「Immersion」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

To take countermeasures against the influence of a liquid in an immersion lithographic apparatus.例文帳に追加

液浸リソグラフィ装置における液体の悪影響に対処する。 - 特許庁

To improve an adhesion of a silver layer deposited from an immersion plating bath.例文帳に追加

浸漬めっき浴から析出した銀層の付着性を改善する。 - 特許庁

To improve the shape of a resist pattern obtained by an immersion lithography.例文帳に追加

浸漬リソグラフィにより得られるレジストパターンの形状を良好にする。 - 特許庁

RESIST FILM FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING RESIST例文帳に追加

液浸露光用レジスト膜及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a liquid immersion lithographic apparatus that prevents an adverse effect on pattern image quality due to existence of bubbles in immersion liquid.例文帳に追加

液浸露光装置において、液浸用液体中に気泡が存在し、パターン像の品質に有害な影響が生じることを防止する。 - 特許庁

To provide an immersion lithographic apparatus that improves a stability of meniscus to control pattern defects caused by bubbles in an immersion liquid or the like.例文帳に追加

メニスカスの安定性を向上させて、液浸液中の気泡などによるパターン欠陥を低減する液浸リソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR PREVENTING MEMBRANE SURFACE BLOCKING IN IMMERSION-TYPE MEMBRANE SEPARATION APPARATUS例文帳に追加

浸漬型膜分離装置の膜面閉塞防止装置および方法 - 特許庁

An immersion liquid for microscopy using water immersion objective has a refractive index of the range of 1.25 to 1.4 and a kinematic viscosity of greater the 20 mm^2 /s at 20°C.例文帳に追加

水浸対物レンズを用いる顕微鏡検査用の浸液は、屈折率が1.25〜1.4の範囲であり、動粘度が20℃において20mm^2/sを超える。 - 特許庁

PERIPHERAL FACE FRICTION REDUCING METHOD AT IMMERSION OF CAISSON AND CAISSON BODY例文帳に追加

ケーソン沈設時の周面摩擦力低減工法およびケーソン躯体 - 特許庁

The system also comprises a light detector at a first location of the immersion head and a laser source at a second location within the immersion head.例文帳に追加

このシステムはまた、浸漬ヘッドの第１の位置に光検出器、並びに、前述の浸漬ヘッド内の第２の位置にレーザ光源を含む。 - 特許庁

APPARATUS FOR IMMERSION COATING AND METHOD FOR PRODUCING PHOTOSENSITIVE BODY FOR ELECTROPHOTOGRAPHY例文帳に追加

浸漬塗工装置及び電子写真用感光体の製造方法 - 特許庁

The used cleaning liquid is fed to an outlet system from the immersion hood with air and ozone gas confined in the immersion hood.例文帳に追加

使用済み洗浄液は、液浸フードに閉じ込められた空気及び気体状オゾンとともに、液浸フードから出口システムへと給送される。 - 特許庁

METHOD FOR SPECIFYING DAMAGED MEMBRANE IN IMMERSION TYPE HOLLOW FIBER MEMBRANE MODULE例文帳に追加

浸漬型中空糸膜モジュールにおける損傷膜の特定方法 - 特許庁

LIQUID-IMMERSION OBJECTIVE LENS AND MICROSCOPE INCLUDING THE SAME例文帳に追加

液浸対物レンズ及びこの液浸対物レンズを有する顕微鏡 - 特許庁

METHOD FOR CONTINUOUSLY CASTING MIDDLE AND HIGH CARBON STEEL USING GROOVED IMMERSION NOZZLE例文帳に追加

溝付浸漬ノズルを用いた中高炭素鋼の連続鋳造方法 - 特許庁

And ultimately personalizing immersion therapies for the environment.例文帳に追加

そして究極的に 周囲の環境を パーソナライズしてしまうことです - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書

SOLID IMMERSION LENS, OPTICAL PICKUP DEVICE, AND OPTICAL RECORDING AND REPRODUCING DEVICE例文帳に追加

ソリッドイマージョンレンズ、光学ピックアップ装置及び光記録再生装置 - 特許庁

IMMERSION NOZZLE FOR CONTINUOUS CASTING AND METHOD FOR CONTINUOUSLY CASTING MOLTEN STEEL例文帳に追加

連続鋳造用浸漬ノズルおよび溶鋼の連続鋳造方法 - 特許庁

To allow a user to secure a higher immersion feeling (realistic feeling).例文帳に追加

ユーザが、より高い没入感（臨場感）を確保できるようにする。 - 特許庁

A system in which immersion fluid containing liquid is provided from the outside to isolate an environmental chamber of an immersion lithography device is disclosed.例文帳に追加

液体を含む液浸流体が外部環境から提供され、液浸リソグラフィ装置の環境チャンバを隔離するシステムが開示される。 - 特許庁

IMMERSION TYPE AUTOMATIC DEVELOPING DEVICE FOR LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE AND METHOD THEREOF例文帳に追加

浸漬型平版印刷版用自動現像装置およびその方法 - 特許庁

This filter equipment is provided with a membrane immersion tank 4 in which raw water flows, an immersion type membrane filter device 2 consisting of plural membrane modules 2a immersed into the membrane immersion tank 4, an adjusting tank 5 communicating with the membrane immersion tank 4 via an overflow pipe 7, and a circulation pump 8 for feeding liquid in the adjusting tank 5 to the membrane immersion tank 4 with a fixed flow rate.例文帳に追加

原水が流入する膜浸漬槽４と、膜浸漬槽４に浸漬する複数の膜モジュール２ａからなる浸漬型膜濾過装置２と、膜浸漬槽４にオーバーフロー管７を介して連通する調整槽５と、調整槽５の槽内液を膜浸漬槽へ定流量で供給する循環ポンプ８とを備えたものである。 - 特許庁

To provide a resist composition for immersion exposure which inhibits elution into an immersion medium and does not impair the function of resist in an immersion exposure technique, has a high contact angle to the immersion medium, and is capable of forming a fine resist pattern, and a method for manufacturing a semiconductor device using the same.例文帳に追加

液浸露光技術において、液浸媒体への溶出を抑制してレジストの機能を損なわず、前記液浸媒体に対して高い接触角を有し、微細なレジストパターンを形成可能な液浸露光用レジスト組成物、及びそれを用いた半導体装置の製造方法の提供。 - 特許庁

The immersion lithography apparatus is disclosed, in which a voltage generator applies potential difference to an object in contact with the immersion liquid, such that bubbles and/or particles in the immersion liquid are either attracted or repelled by the object due to the electrokinetic potential of the surface of the bubble in the immersion liquid.例文帳に追加

電圧発生装置が浸漬液と接触している対象物に電位差を印加し、その結果、浸漬液中の気泡表面の運動電位によって、浸漬液中の気泡及び／又は粒子が対象物から引き寄せられる、又ははじかれる浸漬リソグラフィ装置が開示される。 - 特許庁

The gas is blown into an immersion tube from one or more nozzles disposed in the inner wall of the immersion tube dipped into the molten metal and a relative flowing speed of the molten metal from the upper part toward the lower part of the immersion tube to the inner wall of the immersion tube, is regulated to ≥0.8 m/s.例文帳に追加

溶融金属内に浸漬した１つあるいは複数の浸漬管の内壁に設置されたノズルから浸漬管内溶融金属にガスを吹き込み、前記浸漬管の上部から下部に向かう溶融金属の浸漬管内壁に対する相対流速を0.8m/s 以上とする。 - 特許庁

An immersion lithographic device is disclosed where a voltage generator applies a potential difference to an object in contact with the immersion liquid so that bubbles and/or particles in the immersion liquid are attracted or repelled from the object due to the electrokinetic potential of the surface of each bubble in the immersion liquid.例文帳に追加

電圧発生装置が浸漬液と接触している対象物に電位差を印加し、その結果、浸漬液中の気泡表面の運動電位によって、浸漬液中の気泡及び／又は粒子が対象物から引き寄せられる、又ははじかれる浸漬リソグラフィ装置が開示される。 - 特許庁

The immersion lithography device including an oil immersion supply device 230 that creates a flow of liquid in an exposure zone, a showerhead that includes an oil immersion discharge device, and a cleaning device that cleans the portion of a projection optical system contacting an immersion liquid with a cleaning gas is provided.例文帳に追加

露光ゾーン内に液体の流れを生成する液浸液供給デバイス２３０および液浸液放出デバイスを含むシャワーヘッドと、液浸液に接触した投影光学システムの部分をクリーニングガスによってクリーニングするクリーニングデバイスとを含む液浸リソグラフィ装置が提供される。 - 特許庁

It is preferred that at least one of the lid, the immersion nozzle and the wide range type immersion nozzle is heated, an inert gas is blown into a clearance between the lid or the wide range type immersion nozzle and the inner wall of the casting mold, or a clearance between the lid or the wide range type immersion nozzle and the inner wall of the casting mold is sealed.例文帳に追加

蓋、浸漬ノズルおよび広範囲型浸漬ノズルの１つ以上を加熱したり、蓋または前記広範囲型浸漬ノズルと鋳型内壁との隙間部に不活性ガスを噴出したり、蓋または広範囲型浸漬ノズルと鋳型内壁との隙間部をシールすることが好ましい。 - 特許庁

Embodiments provide an immersion lithography exposure system comprising a wafer holder for holding a wafer, an immersion liquid for covering the wafer, an immersion head to dispense and contain the immersion liquid, and a light source adapted to lithographically expose a resist on the wafer.例文帳に追加

本発明の実施形態は、ウェハを保持するためのウェハ・ホルダと、ウェハを覆うための浸漬液と、前述の浸漬液を分配及び収容するための浸漬ヘッドと、ウェハ上のレジストをリソグラフィ露光するように適合された光源と、を含む浸漬リソグラフィ露光システムを提供する。 - 特許庁

Wherein, W: the width of the flame-shielding plate, W_o: the width of the spouting hole in the immersion nozzle, H: the height of the flame-shielding plate and H_o: the height of the spouting hole in the immersion nozzle.例文帳に追加

ここで、Ｗ：火炎遮蔽板幅、Ｗ_０：浸漬ノズル吐出孔幅、 Ｈ：火炎遮蔽板高さ、Ｈ_０：浸漬ノズル吐出孔高さ - 特許庁

The gas introducing part 4 is composed of a gas storing space 41 disposed so as to cover the surrounding of the immersion tube and plural pieces of blowing-out holes 42 arranged in the immersion tube so as to communicate the gas storing space 41 with the inner part of the immersion tube.例文帳に追加

ガス導入部４は，浸漬管の周囲を覆うように配置したガス溜め空間４１と，ガス溜め空間４１と浸漬管の内部とを連通するように浸漬管に設けた複数の吹出し口４２とよりなる。 - 特許庁

To provide an insulated board provided with a water immersion sensor capable of making water immersion into the immersion sensor prior to an electric circuit of the insulated board and decreasing a packaging area of the insulated board.例文帳に追加

浸水した場合において、絶縁基板の電気回路よりも先に浸水センサへ浸水させることができ、且つ絶縁基板の実装面積を減少させることができる浸水センサを備えた絶縁基板を提供する。 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

To make excellent the shape of a resist pattern obtained by the immersion lithography.例文帳に追加

浸漬リソグラフィにより得られるレジストパターンの形状を良好にする。 - 特許庁

To provide an immersion detecting device for an underwater rotating machine, capable of stably detecting immersion quantity regardless of it is during operation or stop time.例文帳に追加

運転時や停止時に限らず、安定して浸水量を検知することができる水中回転機器における浸水検知装置を提供する。 - 特許庁

IMMERSION NOZZLE FOR CONTINUOUS CASTING AND METHOD FOR CONTINUOUSLY CASTING Al-KILLED STEEL例文帳に追加

連続鋳造用浸漬ノズル及びＡｌキルド鋼の連続鋳造方法 - 特許庁

Immersion exposure is carried out in the state where the local liquid film is formed.例文帳に追加

局所的な液膜が形成された状態で液浸露光を行う。 - 特許庁

This immersion-type membrane separating device is used in a membrane-treated septic tank.例文帳に追加

膜処理型浄化槽に用いられる浸漬型膜分離装置である。 - 特許庁

PREHEATING METHOD OF IMMERSION NOZZLE FOR CONTINUOUS CASTING, AND CONTINUOUS CASTING METHOD例文帳に追加

連続鋳造用浸漬ノズルの予熱方法及び連続鋳造方法 - 特許庁

CONTINUOUS CASTING METHOD FOR MOLTEN METAL, AND IMMERSION LANCE FOR CONTINUOUS CASTING例文帳に追加

溶融金属の連続鋳造方法および連続鋳造用浸漬ランス - 特許庁

To prevent the presence of air bubbles in an immersion liquid to cause an adverse effect on the quality of a pattern image in an immersion lithography.例文帳に追加

液浸露光装置において、液浸用液体中に気泡が存在し、パターン像の品質に有害な影響が生じることを防止する。 - 特許庁

To provide a lithography apparatus for reducing the possibility of, for example, a leak of drops from an immersion space or generation of air bubbles into the immersion space.例文帳に追加

例えば、液浸空間からの滴の漏れ、または液浸空間への気泡の生成の可能性を低減するリソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁

An immersion liquid is provided to a space between a substrate table, a substrate, and a member.例文帳に追加

液浸液が基板テーブルと基板と部材の間に提供される。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for liquid immersion exposure, a cured pattern forming method and a cured pattern which are suitably used in a liquid immersion exposure process for exposing a resist film via a liquid for liquid immersion exposure such as water.例文帳に追加

水等の液浸露光用液体を介してレジスト膜を露光する液浸露光プロセスに好適に用いられる液浸露光用感放射線性樹脂組成物、硬化パターン形成方法及び硬化パターンを提供する。 - 特許庁