IPAを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 234件
The IPA and nitrogen gas supplied from the respective supply pipes are mixed by the IPA jet nozzle 40 to form IPA fine liquid drops.例文帳に追加
各供給管より供給されたIPAおよび窒素ガスはIPA噴出ノズル40により混合され、IPA微小液滴が生成される。 - 特許庁
To precisely measure the IPA concentration in an aqueous solution containing a very small amount of IPA.例文帳に追加
微量IPAを含む水溶液のIPA濃度を精度よく測定できるようにする。 - 特許庁
i) Publicize the e-Government recommended cipher specifications on the TAO’s website and the IPA’s website. 例文帳に追加
(イ)電子政府推奨暗号の仕様を可能な限りTAO及びIPAのホームページに掲載する。 - 経済産業省
An IPA liquid supply path is provided at the center part of the shield member 64, an IPA liquid supply unit is connected to the IPA liquid supply path, and a 100% IPA liquid of high temperature (high-temperature IPA liquid) heated up to predetermined temperature can be discharged toward the substrate surface Wf.例文帳に追加
この遮断部材64の中央部にはIPA液供給路が設けられており、当該IPA液供給路に対してIPA液供給ユニットが接続されており、所定温度にまで加熱された高温の100%IPA液(高温IPA液)を基板表面Wfに向けて吐出可能となっている。 - 特許庁
This spray device is provided with an IPA mist forming part 34 which forms the IPA mist by making nitrogen gas mixture with liquid-phase IPA, and an IPA mist spray part 37 which has IPA mist jet nozzles on an IPA mist jet side and makes the mist formed in the forming part 34 jet toward a wafer through the jet nozzles.例文帳に追加
窒素ガスと液相IPAとを混合させてIPAミストを形成するIPAミスト形成部34と、IPAミスト噴射側にIPAミスト噴射孔3d,93dを有し、IPAミスト形成部で形成されたミストをIPAミスト噴射孔からウェハに向けて噴射させるIPAミスト噴霧部31,37とを備える。 - 特許庁
The second dry gas generation part 830 generates the dry gas by mixing IPA vapor vaporized in an IPA vapor generation reservoir with the nitrogen gas.例文帳に追加
第2乾燥ガス生成部830は、IPAベーパ発生槽で蒸発したIPA蒸気と窒素ガスとを混合することにより乾燥ガスを生成する。 - 特許庁
An IPA supply pipe 411 and a nitrogen gas supply pipe 412 are connected to the IPA jet nozzle 40.例文帳に追加
IPA噴出ノズル40にはIPA供給管411および窒素ガス供給管412が接続される。 - 特許庁
To enable reuse of IPA (isopropyl alcohol) with a simple configuration in drying with use of the IPA for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加
半導体装置の製造等で使用するIPAを用いた乾燥において、簡単な構成でIPAを再利用可能にする。 - 特許庁
As a result, the air current of IPA between substrates W is stable, and the concentration of steam of the IPA contacting each substrate W is constant.例文帳に追加
その結果、基板W間のIPAの気流が安定し、各基板Wに接触するIPAの蒸気の濃度が均一となる。 - 特許庁
The vapor of IPA is mixed in the purified water in a treating tank 21 and the IPA-mixed waste liquid is discharged through discharge lines 4b, 4c.例文帳に追加
IPA蒸気は処理槽21中の純水に混入し、IPAを含む排液として排出路4b、4cを流れる。 - 特許庁
Moisture is gradually removed from the IPA by the moisture removal filter 4 by circulating the IPA in the circulation passage 32.例文帳に追加
IPAは、循環路32内を循環させることにより、水分除去フィルタ4により徐々に水分が除去される。 - 特許庁
Therefore, even when an IPA gas having a high concentration is used, the concentration of the IPA gas can be precosely measured.例文帳に追加
このため、高濃度のIPAガスを使用する場合であっても、IPAガスの濃度を正確に計測できる。 - 特許庁
Thus the concentration of the IPA gas can be accurately measured even when the IPA gas of high concentration is used.例文帳に追加
このため、高濃度のIPAガスを使用する場合であっても、IPAガスの濃度を正確に計測できる。 - 特許庁
Consequently, absorption of water by the IPA liquid discharged from an IPA liquid discharge hole 97a is suppressed.例文帳に追加
これによって、IPA液吐出口97aから吐出されたIPA液への水分の吸湿が抑制される。 - 特許庁
IPA is supplied to the wafer W in the enclosed chamber 86 and inner pressure thereof is reduced.例文帳に追加
密閉チャンバ86内では基板WにIPAが供給されるとともに、密閉チャンバ86内の圧力が減じられる。 - 特許庁
His Committee was convened as a committee of TAO and IPA, and people from MPHPT, METI, the National Police Agency, the Defense Agency, the Ministry of Foreign Affairs, and other agencies participated as observers. 例文帳に追加
TAO 及び IPA の委員会として開催し、総務省、経済産業省、警察庁、防衛庁、外務省等がオブザーバとして参加した。 - 経済産業省
iii) In the case of ii), when specifications can no longer be viewed, there will be a message explaining the situation on the TAO and IPA websites. 例文帳に追加
(ハ)(ロ)の場合であって、当該暗号の仕様を参照することができなくなった場合には、その旨を TAO 及びIPA のホームページに掲載する。 - 経済産業省
The staff in charge of daily tasks of the Monitoring Subcommittee will be monitored by IPA and TAO/CRL (Communications Research Laboratory).TAO and CRL will merge in April 2004. 例文帳に追加
なお、監視委員会の日常業務を行う監視要員をTAO/通信総合研究所(CRL)(両機関は2004年4月に統合予定)及びIPAに配置する。 - 経済産業省
To restrain organic solvent like IPA from dissolving in pure water.例文帳に追加
IPA等の有機溶剤の純水への溶解を抑制する。 - 特許庁
The mixed liquid is finally prepared at a rate of IPA of 100%.例文帳に追加
また、前記混合液は、最終的にIPAの割合が100%にされる。 - 特許庁
Consequently, the DIW remaining on the substrate melts in the IPA.例文帳に追加
これにより、基板上に残留していたDIWがIPA内に溶け込む。 - 特許庁
Thus, the IPA vapor is supplied to the surface of the wafer W, pure water remaining in a trench or the like on the surface of the wafer W is turned to an IPA aqueous solution since the IPA vapor melts in and evaporates promptly by the volatility of IPA.例文帳に追加
これにより、ウエハWの表面にIPAベーパが供給され、ウエハWの表面上のトレンチなどに残留している純水は、IPAベーパが溶け込むことによりIPA水溶液となり、IPAの揮発性により速やかに蒸発する。 - 特許庁
IPA vapor (organic solvent vapor) is spouted out from the first supply nozzle 40 so as to form a flow area AI of IPA vapor, the substrate W is made to pass through the flow area AI, and the IPA is condensed on the surface of the substrate W.例文帳に追加
そして、第1供給ノズル40からIPA蒸気(有機溶剤の蒸気)を吐出してIPA蒸気の気流域AIを形成し、この気流域AIに基板Wを通過させ、基板W表面にIPAを凝縮させる。 - 特許庁
Isopropyl alcohol (IPA) is supplied from a supply source 30 of the IPA to a storage tank 3, and the IPA in the storage tank 3 is circulation-supplied through a circulation passage 32 having a moisture removal filter 4 and a concentration measurement part 5.例文帳に追加
イソプロピルアルコール(IPA)の供給源30からIPAを貯留タンク3に供給し、貯留タンク3内のIPAを、水分除去フィルタ4及び濃度測定部5を備えた循環路32を介して循環供給する。 - 特許庁
That means, the recycled IPA is supplied to the substrate W subjected to rinsing processing to substitute a rinse liquid (DIW) adhering on a substrate surface Wf with the recycled IPA, and then, the unused IPA is supplied to the substrate surface Wf to form a surface state suitable to drying processing.例文帳に追加
つまり、リンス処理を受けた基板Wに対して再利用IPAを供給して基板表面Wfに付着しているリンス液(DIW)を再利用IPAに置換した後に未使用のIPAを基板表面Wfに供給して乾燥処理に適した表面状態を形成している。 - 特許庁
Ozonized water (an IPA decomposing agent) is supplied to the line 4c from an ozonized water supplying source 72 of this substrate treating apparatus 100 and hydrochloric acid (an IPA auxiliary decomposing agent) is also supplied to the line 4c from a hydrochloric acid supplying source 73 so that the IPA in the waste liquid is decomposed into harmless substances.例文帳に追加
この排出路4cに、基板処理装置100のオゾン水供給源72から供給されるオゾン水(IPA分解剤)と、塩酸供給源73から供給される塩酸(IPA分解補助剤)とを供給することにより、排液中のIPAは無害物質へと分解してゆく。 - 特許庁
At that time, the pure water flow acts as a barrier layer for preventing any contact of the IPA steam with the surface of the stored pure water so that the formation of any IPA layer on a vapor/liquid boundary face can be prevented, and the adhesion of any particle through the IPA layer can be suppressed.例文帳に追加
このときに、純水流がIPA蒸気と貯留された純水表面との接触を防止する障壁層として働き、気液界面におけるIPA層の形成を防ぎ、IPA層を介したパーティクル付着を抑制する。 - 特許庁
To eliminate the need to provide a nitrogen gas feeding passage and a liquid-phase IPA(Isopropyl Alcohol) feeding passage in an IPA mist spray device for a wafer drying device, and to contrive to make it possible to stabilize the mixing ratio of IPA with nitrogen gas in each jet part in the spray device.例文帳に追加
窒素ガス供給通路と液相のIPA供給通路とを備える必要がなく、各噴射部分においてIPAと窒素ガスとの混合比率を安定させることができるウェハ乾燥装置及び方法及びウェハ乾燥装置用IPAミスト噴霧装置を提供する。 - 特許庁
When the plurality of substrates W are immersed in the storage vessel 72 in replacement processing of deionized water by IPA, the vapor of the IPA is supplied from the exhaust nozzles 87 into the drying chamber 71, and a liquid film 80c of the IPA is formed on a liquid surface 80b of the deionized water 80a.例文帳に追加
IPAによる純水の置換処理において、貯留槽72に複数の基板Wが浸漬されると、吐出ノズル87から乾燥チャンバ71内にIPAの蒸気が供給され、純水80aの液面80bにIPAの液膜80cが形成される。 - 特許庁
According to the method for drying wafers W having undergone deionized water treatment one by one, a mist of IPA (isopropyl alcohol) carried by N_2 is sprayed onto the surface of the wafer W, and the wafer W with IPA sprayed thereon is spun to cause IPA to exhale.例文帳に追加
純水処理後のウエーハWを枚葉式で乾燥させる方法であって、霧状のIPAをN_2に乗せてウエーハW表面に向けて噴霧すると共に、IPAが付着したウエーハWを回転させて、IPAを発散させる。 - 特許庁
ii) For those specifications which cannot be publicized on either website, the URL of a homepage where the specifications can be referenced will be indicated or directions on how to find the specifications on the TAO and IPA websites will be provided. 例文帳に追加
(ロ)電子政府推奨暗号のうちその仕様をTAO及びIPAのホームページに掲載することができないものについては、当該暗号の仕様を参照することのできるホームページのURL、あるいは、その仕様を参照する方法をTAO及びIPAのホームページに掲載する。 - 経済産業省
Then, the steam of a liquid of mixture of the HFE and IPA is supplied to the surface of the wafer W.例文帳に追加
その後、HFEとIPAの混合液の蒸気をウエハWの表面に供給する。 - 特許庁
WAFER DRYING DEVICE, METHOD AND IPA MIST SPRAY DEVICE FOR WAFER DRYING DEVICE例文帳に追加
ウェハ乾燥装置及び方法及びウェハ乾燥装置用IPAミスト噴霧装置 - 特許庁
Thereafter, IPA vapor is introduced from the upper introducing pipe 24 into the treating chamber 11.例文帳に追加
その後、上方導入管24から処理チャンバ11内にIPAベーパが導入される。 - 特許庁
From the second supply nozzle 36, IPA vapor is sprayed from a nozzle port.例文帳に追加
第二の供給ノズル36からは、IPA蒸気がノズル口より噴射される。 - 特許庁
After the replacement with the IPA liquid, the IPA liquid is removed from the substrate surface Wf to dry the surface Wf, in such a case, the water absorption by the IPA liquid is suppressed, so that remaining of water in the IPA liquid on the substrate surface Wf is securely suppressed through the drying process to effectively suppress the occurrence of the watermark and pattern destruction.例文帳に追加
そして、IPA液への置換後に、基板表面WfからIPA液が除去されて基板表面Wfが乾燥されるが、上記したようにIPA液への水分吸湿が抑制されていることから、当該乾燥処理によりIPA液中の水分が基板表面Wfに残留するのが確実に抑えられてウォーターマークやパターン倒壊を効果的に抑制している。 - 特許庁
Since the IPA steam from the first supply nozzle 40 is not jetted directly toward pure water and the contact of atmosphere including the IPA steam with pure water is prevented by the nitrogen gas flow, dissolution of the IPA steam into pure water can be prevented and the transferring of particles onto a wafer caused by the dissolution of the IPA steam can be suppressed.例文帳に追加
第1供給ノズル40からIPA蒸気を直接純水に向けて吐出せず、窒素ガス流によってIPA蒸気を含む雰囲気と純水との接触を防止しているため、IPA蒸気の純水への溶解を防止することができ、IPA蒸気の溶解に起因するパーティクルの転写を抑制することができる。 - 特許庁
The IPA is supplied in two stages to a substrate W before execution of drying processing.例文帳に追加
そして、基板Wに乾燥処理の実行前に2段階のIPA供給を行っている。 - 特許庁
In the evaporation path 21, IPA is separated from water and evaporates during flow of the dropped mixture solution through the passage.例文帳に追加
蒸発用流路21では、落下した混合液が流れる間に、水と分離してIPAが蒸発する。 - 特許庁
Consequently, the IPA vapor is blown to the substrate W.例文帳に追加
これにより、基板WにIPA蒸気が吹き付けられ、乾燥が行われることとなる。 - 特許庁
As a result, the surface to be processed of the substrate 9 can be cleaned with IPA.例文帳に追加
その結果、基板9の被処理面をIPAを用いて洗浄することができる。 - 特許庁
As a result, the surface to be treated of the substrate 9 can be washed using IPA.例文帳に追加
その結果、基板9の被処理面をIPAを用いて洗浄することができる。 - 特許庁
In the rinse process 14, the insulating film and metal wiring are rinsed using, for example, rinse solution IPA.例文帳に追加
リンス処理14では、絶縁膜及びメタル配線を例えばリンス液IPAにより濯ぐ。 - 特許庁
An atmosphere comprising the steam of IPA is formed above the process vessel 15.例文帳に追加
処理槽15の上方にはIPAの蒸気を含む雰囲気が形成されている。 - 特許庁
Finally, moisture is removed from the IPA followed by the complete removal of moisture from the wafer by high-speed rotation.例文帳に追加
最後にIPAにより水分を除去し、高速でウエハの水分を完全に除去する。 - 特許庁
Thereby the IPA vapor is made to flow into the bath 20 and the substrate W within the bath 20 is dried.例文帳に追加
これにより、処理槽20にIPA蒸気が流入し、処理槽20内の基板Wが乾燥される。 - 特許庁
IPA liquid is supplied to an upper processing space 41 and a lower processing space 42 respectively.例文帳に追加
上処理空間41および下処理空間42にそれぞれIPA液が供給される。 - 特許庁
The IPA liquid having lower surface tension than the pure water is supplied by an IPA nozzle 4 to the surface of the wafer W held by the spin chuck 2.例文帳に追加
一方、スピンチャック2に保持されたウエハWの表面には、IPAノズル4によって、純水よりも表面張力の低いIPA液を供給することができる。 - 特許庁
The called terminal 11 or 13 automatically logs on the Internet 1 in response to this notice to receive a tentative Internet protocol address(IPA).例文帳に追加
被呼端末11又は13は、この通知に応じて、自動的にインターネット1にログオンして、仮のインターネット・プロトコル・アドレス(IPA)を割り当てられる。 - 特許庁
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