Immersionを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 3841件
IMMERSION NOZZLE FOR CONTINUOUSLY CASTING STEEL AND METHOD FOR CONTINUOUSLY CASTING STEEL例文帳に追加
鋼の連続鋳造用浸漬ノズルおよび鋼の連続鋳造方法 - 特許庁
VACUUM SYSTEM, IMMERSION EXPOSURE DEVICE AND METHOD FOR EXPOSURE, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加
真空システム、液浸露光装置及び露光方法、デバイス製造方法 - 特許庁
The new photoresist compositions are provided that are useful for immersion lithography.例文帳に追加
液浸リソグラフィーに有用な新規フォトレジスト組成物が提供される。 - 特許庁
To prevent the presence of air bubbles in an immersion liquid to cause an adverse effect on the quality of a pattern image in an immersion lithography apparatus.例文帳に追加
液浸露光装置において、液浸用液体中に気泡が存在し、パターン像の品質に有害な影響が生じることを防止する。 - 特許庁
An objective lens 2 and a solid immersion lens 3 are fixed to a lens holder 4.例文帳に追加
レンズホルダ4に対物レンズ2とソリッドイマージョンレンズ3とを固定する。 - 特許庁
NEGATIVE RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
液浸露光用ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
IMMERSION NOZZLE FOR CONTINUOUS CASTING AND CONTINUOUS CASTING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
連続鋳造用浸漬ノズル及びそれを用いた連続鋳造方法 - 特許庁
There is adopted the immersion nozzle 1 having a rectification projecting part 4 provided on the bottom face 3 on the inside of the immersion nozzle 1, wherein the center in the elongated direction is narrowed.例文帳に追加
浸漬ノズル1の内側底面3に延在方向中央が狭窄された整流突部4を設けた浸漬ノズル1を採用する。 - 特許庁
RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE, AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加
液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
The liquid immersion projection aligner is provided with a pressure nanometer 6a which measures the supply pressure of a liquid immersion liquid 4 or a differential pressure gage 7 which measures the differential pressure of the supply pressure of the liquid immersion liquid 4 and a recovery pressure.例文帳に追加
液浸投影露光装置において、液浸液4の供給圧力を測定する圧力計6aあるいは、液浸液4の供給圧力と回収圧力との差圧を測定する差圧計7を設ける。 - 特許庁
The water-quality improvement tool 1 is attached to an immersion type filtration device 8.例文帳に追加
水質改善具1は投げ込み式の濾過装置8に取り付けられる。 - 特許庁
To suppress enlargement of the footprint of a local immersion type exposure apparatus.例文帳に追加
局所液浸型の露光装置のフットプリントの大型化を抑制する。 - 特許庁
A liquid immersion solution supplied on the photo resist film 2 becomes hardly leaked out, and at the same time, air bubbles become hardly generated in the liquid immersion solution.例文帳に追加
フォトレジスト膜2上に供給される液浸浸液が漏出しにくくなると共に、その液浸液中に気泡が発生しにくくなる。 - 特許庁
As a result, uniformity can be improved in the immersion processing of the substrate W.例文帳に追加
その結果、基板Wの浸漬処理の均一性を向上できる。 - 特許庁
To provide an acrylic varnish for insulation treatment of coil immersion which can apply a treatment method which suppresses gelatinization at high vacuum and includes a vacuum state, such as immersion in vacuum, heating immersion in vacuum, heating degassing in vacuum, etc.例文帳に追加
高真空におけるゲル化を抑制し、真空含浸、加熱真空含浸、加熱真空脱泡などの真空状態を含む処理方法が適用可能なコイル含浸絶縁処理用アクリル系ワニスを提供する。 - 特許庁
In this immersion exposure method and device 1 for carrying out exposure by interposing immersion liquid L between a lens 10 and a chemical amplification type resist, surfactant solution is used as the immersion liquid L.例文帳に追加
本発明は、レンズ10と化学増幅型のレジストとの間に液侵液Lを介在させて露光を行う液侵露光方法および液侵露光装置1において、液侵液Lとして界面活性剤溶液を用いるものである。 - 特許庁
DEVICE FOR MOVING PARTS FROM IMMERSION IN LIQUID AND METHOD THEREFOR例文帳に追加
液体中での浸漬から部品を移動するための装置および方法 - 特許庁
Disclosed is a liquid immersion system used for a liquid immersion lithography in which a liquid meniscus between the liquid immersion system and its substrate is substantially hooked at a predetermined position by meniscus hook formation.例文帳に追加
液体閉じ込めシステムと基板の間の液体のメニスカスがメニスカスくぎ付け形体によって実質的に所定の位置にくぎ付けにされる、液浸リソグラフィに使用するための液体閉じ込めシステムが開示される。 - 特許庁
LIQUID IMMERSION EXPOSURE RESIST COMPOSITION AND PATTERNING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
A method of executing liquid immersion lithography on a semiconductor wafer is provided.例文帳に追加
半導体ウェハ上に液浸リソグラフィを実施する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a liquid immersion microscope capable of filling immersing liquid between a sample and a liquid immersion objective lens without producing air bubbles.例文帳に追加
標本と液浸対物レンズとの間に、気泡を発生させることなく浸液を充填することができる液浸顕微鏡を提供する。 - 特許庁
IMMERSION GOLD PLATING SOLUTION FOR COPPER BASE AND GOLD PLATING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
銅素地用置換金めっき液及びそれを用いる金めっき方法 - 特許庁
By carrying out a liquid immersion lithography process using the insoluble top coating film thus obtained as a barrier, a photoresist component is protected from dissolving into an immersion medium during exposure through the immersion medium.例文帳に追加
このように得られた不溶性のトップコーティング膜をバリヤーとして使用して液浸リソグラフィ工程を行うことによって、液浸媒体を通じた露光中にフォトレジスト成分が液浸媒体に溶解されることを防止できる。 - 特許庁
The liquid immersion fluid holder has a coating film configured so as to reduce the adhesiveness of a contaminant caused by a contaminant in the liquid immersion fluid.例文帳に追加
液浸流体ホルダーは、液浸流体中の汚染物質による汚染物資の付着を減少するように構成された被膜を有する。 - 特許庁
To provide a method of operating an immersion type membrane separator capable of keeping the stable operation of the immersion type membrane separator as a whole while substantially keeping the quantity of treated water, drain quantity and recovery of the immersion type membrane separator at a constant value.例文帳に追加
浸漬型膜分離装置の処理水量、排水量、回収率を実質的に一定に保ちながら、装置全体の安定運転を維持することが可能な浸漬型の膜分離装置の運転方法を提供する。 - 特許庁
SYSTEM AND METHOD FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
液浸露光装置及び液浸露光方法、並びにデバイス製造方法 - 特許庁
In the edge cleaning processing (S4), the immersion liquid is jetted with pressure equal to or higher than the pressure of the immersion liquid applied to the end of the wafer by movement of a stage where the wafer is mounted in the immersion lithography processing (S5).例文帳に追加
エッジ洗浄処理(S4)では、液浸露光処理(S5)においてウェハが戴置されるステージが移動することによりウェハの端部にかかる液浸液の圧力以上の圧力で液浸液を噴射させる。 - 特許庁
To provide a system, a method, and a program that measure the temperature of an immersion fluid and correct changes of immersion fluid temperatures.例文帳に追加
液浸流体の温度を測定し、液浸流体温度の変化を補償するシステム、方法及びコンピュータプログラムを提供することに関する。 - 特許庁
NON-IMMERSION TYPE MEMBRANE SEPARATION DEVICE IN WATER TREATMENT APPARATUS, AND OPERATION MANAGEMENT METHOD例文帳に追加
水処理装置の非浸漬型膜分離装置及び運転管理方法 - 特許庁
RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION LITHOGRAPHY, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
IMMERSION EXPOSURE APPARATUS, CONTROL METHOD THEREOF AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加
液浸露光装置及びその制御方法、並びにデバイス製造方法 - 特許庁
STEAM TYPE IMMERSION HEATER AND STEAM TYPE HEATING EQUIPMENT EQUIPPED WITH THE SAME例文帳に追加
蒸気式投げ込みヒーター及び該ヒーターを備えた蒸気式加熱装置 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR ESTIMATING AMOUNT OF WATER IMMERSION IN SWITCH例文帳に追加
開閉器浸水量推定方法及び開閉器浸水量推定装置 - 特許庁
CLEANING MEMBER FOR IMMERSION EXPOSURE DEVICE, AND CLEANING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
液浸露光装置用洗浄部材及びそれを用いた洗浄方法 - 特許庁
To provide a liquid immersion exposure method of forming a resist pattern easily.例文帳に追加
液浸露光方法において、レジストパターンの形成を容易にすること。 - 特許庁
To provide a lithographic apparatus, along with a method of manufacturing a device, capable of reducing the effect of air bubbles in immersion liquid on the focusing performance of immersion lithography.例文帳に追加
浸漬リソグラフィの結像品質に対する浸漬液中の気泡の影響を低減するリソグラフィ装置及びデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁
LIQUID COMPOSITE FOR IMMERSION LITHOGRAPHY, LITHOGRAPHING METHOD USING THE SAME, IMMERSION LITHOGRAPHING EQUIPMENT, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
イマージョンリソグラフィー用液体組成物及びこれを利用したリソグラフィー方法、イマージョンリソグラフィー装置、半導体素子及び半導体素子の製造方法 - 特許庁
It is possible to provide the liquid immersion exposure apparatus with a little impaired image performance, since a contamination of an iron and a particle to the ultrapure waters can be lessened which are oil immersion liquids used for the liquid immersion exposure.例文帳に追加
本発明によれば、液浸露光に使用する液浸液である超純水へのイオンやパーティクルの混入を少なくできることにより、像性能の劣化の少ない液浸型露光装置を提供することができる。 - 特許庁
IMMERSION METHOD OF TUBE AND TUBE TRANSFERABLE BLOCKING DEVICE USED THEREFOR例文帳に追加
管体の沈埋工法およびこれに用いる管路内移動型閉塞装置 - 特許庁
To provide an immersion method for a concrete pile facilitating the immersion of the pile, at the same time, reducing the volume of earth to be removed with the excavation as much as possible and preventing the rising of an earth removal expense.例文帳に追加
、杭の沈設を容易にすると共に、掘削に伴う排土の量を極力削減し、排土処理費用の高騰を防止する。 - 特許庁
The timber is immersed into an immersion liquid containing the treatment chemical.例文帳に追加
続いて、この木材を処理薬剤が含有された浸漬液に浸漬する。 - 特許庁
GAUGE HEAD FOR VISCOMETER, AND METHOD OF DETERMINING IMMERSION POSITION OF THE SAME例文帳に追加
粘度計用測定子および同測定子の浸漬位置の決定方法 - 特許庁
CONNECTION STRUCTURE BETWEEN CIRCULATING-FLOW TUBE AND IMMERSION TUBE AT BOTTOM PART OF VACUUM-DEGASSING TANK例文帳に追加
真空脱ガス槽底部の環流管と浸漬管との接続構造 - 特許庁
To provide a substrate stage capable of exposing an edge region of a substrate with a liquid immersion region formed well when subjecting the edge region to liquid immersion exposure.例文帳に追加
基板のエッジ領域を液浸露光する場合に良好に液浸領域を形成した状態で露光できる基板ステージを提供する。 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE AND RESIST PATTERN例文帳に追加
液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁
To provide a new photoresist process, particularly suitable for immersion lithography.例文帳に追加
液浸リソグラフィーに特に好適な新規のフォトレジストプロセスを提供する。 - 特許庁
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