「Immersion」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

TOP ANTIREFLECTION COATING MATERIAL FOR IMMERSION WATERMARK REDUCTION例文帳に追加

液浸リソグラフィのウォータマークを低減する上部反射防止膜の材料 - 特許庁

IMMERSION ALIGNER AND ITS METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

液浸露光装置とその方法、および、半導体デバイスの製造方法 - 特許庁

IMMERSION TREATMENT LIQUID FOR RUST PREVENTION OF PLATED CHROMIUM FILM, AND RUST-PREVENTING TREATMENT METHOD例文帳に追加

クロムめっき皮膜の防錆用浸漬処理液及び防錆処理方法 - 特許庁

The immersion treatment under heating, an alkali treatment of the plant bast in addition to the immersion treatment, and the like are especially preferable.例文帳に追加

上記浸漬処理を加温下に行うこと、上記浸漬処理に加えて植物靱皮を更にアルカリ処理に供すること、等が特に好ましい。 - 特許庁

METHOD OF TREATING SEMICONDUCTOR WAFER, SEMICONDUCTOR WAFER, METHOD OF EXECUTING LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY, AND EDGE BEAD ELIMINATING DEVICE USED TOGETHER WITH LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY PROCESSING例文帳に追加

半導体ウェハの処理方法，半導体ウェハ，液浸リソグラフィの実施方法，および液浸リソグラフィ処理と共に使用するエッジビード除去装置 - 特許庁

To shorten the time required for reducing hydrophobicity after liquid immersion exposure while the hydrophobicity of a film surface in liquid immersion exposure is increased.例文帳に追加

液浸露光時において被膜表面の疎水性を高くしつつ、液浸露光後における疎水性の低下に要する時間の短縮を図ること。 - 特許庁

Thereafter, the immersion depth of the immersion nozzle is stepwise deepened when the casting speed is constant and until a state which is a state close to a casting end.例文帳に追加

その後、鋳造速度が定速であり且つ鋳造終了時に近い状態にかけて、浸漬ノズルの浸漬深さを、段階的に深くする。 - 特許庁

Preferably, the heated acidic electrolytic water and the heated alkaline electrolytic water are kept at 55°C and the immersion time of seed rice is 15 minutes in each immersion, respectively.例文帳に追加

加温酸性電解水と加温アルカリ性電解水の温度を５５℃に保ち、種籾の浸漬時間を各１５分間とするのが好適ある。 - 特許庁

Thereafter, the immersion depth of the immersion nozzle is gradually deepened when the casting speed is constant and until a state which is a state close to a casting end.例文帳に追加

その後、鋳造速度が定速であり且つ鋳造終了時に近い状態にかけて、浸漬ノズルの浸漬深さを、徐々に深くする。 - 特許庁

To provide a solid immersion lens for satisfactorily holding the bonding state of a lens holding member, a focusing lens using this solid immersion lens, an optical pickup apparatus, an optical recording and reproducing apparatus and a method of forming the solid immersion lens.例文帳に追加

レンズ保持体との接着状態を良好に保持するソリッドイマージョンレンズとこれを用いた集光レンズ、光学ピックアップ装置、光記録再生装置及びソリッドイマージョンレンズの形成方法を提供する。 - 特許庁

To perform immersion exposure while efficiently maintaining an exposing apparatus.例文帳に追加

露光装置のメンテナンスを効率的に行いつつ液浸露光を実行する。 - 特許庁

To settle a loading method which stably floats an optical head in proximity field recording using the optical head on which an SIL(solid immersion lens) is mounted.例文帳に追加

ＳＩＬ（Solid Immersion Lens）搭載の光ヘッドを用いた近接場記録において、安定に光ヘッドを浮上させるためのローディング方法を確立する。 - 特許庁

IMMERSION NOZZLE FOR CONTINUOUS CASTING AND CONTINUOUS CASTING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

連続鋳造用浸漬ノズルおよびこれを用いた連続鋳造方法 - 特許庁

The photoresist composition can also be used for immersion exposure, dry exposure and the like.例文帳に追加

また、液浸露光のほか、ドライ露光などにも用いることができる。 - 特許庁

POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加

液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide a positive resist composition for immersion exposure improved in pattern falling, sensitivity and property of following an immersion liquid, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

パターン倒れ、感度、液浸液追随性が改善された液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an immersion nozzle for continuous casting capable of preventing the sticking of alumina into the inner hole of the immersion nozzle in the continuous casting of an aluminum-killed steel.例文帳に追加

アルミキルド鋼の連続鋳造における浸漬ノズル内孔でのアルミナ付着を防止することのできる連続鋳造用浸漬ノズルを提供する。 - 特許庁

To provide immersion exposure equipment capable of preventing a liquid from intruding into gaps existing among a plurality of components mounted on a stage of the immersion exposure equipment.例文帳に追加

液浸露光装置のステージ上に搭載された複数の部材間に存在する隙間への液体の侵入を防止できる液浸露光装置を提供する。 - 特許庁

The immersion membrane separation unit 12 is arranged in a reaction tank 10, and the inside of the tank is aerated through a diffusion pipe 16, and also the immersion membrane separation unit is washed with air.例文帳に追加

反応槽１０内に浸漬膜分離ユニット１２を配置し、散気管１６により槽内を曝気すると共に、浸漬膜分離ユニットを空気洗浄する。 - 特許庁

RESIST PROTECTIVE FILM COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

液浸露光用レジスト保護膜用組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

CLEANING METHOD FOR OPTICAL COMPONENT, IMMERSION PROJECTION ALIGNER AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加

光学部品の洗浄方法、液浸投影露光装置および露光方法 - 特許庁

To provide an immersion exposure device as well as a manufacturing method of a semiconductor device, capable of properly preventing contamination by the liquid for immersion exposure.例文帳に追加

液浸露光用の液体による汚染を適切に防止することが可能な液浸露光装置及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The immersion device immerses the ground plate into the melt 102 in the crucible 101.例文帳に追加

浸漬装置は、坩堝１０１内の融液１０２に下地板を浸漬する。 - 特許庁

To prevent an immersion liquid for use in liquid immersion lithography from affecting a resist film, and to obtain a pattern increased in fineness and having a satisfactory profile.例文帳に追加

液浸リソグラフィに用いる液浸用の液体によるレジスト膜への影響を防止して、良好な形状を有する微細化パターンを得られるようにする。 - 特許庁

To provide an immersion exposure device preventing an immersion agent from remaining and adhering to the last optical element of a projection optical system, and preventing exposure accuracy deterioration.例文帳に追加

投影光学系の最終光学素子に液浸剤が残留し付着することを防止し、露光精度の劣化を防止する液浸露光装置を提供する。 - 特許庁

RADIATION SENSITIVE ACID GENERATOR FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

液浸露光用感放射線性酸発生剤、その製造方法、液浸露光用感放射線性樹脂組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide an immersion-type lithography projection device with improved functionality.例文帳に追加

改善された機能性を有する浸漬式リソグラフィ投影装置を提供する。 - 特許庁

To provide a projection objective which is suitable for immersion lithography and whose imaging quality is stable even in the event of prolonged contact being made with immersion liquid.例文帳に追加

液浸リソグラフィーに適するとともに、浸液と長期的に接触しても安定した結像品質を有する投影対物レンズを提供する。 - 特許庁

To obtain a fine pattern having a preferable profile by preventing the influence of an immersion liquid to be used for immersion lithography on a resist film.例文帳に追加

液浸リソグラフィに用いる液浸用の液体によるレジスト膜への影響を防止して、良好な形状を有する微細化パターンを得られるようにする。 - 特許庁

Further preferably, the time desired for the immersion is 24 to 96 hr.例文帳に追加

更に好ましくは、前記浸漬する所要時間を２４〜９６時間とする。 - 特許庁

The immersion liquid is supplied into a seal member 12 through an inlet 128.例文帳に追加

浸漬液は入口１２８を介してシール部材１２内に供給される。 - 特許庁

To provide a resist composition for liquid immersion exposure, which has excellent immersion medium resistance and lithography characteristics at the same time, and to provide a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

優れた液浸媒体耐性およびリソグラフィー特性を両立できる液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the fourth step, the reaction product is immersed in an immersion solution prepared by adding acetic acid to the solvent, and an ultrasonic wave is applied to the immersion solution.例文帳に追加

第４工程では、酢酸を溶媒に添加した浸漬用溶液に反応生成物が浸漬され、さらに、浸漬用溶液に対して超音波が印加される。 - 特許庁

To efficiently adsorb and remove unnecessary particles in an immersion exposure device.例文帳に追加

液浸露光装置内の不要な粒子を効率よく吸着、除去する。 - 特許庁

A higher effect can be attained by intervening the immersion of the assemblage in a dilute acid solution between the its immersion in hot water at 50-90°C and its washing by passing it through ultrapure water.例文帳に追加

希薄酸液に浸漬したのち、さらに50度C以上90度C以下の熱水中に浸漬してから、超純水で通水洗浄するとさらに効果が高い。 - 特許庁

To provide a resist composition for immersion lithography suitable for use as a resist composition for immersion lithography and having good lithography characteristics, and to provide a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

液浸露光用として好適で、かつリソグラフィー特性も良好な液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The immersion member holds liquid between the member and an object so that an optical path of exposure light applied to the object is filled with the liquid to form an immersion space.例文帳に追加

液浸部材は、物体に照射される露光光の光路が液体で満たされるように物体との間で液体を保持して液浸空間を形成する。 - 特許庁

To provide an immersion type lithography projection apparatus with improved functionality.例文帳に追加

改善された機能性を有する浸漬式リソグラフィ投影装置を提供する。 - 特許庁

Particularly preferred photoresists can exhibit reduced leaching of resist materials into an immersion fluid in contact with the resist layer during immersion lithography processing.例文帳に追加

特に好ましい本発明のフォトレジストは、液浸リソグラフィー処理中にレジスト層に接触する液浸液中へのレジスト物質の滲出を軽減することができる。 - 特許庁

A liquid supply system for the liquid-immersion lithographic apparatus provides a laminar flow of immersion liquid between the final element of a projection system and a substrate.例文帳に追加

本発明の液浸リソグラフィ装置用の液体供給システムは、投影システムの最終要素と基板の間に浸漬液の層流を提供する。 - 特許庁

LIQUID IMMERSION EXPOSURE APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND DETERMINING METHOD OF EXPOSURE CONDITION例文帳に追加

液浸露光装置、デバイス製造方法、及び露光条件の決定方法 - 特許庁

The immersion liquid on the surface may have a contact angle of 60 degrees or higher.例文帳に追加

表面の液浸液は、６０°以上の接触角を有していてもよい。 - 特許庁

To carry out pattern formation by means of immersion lithography at low cost.例文帳に追加

液浸リソグラフィ法によるパターン形成を低コストで行なえるようにする。 - 特許庁

To prevent the fall-down of refractorys in an immersion tube in a vacuum degassing apparatus.例文帳に追加

真空脱ガス装置用浸漬管において、耐火物の脱落を防止する。 - 特許庁

PLASMA SURFACE TREATMENT FOR PREVENTING PATTERN COLLAPSE IN LIQUID IMMERSION PHOTOLITHOGRAPHY例文帳に追加

液浸リソグラフィーにおけるパターン崩壊を防止するためのプラズマ表面処理 - 特許庁