「IPA」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

The IPA vapor having changed into ordinary gas is pushed up by the IPA gas newly flowed in, and is pushed out divergently from a gas supply opening 35.例文帳に追加

通常の気体に変化したＩＰＡ蒸気は、新たに流入したＩＰＡ蒸気によって押し上げられ、やがてガス供給口３５から湧き出すようにして押し出される。 - 特許庁

In the IPA vapor supply process, nitrogen gas containing IPA vapor is supplied from the first drying gas supply port 251a to the central part of the upper surface of the wafer W.例文帳に追加

ＩＰＡベーパ供給工程では、第１乾燥ガス供給口２５１ａからウエハＷの上面の中央部に向けて、ＩＰＡベーパを含む窒素ガスが供給される。 - 特許庁

Thereafter, IPA supply is resumed and the DIW on the substrate W is completely replaced to the IPA by increasing the rotational speed of the substrate W (replacement processing).例文帳に追加

さらにその後、ＩＰＡ供給を再開して基板の回転速度を高めることにより、基板Ｗ上のＤＩＷを完全にＩＰＡに置換する（置換処理）。 - 特許庁

Subsequently, a predetermined amount of IPA is supplied to the liquid film on the substrate W (solvent supply processing), and the liquid film is churned by rotating the substrate without supplying the IPA (churning processing).例文帳に追加

その後、所定量のＩＰＡを基板Ｗ上の液膜に供給してから（溶剤供給処理）、ＩＰＡを供給せずに基板を回転させることで液膜を攪拌する（攪拌処理）。 - 特許庁

IPA-N2 feed pipes 424b are arranged on the peripheral edge part of the upper end of this member 424a, and IPA vapor is discharged directly through the pipes 424b along with nitrogen gas, towards the space SP to form an atmosphere containing IPA vapor in the space SP.例文帳に追加

この仕切部材４２４ａの上端周縁部には、ＩＰＡ・Ｎ2供給管４２４ｂが配置されており、乾燥処理空間ＳＰに向けてＩＰＡペーバーを窒素ガスとともに直接吐出して乾燥処理空間ＳＰ内にＩＰＡベーパーを含む雰囲気を形成する。 - 特許庁

A hydrogen feeding system 2 of a fuel cell system FCS uses isopropyl alcohol(IPA) as a fuel.例文帳に追加

燃料電池システムＦＣＳの水素供給システム２は、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）を燃料とする。 - 特許庁

In the central area drying process, an IPA contained in the dried air flow Gf is still smaller than 2 mol%, and in the outside area drying process, the IPA has a higher concentration than that in the central area drying process.例文帳に追加

乾燥気体流Ｇｆに含有するＩＰＡが、中心エリア乾燥工程中は２ｍｏｌ％未満を維持し、外側エリア乾燥工程では中心エリア乾燥工程中よりも高濃度とする。 - 特許庁

A balanced mixture of the IPA, acetone and hydrogen are produced in a hydrogenating reactor 26 by the hydrogenating reaction of the acetone, and the IPA is liquefied and separated in the auxiliary tank 20 through a condenser 27.例文帳に追加

水素化反応器２６ではアセトンの水素化反応によりＩＰＡ、アセトン及び水素の平衡混合物が生成され、凝縮器２７を通って補助タンク２０にはＩＰＡが液化分離される。 - 特許庁

Then valves 671 and 691 are opened, and the pure water and IPA vapor are respectively supplied to the surface of wafer W from the pure water supplying nozzle 64 and IPA vapor supplying nozzle 65.例文帳に追加

またこのとき、バルブ６７１，６９１を開成して、ウエハＷの表面に純水供給ノズル６４およびＩＰＡベーパ供給ノズル６５からそれぞれ純水およびＩＰＡベーパを供給する。 - 特許庁

While the amount of DIW on the substrate is reduced, supply of IPA for replacing the DIW is started thus reducing the amount of IPA required for replacement.例文帳に追加

こうして基板上のＤＩＷ量が減少した状態で、ＤＩＷを置換するためのＩＰＡの供給を開始することにより、置換に必要なＩＰＡの量を少なくすることができる。 - 特許庁

The IPA jet nozzle 40 is held oscillatably by a nozzle oscillation mechanism 43 via an arm 42.例文帳に追加

ＩＰＡ噴出ノズル４０はアーム４２を介してノズル揺動機構４３により揺動可能に支持される。 - 特許庁

To provide an isopropyl alcohol(IPA) vapor dryer in which generation of watermarks is reduced furthermore.例文帳に追加

ウォーターマークの発生をより一層低減するイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）蒸気乾燥装置を提供する。 - 特許庁

In the post-treatment chamber 5, isopropyl alcohol(IPA) is jetted from a shower nozzle 22 onto the upper side of the substrate 10.例文帳に追加

後処理室５では、基板１０の上面にシャワーノズル２２からイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）を噴射する。 - 特許庁

As a result, the IPA vapor is sprayed to the surface of the wafer immediately after spraying the resist stripper from the first supply nozzle 33, so that the residual resist stripper on the surface of the wafer is efficiently replaced by IPA.例文帳に追加

これにより、第一の供給ノズル３３からの剥離液の噴射の直後にＩＰＡ蒸気がウェーハ表面に噴射されることとなり、ウェーハ表面の残留剥離液が効率的にＩＰＡに置換される。 - 特許庁

The IPA with moisture concentration 0.01 weight% or less is supplied from the intermediate tank 6 to a processing chamber 11, where a wafer W is processed with the IPA being in a high temperature and highly pressurized.例文帳に追加

中間タンク６からは、処理チャンバ１１に水分濃度が０．０１重量％以下のＩＰＡが供給され、処理チャンバ１１では、当該ＩＰＡを高温、高圧状態として、ウエハＷの処理が行われる。 - 特許庁

To provide a base plate holder which prevents the IPA solution liquidized by adsorbing the cleaning water from staying in contact with the glass base plate when carrying out a drying process by IPA vapor drying.例文帳に追加

ＩＰＡベーパー乾燥を用いて乾燥工程を行う場合に、洗浄水を吸着して液体化したＩＰＡ溶液が、ガラス基板に接触したまま滞留するのを防止可能とする基板ホルダーを提供すること。 - 特許庁

Used mixture liquid removed from the substrate W is collected without adhering to the substrate surface Wf, and the IPA concentration is conditioned not lower than the azeotropic composition ratio of DIW and IPA.例文帳に追加

また、基板表面Ｗｆに残留付着することなく基板Ｗから除去された使用済混合液は回収され、ＩＰＡ濃度がＤＩＷとＩＰＡとの共沸組成比率以上に調整される。 - 特許庁

Then IPA vapor (vapor of organic solvent) is jetted out of the 1st supply nozzle 40 to form an air current area AR of the IPA vapor and the wafer W is lifted so as to pass through the air current area AR.例文帳に追加

そして、第１供給ノズル４０からＩＰＡ蒸気(有機溶剤の蒸気)を吐出してＩＰＡ蒸気の気流域ＡＲを形成し、この気流域ＡＲを基板Ｗが通過するように基板Ｗを引き揚げる。 - 特許庁

Subsequently, the deionized water 80a is discharged from the storage vessel 72, and the liquid film 80c of the IPA is descended.例文帳に追加

続いて、貯留槽７２から純水８０ａが排出され、ＩＰＡの液膜８０ｃが、下降させられる。 - 特許庁

To reduce consumption of organic solvent like IPA and prevent watermarks on the surface of the substrate.例文帳に追加

ＩＰＡ等の有機溶媒の消費量を低減させ、基板の表面におけるウォーターマークの発生を抑制させる。 - 特許庁

The IPA jet nozzle 40 is supported in a shakable manner by a nozzle shaking mechanism 43 through an arm 42.例文帳に追加

ＩＰＡ噴出ノズル４０はアーム４２を介してノズル揺動機構４３により揺動可能に支持される。 - 特許庁

Then, the natural oxide film 3 is removed by IPA washing and an HSG 5 is stacked by CVD method.例文帳に追加

その後、ＩＰＡ洗浄により自然酸化膜３の除去を行い、ＣＶＤ法を用いてＨＳＧ５を堆積する。 - 特許庁

IPA steam is then discharged from the second gas discharging part 566 while lifting up the wafer W from pure water.例文帳に追加

そして、純水から基板Ｗを引き揚げつつ、第２の気体吐出部５６６からＩＰＡ蒸気を吐出する。 - 特許庁

Since the treatment is carried out in the apparatus 100, IPA decomposing equipment as one of factory facilities is not necessary.例文帳に追加

これは基板処理装置１００内で行われるため、工場設備としてのＩＰＡ分解設備は不要となる。 - 特許庁

As the etching solution of a zinc oxide film there is used one where isopropyl alcohol (IPA) is added to an aqueous phosphoric acid solution.例文帳に追加

酸化亜鉛膜のエッチング液として、リン酸水溶液にイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）を添加したものを用いる。 - 特許庁

The substrate W is lifted up into the IPA atmosphere from inside the process vessel 15 by a lifting/lowering mechanism 40.例文帳に追加

基板Ｗは、昇降機構４０により、処理槽１５の内部からＩＰＡ雰囲気中に引き揚げられる。 - 特許庁

With this constitution, the amount of the IPA vapor per unit area flowed out from the gas supply opening 35 becomes uniform.例文帳に追加

これにより、ガス供給口３５から湧き出す単位面積当たりのＩＰＡ蒸気の量は均一となる。 - 特許庁

A reaction accelerating liquid (a mixture liquid of IPA, water, and a base (TMAH)) is delivered from an acceleration agent supply nozzle 32.例文帳に追加

促進液供給ノズルからは反応促進液（ＩＰＡと水と塩基（ＴＭＡＨ）の混合液）が吐出される。 - 特許庁

If you have a small network and think these policies are too much you should look at the Site SecurityHandbook.例文帳に追加

もし、小規模のネットワークと上のポリシーが過剰と思う場合にはSite Security Handbook(訳注:IPAによるRFC日本語訳)をみてください。 - Gentoo Linux

Subsequently, the surface of the substrate is dried by ejecting organic solvent gas containing IPA vapor toward the surface of the substrate.例文帳に追加

その後、ＩＰＡ蒸気を含む有機溶剤ガスを基板表面に向けて吐出して基板表面を乾燥させる。 - 特許庁

Then, the opposite members are moved to second proximity positions while IPA steam is supplied (steps ST7 and ST8).例文帳に追加

続いて、ＩＰＡ蒸気を供給しながら対向部材を第２近接位置へ移動させる（ステップＳＴ７，ＳＴ８）。 - 特許庁

Mixture (IPA+DIW) is supplied onto the surface of a substrate supported substantially in horizontal posture after rinsing.例文帳に追加

リンス処理後に略水平姿勢で支持された基板の表面に混合液（ＩＰＡ＋ＤＩＷ）を供給する。 - 特許庁

Thereafter, nitrogen containing IPA vapor is supplied to the closed processing vessel 12 (remaining solution replacing step S4).例文帳に追加

つぎに、ＩＰＡ蒸気を同伴した窒素を密閉処理容器１２内に供給する（残存液置換工程 Ｓ４）。 - 特許庁

The IPA in an auxiliary tank 20 is divided into hydrogen and acetone in a dehydrogenating reactor 24 by dehydrogenating reaction.例文帳に追加

補助タンク２０内のＩＰＡは脱水素反応器２４で脱水素反応により水素とアセトンに分離する。 - 特許庁

Prior to this decision, the Information-technology Promotion Agency, Japan (IPA) established the CRYPTREC Evaluation Committee (referred to as ‘Evaluation Committee’ hereafter) to evaluate the security and implementability of cryptographic techniques available for e-Government. IPA also undertook administrative responsibilities for CRYPTREC in 2000, in response to a request from the METI (former Ministry of International Trade and Industry). 例文帳に追加

これに先立ち、2000 年度、経済産業省（旧通商産業省）からの委託を受けて、情報処理振興事業協会（IPA）は電子政府で利用可能な暗号技術を安全性および実装性など技術的な面から評価することを目的とした暗号技術評価委員会を設置するとともに同委員会の事務局を務めた。 - 経済産業省

Pre-drying processing (processing of supplying a high-concentration IPA to a substrate surface Wf) is executed, so that the concentration of an IPA of a liquid film to be formed on the substrate surface Wf is always adjusted to a final value suitable for substrate drying.例文帳に追加

乾燥前処理（基板表面Ｗfに高濃度ＩＰＡを供給する処理）を行うことで基板表面Ｗfに形成される液膜のＩＰＡ濃度は常に最終的に基板乾燥に適した値に調整されている。 - 特許庁

By supplying IPA (isopropyl alcohol) being an example of a volatile treatment liquid with higher volatility than pure water to the upper surface of a horizontally-held substrate W, a liquid film of the IPA is formed which covers the whole area of the upper surface of the substrate W.例文帳に追加

水平に保持された基板Ｗの上面に純水よりも揮発性の高い揮発性処理液の一例であるＩＰＡ（イソプロピルアルコール）を供給して、基板Ｗの上面全域を覆うＩＰＡの液膜を形成する。 - 特許庁

The liquid film of the IPA is removed from the surface of the substrate W by rotating the substrate W around a vertical rotation axis passing through the center part of the substrate W while the liquid film of the IPA being held on the substrate W.例文帳に追加

そして、基板Ｗ上にＩＰＡの液膜を保持させた状態で基板Ｗの中央部を通る鉛直な回転軸線まわりに基板Ｗを回転させて基板Ｗ上からＩＰＡの液膜を除去する。 - 特許庁

In the second liquid cut-off chamber 6, compressed air is blown from air knives 23, 23, to the surfaces of the substrate to remove IPA.例文帳に追加

第二液切り室６では、基板１０表面にエアーナイフ２３・２３から加圧空気を吹き付けてＩＰＡを除去する。 - 特許庁

To provide a wafer drying method which can raise the yield of an ultrafine pattern wafer without using IPA vapor.例文帳に追加

ＩＰＡベーパを用いることなく、超ファインパターンウエハの歩留りを上げることができるウエハ乾燥方法を提供する。 - 特許庁

As the result, the IPA vapor can be efficiently supplied to the substrate W, so that consumption of the organic solvent can be reduced.例文帳に追加

その結果、ＩＰＡ蒸気を基板Ｗに効率よく供給できるため有機溶剤の消費量を削減できる。 - 特許庁

Thus, the IPA vapor can be supplied efficiently to the wafer W, so the consumption of the organic solvent can be reduced.例文帳に追加

その結果、ＩＰＡ蒸気を基板Ｗに効率よく供給できるため、有機溶剤の消費量を削減できる。 - 特許庁

As described above, the organic solvent is supplied in two stages, the quantity of consumption of the IPA can be suppressed.例文帳に追加

このように有機溶剤の供給を２段階で行っているため、ＩＰＡの消費量を抑制することができる。 - 特許庁

The evaporated IPA is passed through openings made in the upper receiver 10 for reuse in the upper drying region.例文帳に追加

蒸発したＩＰＡは、上方受け部１０に設けた開口部を通って、上方の乾燥領域で再利用される。 - 特許庁

Moreover, the substrate W is lifted up through the pure water flow to atmosphere including the stream of the IPA.例文帳に追加

さらに、その後、基板Ｗが純水流を通過してＩＰＡの蒸気を含む雰囲気中にまで引き揚げられる。 - 特許庁