Diffusionを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 18238件
DOPANT DIFFUSION BARRIER LAYER USED WITH III-V STRUCTURE例文帳に追加
III−V構造で使用するドーパント拡散バリア層 - 特許庁
An anode side gas diffusion layer and a cathode side gas diffusion layer are joined to a membrane electrode assembly (MEA) 10.例文帳に追加
膜電極接合体(MEA)10にアノード側ガス拡散層及びカソード側ガス拡散層を接合する。 - 特許庁
TRANSPONDER FOR RAILWAY BY SPECTRUM DIFFUSION COMMUNICATION SYSTEM例文帳に追加
スペクトラム拡散通信方式による鉄道用トランスポンダ - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF MATERIAL FOR GAS DIFFUSION ELECTRODE, GAS DIFFUSION ELECTRODE AND SOLID POLYMER ELECTROLYTE FUEL CELL例文帳に追加
ガス拡散電極用材料の製造方法、ガス拡散電極及び固体高分子電解質型燃料電池 - 特許庁
A diffusion depth of the first pocket region 9A is shallower in comparison with a diffusion depth of the second pocket region 9B.例文帳に追加
第1のポケット領域9Aの拡散深さは、第2のポケット領域9Bの拡散深さに比べて浅い。 - 特許庁
The obtained mouthpiece (1) for shaping has a nickel-containing diffusion bonded region (7) on the solid phase diffusion bonded surface.例文帳に追加
得られた賦形用口金(1) は固相拡散接合面にニッケルを含む拡散接合領域(7) が介在している。 - 特許庁
A transistor includes a gate electrode 2, a gate insulating film 4, and a diffusion layer constituting the diffusion bit line 5.例文帳に追加
トランジスタは、ゲート電極2、ゲート絶縁膜4および拡散ビット線5を構成する拡散層とからなる。 - 特許庁
The detected region is subjected to diffusion processing (real gradation number limit processing) by dither or error diffusion.例文帳に追加
この検出領域に対して、ディザまたは誤差拡散による拡散処理(実階調数制限処理)を行う。 - 特許庁
The width of the trench 7 can be controlled more accurately by etching than the diffusion quantity of impurities by thermal diffusion.例文帳に追加
エッチングによるトレンチ7の幅の制御は、熱拡散による不純物の拡散量よりも精度良く行える。 - 特許庁
The diaphragm 10 is constituted of a boron diffusion layer, and a supersaturation region S is formed to part of the boron diffusion layer.例文帳に追加
振動板10がボロン拡散層からなり、このボロン拡散層の一部に過飽和領域Sを形成した。 - 特許庁
DISPERSION LIQUID FOR GAS DIFFUSION ELECTRODE AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
ガス拡散電極用分散液及びその製造方法 - 特許庁
Metal diffusion between the hydrogen separation membrane 30 and support body 10 is suppressed by the diffusion suppressing layer 20.例文帳に追加
水素分離膜(30)と支持体(10)との間の金属拡散が拡散抑制層(20)によって抑制される。 - 特許庁
POWER DISTRIBUTION METHOD OF ELECTROLYTIC TANK USING GAS DIFFUSION ELECTRODE例文帳に追加
ガス拡散電極を用いる電解槽の配電方法 - 特許庁
OUTGOING LINE DIFFUSION CODE ALLOCATING METHOD AND BASE STATION例文帳に追加
下り回線拡散符号割り当て方法及び基地局 - 特許庁
LIGHT DIFFUSION SHEET, OPTICAL DEVICE AND IMAGE DISPLAY DEVICE例文帳に追加
光拡散性シート、光学素子および画像表示装置 - 特許庁
HEAT CONDUCTION MEMBER WITH LOW-STRESS AND DIFFUSION-BARRIER FILM例文帳に追加
低応力・拡散バリアー膜を備えた熱伝導部材 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING METAL MOLD FOR USE IN DUPLICATING LIGHT DIFFUSION SHEET, LIGHT DIFFUSION SHEET AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND SCREEN例文帳に追加
光拡散シート複製用金型の製造方法、光拡散シート及びその製造方法、並びにスクリーン - 特許庁
The lower plate member 1 is diffusion-joined to the frame member 2, and the upper plate member 3 is diffusion-joined to the frame member 2.例文帳に追加
そして下板部材1とフレーム部材2、及び上板部材3とフレーム部材2とが拡散接合される。 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING GAS DIFFUSION FILTER FOR PHOTOACOUSTIC GAS SENSOR例文帳に追加
光音響ガスセンサ用ガス拡散フィルタの製造方法 - 特許庁
N-type diffusion layers 36a and 36b serving as sources are provided in the P-type diffusion layers 34a and 34b respectively, and parts of P-type diffusion layer regions 34a and 34b located between the well diffusion layer 32 and the source diffusion regions 36a and 36b are made to serve as channel regions 38a and 38b.例文帳に追加
各P型拡散層34a,34b内にはそれぞれソースとなるN型拡散層36a,36bが形成され、ウエル拡散層32とそれぞれのソース拡散層36a,36bの間のP型拡散層領域34a,34bがチャネル領域38a,38bとなっている。 - 特許庁
OPTICAL DIFFUSION FILM, ITS MANUFACTURING METHOD, AND SCREEN例文帳に追加
光拡散フィルム及びその製造方法並びにスクリーン - 特許庁
Chart 2-60 Demonstration Tests for the Diffusion of Fuel Cells例文帳に追加
図表2-60 燃料電池の普及に向けた実証実 - 経済産業省
The semiconductor device includes a P-type semiconductor substrate; an N-type well, a first P^+ diffusion region, a second P^+ diffusion region, a Schottky diode, a first N^+ diffusion region, a second N^+ diffusion region, a third P^+ diffusion region, a fourth P^+ diffusion region, a first insulating layer, a second insulating layer, a first parasitic bipolar transistor, and a second parasitic bipolar transistor.例文帳に追加
本発明の半導体デバイスは:P型半導体基板、N型ウェル、第1P+拡散領域、第2P+拡散領域、ショットキー・ダイオード、第1N+拡散領域、第2N+拡散領域、第3P+拡散領域、第4P+拡散領域、第1絶縁層、第2絶縁層、第1寄生バイポーラトランジスタ、及び第2寄生バイポーラトランジスタ、を含む。 - 特許庁
A communication device 10 applied to the communication system includes a diffusion code table management section 28 for and selecting a diffusion code table in response to a diffusion rate of a management device included in diffusion information notified from a management device 30 of a system 90, and generating a diffusion code set in response to the number of users and the user number included in the diffusion information.例文帳に追加
本通信システムに適用される通信装置10は、本システム90の管理装置30から通知された拡散情報に含まれている管理装置の拡散率に応じて拡散コードテーブルを選択し、拡散情報に含まれているユーザ数およびユーザ番号に応じて、拡散コードセットを生成する拡散コードテーブル管理部28を含む。 - 特許庁
The screen 20 comprises: a screen body 12 having a diffusion layer 10; a frame 16 disposed along the perimeter of the screen body 12, to which the diffusion layer 10 is attached as swingable via a support member 14; and a driving means 22 attached to the diffusion layer 10 and moving the diffusion layer parallel to the diffusion layer plane of the diffusion layer 10.例文帳に追加
本発明のスクリーン20は、拡散層10を有するスクリーン本体12と、スクリーン本体12の外周に沿って設けられ、拡散層10が支持部材14を介して揺動可能に取り付けられた枠部16と、拡散層10に取り付けられ、拡散層10の拡散層面に平行に拡散層を移動させる駆動手段22とを備える。 - 特許庁
A copper diffusion preventive film formed on a main surface of a semiconductor substrate 1S is represented by a copper diffusion preventive film DCF1a, and a copper diffusion preventive film formed on a back surface of the semiconductor substrate 1S is represented by a copper diffusion preventive film DCF1b.例文帳に追加
半導体基板1Sの主面に形成される銅拡散防止膜を銅拡散防止膜DCF1aとし、半導体基板1Sの裏面に形成される銅拡散防止膜を銅拡散防止膜DCF1bとする。 - 特許庁
The light diffusion film for a backlight device is constituted of only a single sheet of film, and has a range of degree of inflection of 4-100% in a main diffusion direction, and a diffusion degree 30° or more in the main diffusion direction of the light transmitted, measured at an incident angle 0°.例文帳に追加
フィルム1枚のみの構成で、主拡散方向の変曲度が4〜100%であり、かつ入射角0度で測定した透過光の主拡散方向の拡散度が30度以上であるバックライト装置用光拡散フィルム。 - 特許庁
An n-type high concentration diffusion layer 10 is formed facing to the p-type low-concentration diffusion layer 7, the p-type high concentration diffusion layer 8, and the semiconductor substrate 20 through the n-type epitaxial layer 5 and the n-type low concentration diffusion layer 9.例文帳に追加
n型高濃度拡散層10は、n型エピタキシャル層5及びn型低濃度拡散層9を介して、p型低濃度拡散層7、p型高濃度拡散層8及び半導体基板20と対向して形成される。 - 特許庁
Next, in a second diffusion step, the impurities are thermally diffused from the diffusion layer source 12 to inside the wafer, and a heavily-doped impurity diffusion layer 19, which increases a diffusion depth in the diametric direction of the wafer 11, is formed.例文帳に追加
次に、第2の拡散工程において、上記拡散層源12からウェーハ内部に不純物を熱拡散させ、ウェーハ11の上記径方向に拡散深さが増大する高濃度不純物拡散層19を形成する。 - 特許庁
At least one of a pair of the diffusion layers includes a first diffusion layer, a second diffusion layer and the plurality of hollow fibers, and the second diffusion layer is constituted so as to be arranged between the plurality of hollow strings and the catalyst layers.例文帳に追加
一対のガス拡散層の少なくとも一方が、第1拡散層と第2拡散層と複数の中空糸とを有し、前記複数の中空糸と前記触媒層との間に前記第2拡散層が配置されるように構成する。 - 特許庁
Consequently, even when the diffusion sheet 40 expands owing to heat generated in the device, the diffusion sheet 30 can freely slide on the diffusion sheet arrangement part 30a, so the diffusion sheet 40 never flexes to accumulate force.例文帳に追加
これにより、装置内で発生した熱によって拡散シート40が膨張した場合であっても、拡散シート40は拡散シート配置部30a上を自由に滑動することから、拡散シート40が撓んで力を蓄積することはない。 - 特許庁
One impurity diffusion region of the first transistor constitutes a common diffusion region continuously up to one impurity diffusion region of the second transistor through the impurity diffusion region arranged to the surface layer section of a substrate.例文帳に追加
第1のトランジスタの一方の不純物拡散領域が、基板の表層部に配置された不純物拡散領域を介して第2のトランジスタの一方の不純物拡散領域まで連続して共通拡散領域を構成している。 - 特許庁
The drain region 3 is constituted of a deep low concentration diffusion region 3B, and a shallow high concentration diffusion domain 3A which is the same conductivity type as that of the low concentration diffusion region 3B and arranged in the low concentration diffusion region 3B.例文帳に追加
ドレイン領域3が、深さの深い低濃度拡散領域3Bと、低濃度拡散領域3Bと同じ導電型であって低濃度拡散領域3Bに設けられた浅い高濃度拡散領域3Aとから構成される。 - 特許庁
The quaternary information is read by both reading with the diffusion region N21 as a source while the diffusion region N12 as a drain and reading with the diffusion region N21 as a drain while the diffusion region N12 as a source.例文帳に追加
したがって、拡散領域N_21をソースとし且つ拡散領域N_12をドレインとした読み出しと、拡散領域N_21をドレインとし且つ拡散領域N_12をソースとした読み出しとを行うことにより、4値化情報が読み出される。 - 特許庁
A nitrogen diffusion region 14 with nitrogen ions introduced thereinto is formed apart from the element isolation region 13 at an interval at the upper part of at least the drain diffusion layer 18 in the drain diffusion layer 18 and source diffusion layer 18.例文帳に追加
ドレイン拡散層18及びソース拡散層18のうちの少なくともドレイン拡散層18の上部には、窒素イオンが導入された窒素拡散領域14が素子分離領域13と間隔をおいて形成されている。 - 特許庁
Clearance (first distance 11) between a P type isolation diffusion layer 30 and the heavily doped N type diffusion layer 10 is set shorter than the clearance (second distance 12) between the P type isolation diffusion layer 30 and the heavily doped N type diffusion layer 9.例文帳に追加
さらに、P型分離拡散層30と高濃度N型拡散層10との離間距離(第1の距離11)をP型分離拡散層30と高濃度N型拡散層9との離間距離(第2の距離12)に比べて短くする。 - 特許庁
A diffusion layer is coupled to the substrate such that the convex surface of at least each one diffusion component is between the concave surface thereof and the diffusion layer and configured to further diffuse the light that propagates through at least one diffusion component.例文帳に追加
拡散層は、少なくとも1つの拡散部品の各々の凸面が凹面と拡散層との間にあるよう基板に結合され、少なくとも1つの拡散部品を通って伝播する光をさらに拡散するように構成される。 - 特許庁
An n-diffusion region 5 to be a drain region is formed in an n-type semiconductor region 3, and a p diffusion region 7 and an n+diffusion region 8 to be a source region are formed on one side of the n-diffusion region 5.例文帳に追加
n-型半導体領域3には、ドレイン領域となるn-拡散領域5が形成され、そのn-拡散領域5の一方の側には、p拡散領域7と、ソース領域となるn+拡散領域8が形成されている。 - 特許庁
The pn junction diode 22a for temperature detection is formed with an n-type diffusion layer 21 formed in the p-type diffusion layer 20 as a cathode region, and a P^+ diffusion layer 19b formed in the n-type diffusion layer 21 as an anode region.例文帳に追加
温度検出用PN接合ダイオード22aは、P型拡散層20内に形成されるN型拡散層21をカソード領域とし、N型拡散層21内に形成されるP+拡散層19bをアノード領域とする。 - 特許庁
This diffusion device of the discharged culm cutter is characterized by disposing a partial spiral plate 3 capable of being switched into the right or left diffusion direction on a diffusion shaft 2 having a diffusion spiral 1 for receiving and diffusing the chopped straws.例文帳に追加
切断された細断わらを受けて拡散する拡散螺旋1を有した拡散軸2に、左右拡散方向を切替可能の部分的な螺旋板3を設けたことを特徴とする排稈カッターの拡散装置の構成とする。 - 特許庁
The semiconductor device includes an n-type diffusion region 17 which functions as a cathode of the photodiode PD and the source of a MOS transistor MT, and is constituted from two diffusion layers of a relatively deep first diffusion layer 15 and a relatively second shallow diffusion layer 16.例文帳に追加
フォトダイオードPDのカソード、および、MOSトランジスタMTのソースとして機能するN型拡散領域17を、比較的深い第1拡散層15および比較的浅い第2拡散層16の2つの拡散層で構成する。 - 特許庁
This straight down back light has the diffusion plate, a reflection plate (back plate) arranged in the lower part of the diffusion plate, the lamp arranged between the diffusion plate and the reflection plate, and a supporting member arranged between the diffusion plate and the reflection plate.例文帳に追加
拡散プレートと、拡散プレートの下部に配置した反射プレート(バックプレート)と、拡散プレートと反射プレートとの間に配置したランプと、拡散プレートと反射プレートとの間に設置したサポート部材とを有するストレイトダウンバックライトである。 - 特許庁
DIFFUSION MEMBER, OPTICAL SHEET, BACK LIGHT UNIT AND DISPLAY DEVICE例文帳に追加
拡散部材、光学シート、バックライトユニットおよびディスプレイ装置 - 特許庁
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