が形成されていることになる。 - 特許庁

Further, the hydrophilization method includes a stage for rolling and cutting a metallic base material, a stage for subjecting the obtained metallic base material to pickling treatment, a stage for depositing a TiO2 film onto the surface of the metallic base material after pickling, an annealing stage after the film deposition and a light irradiation stage.例文帳に追加

また、金属基材の圧延・切り出し工程と、得られた金属基材の酸洗処理工程と、その後の金属基材表面へのＴｉＯ_2の成膜工程、成膜後のアニーリング工程、光照射工程を含む、金属基材表面の親水化方法を提供する。 - 特許庁

The radiographic image conversion panel is composed by forming the stimulable phosphor layer 12 on the side of a heat-resistant resin layer 11b of a support 11, consisting of a substrate 11a and the layer 11b coating at least one surface of the substrate 11a by vapor phase deposition method.例文帳に追加

基板１１ａと該基板１１ａの少なくとも一方の面に塗設された耐熱性樹脂層１１ｂとからなる支持体１１の前記耐熱性樹脂層１１ｂ側に輝尽性蛍光体層１２が気相堆積法により形成されてなる放射線画像変換パネルである。 - 特許庁

When the protective film is deposited, by setting substrate bias to be in the range of ≥0 V and <80 V by a negative voltage and setting an atmospheric gas pressure during film formation to be in the range of 5 Pa-10 Pa as needed further, the deposition of the boundary mixing layer 15 is suppressed or prevented.例文帳に追加

保護膜を形成する際に、基板バイアスを負電圧で０Ｖ以上８０Ｖ未満の範囲に設定し、さらに必要に応じて成膜中の雰囲気ガス圧力を５Ｐａ〜１０Ｐａの範囲に設定することにより、界面混合層１５の形成を抑制あるいは防止する。 - 特許庁

The parts which can heat portions of quartz parts existing nearer the upstream side of a gaseous raw material stream than a susceptor to a high temperature and the parts which are made into a high temperature particularly by induction heating are formed, by which reaction products are removed during a cleaning process and therefore the deposition of the reaction products is suppressed.例文帳に追加

サセプタより原料ガス流れの上流側にある石英部品の一部を高温に加熱できる部品、特に誘導加熱により高温となる部品とすることによりクリーニングプロセス中に反応生成物が除去されるため反応生成物の堆積が抑制される。 - 特許庁

To improve worsening of moisture-proofness caused by breakage of a vapor-deposition layer in a moisture-proof protection film to allow usage in a satisfactory condition for a long period, in a radiation image converting panel using stimulable phosphor.例文帳に追加

本発明の目的は、輝尽性蛍光体を用いた放射線画像変換パネルにおいて、防湿性保護フィルムの蒸着層の破壊による防湿性低下が改良され、長期間に渡り良好な状態で使用することの出来る放射線画像変換パネルを提供することにある。 - 特許庁