「Immersion」に関連した英語例文の一覧と使い方(23ページ目) - Weblio英語例文検索

To improve the profile of a resist pattern obtained by means of immersion lithography.例文帳に追加

液浸リソグラフィにより得られるレジストパターンの形状を良好にできるようにする。 - 特許庁

To provide a method for continuously casting steel by which the clogging of an immersion nozzle can be prevented by reducing inclusion thickness of alumina etc., stuck on the inner surface of the immersion nozzle.例文帳に追加

浸漬ノズルの内面に付着するアルミナ等の介在物厚みを低減して浸漬ノズルの閉塞を防止することができる鋼の連続鋳造方法を提供すること。 - 特許庁

PROTECTIVE FILM FORMING COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

液浸露光用保護膜形成組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a method for preventing or reducing contamination of an immersion type projection apparatus.例文帳に追加

液浸型投影装置の汚染を防止または低減する方法を提供する。 - 特許庁

To provide an immersion nozzle that the clogging of a slit and the drifting phenomenon during casting can be prevented, with respect to the immersion nozzle for continuous casting where arrange are slit is arranged at the bottom part.例文帳に追加

底部に一本のスリット５が配された連続鋳造用浸漬ノズル２において、鋳造中のスリット閉塞や偏流現象を防止できる浸漬ノズルを提供する。 - 特許庁

To excellently form a shape of a resist pattern obtained by immersion lithography.例文帳に追加

液浸リソグラフィにより得られるレジストパターンの形状を良好にできるようにする。 - 特許庁

To provide a liquid immersion microscope apparatus designed so as to restrain soil from sticking to the surface of a substrate (a part which is in contact with a liquid) during liquid immersion observation.例文帳に追加

液浸観察時の基板の表面（液体との接触部分）における汚れの付着を抑制することができる液浸顕微鏡装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a non-leaching adhesive system and its use in a liquid immersion objective.例文帳に追加

非浸出接着剤系及び液浸対物系におけるその使用を提供する。 - 特許庁

To provide a system to remove an immersion liquid capable of controlling the level of the immersion liquid present in space among a barrier member, a final element of a projection system and a substrate.例文帳に追加

バリア部材と投影システムの最終要素と基板との間のスペースにある液浸液のレベルを制御することができる、液浸液を除去するシステムを提供する。 - 特許庁

To provide a membrane immersion tank and membrane treatment apparatus where an immersion-type membrane unit can be easily installed in a proper position, so that workability can be easily improved.例文帳に追加

浸漬型膜ユニットを適当な位置に据え付けることが容易になって作業性の向上を図り易い膜浸漬槽及び膜処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION FOR USE IN LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

MARK SUBSTRATE, METHOD OF MANUFACTURING MARK SUBSTRATE, LIQUID IMMERSION EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

マーク基板、マーク基板の製造方法、液浸露光装置およびデバイス製造方法 - 特許庁

To provide a positive resist composition for liquid immersion lithography capable of suppressing elution of materials during liquid immersion lithography and excellent also in lithography characteristics, and a resist pattern forming method.例文帳に追加

液浸露光時の物質溶出を抑制でき、リソグラフィー特性にも優れた液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

LIQUID IMMERSION OBJECTIVE OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND BORDER OPTICAL ELEMENT例文帳に追加

液浸対物光学系、露光装置、デバイス製造方法、および境界光学素子 - 特許庁

To provide a sulfonium salt hardly migrating to a water phase in a resist for liquid immersion exposure.例文帳に追加

液浸露光用レジストにおいて水相に移行しないスルホニウム塩の提供 - 特許庁

The porous silica has ≤1.3 of a refractive index, in which the difference of the refractive indexes before immersion in water and after immersion in water for 24 hours is ≤0.15 at a wavelength of 550 nm.例文帳に追加

シリカ多孔質体を、屈折率を１．３以下にし、水に浸漬する前と、水に２４時間浸漬した後との波長５５０ｎｍでの屈折率差が０．１５以下とする。 - 特許庁

To eliminate the distributing nonuniformity of a polarizing state caused by the total reflection on a solid immersion lens when the solid immersion lens is adopted as an objective lens.例文帳に追加

対物レンズにソリッドイマージョンレンズを採用するにあたり、当該ソリッドイマージョンレンズにおける全反射に起因する偏光状態の分布の不均一性を解消する。 - 特許庁

The method for producing the protease inhibitor comprises the step of making an alkali immersion of plant tissue such as Oryza sativa tissue and the step of obtaining a protein fraction from the plant tissue subjected to the alkali immersion.例文帳に追加

イネなどの植物の組織をアルカリ浸漬する浸漬工程と、アルカリ浸漬された前記植物の組織からタンパク質画分を取得する画分取得工程とを備えた。 - 特許庁

To provide a solid immersion mirror(SIM) capable of forming a proper spot.例文帳に追加

適切なスポットを形成することができるソリッドイマージョンミラー（ＳＩＭ）を提供する。 - 特許庁

CONTINUOUS CASTING METHOD FOR MEDIUM TO HIGH CARBON STEEL, USING IMMERSION NOZZLE WITH HOURGLASS-SHAPED WEIR例文帳に追加

分割型堰付き浸漬ノズルを用いる中高炭素鋼の連続鋳造方法 - 特許庁

To provide a substrate processor capable of improving uniformity in immersion processing of a substrate.例文帳に追加

基板の浸漬処理の均一性を向上できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a seal member or barrier member with which turbulent flow is reduced and overflowing of immersion liquid is reduced in a liquid supply system for a liquid-immersion lithographic apparatus.例文帳に追加

液浸リソグラフィ装置用の液体供給システムにおいて、乱流を低減し、且つ浸漬液のオーバーフローを低減するシール部材またはバリア部材を提供すること。 - 特許庁

While increasing/decreasing the back pressure or the flowing quantity of the inert gas blown into the immersion nozzle 9 during casting, molten steel 17 is poured into a mold 2 via the immersion nozzle.例文帳に追加

浸漬ノズル９へ吹き込む不活性ガスの背圧または流量を鋳造中に増減させながら、該浸漬ノズルを介して溶鋼１７を鋳型２に注入する。 - 特許庁

To provide a solid immersion lens which has a shape for increasing a tilt margin between a lens and an optical recording medium and so on and allowing to decrease the diameter of a lens, and a method for forming the solid immersion lens.例文帳に追加

レンズと光記録媒体等との傾きマージンを大とし、かつレンズの小径化を可能とする形状のソリッドイマージョンレンズとその形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a hollow fiber membrane module of an immersion filter system which keeps the construction simplified.例文帳に追加

構造が簡略化された浸漬濾過方式の中空糸膜モジュールを提供する。 - 特許庁

In an immersion lithographic apparatus in which immersion liquid is supplied to a localized space, the space is substantially polygonal in plan substantially parallel to the substrate.例文帳に追加

局部空間に液浸液が供給される液浸リソグラフィ装置において、局部空間の平面図の形状が実質的に基板と平行の実質的に多角形である。 - 特許庁

HYDROPHONE WITH AUTOMATIC INHIBITION IN CASE AN ADJUSTABLE IMMERSION THRESHOLD IS EXCEEDED例文帳に追加

調整可能な浸漬しきい値を超えた場合の自動抑制機能を有するハイドロフォン - 特許庁

To provide a liquid immersion system capable of preventing a liquid from remaining on an object.例文帳に追加

物体上における液体の残留を抑制できる液浸システムを提供する。 - 特許庁

To realize good forming of the shape of a resist pattern obtained by an immersion lithography.例文帳に追加

浸漬リソグラフィにより得られるレジストパターンの形状を良好にできるようにする。 - 特許庁

To provide an excellent resist composition for liquid immersion exposure free from deterioration in DOF and in profile even when applied to liquid immersion exposure, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

液浸露光に適用した場合でもＤＯＦ及びプロファイルの劣化が無く優れた液浸露光用レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

SOLID IMMERSION LENS, CONDENSING LENS, OPTICAL PICKUP DEVICE AND OPTICAL RECORDING AND REPRODUCING DEVICE例文帳に追加

ソリッドイマージョンレンズ、集光レンズ、光学ピックアップ装置及び光記録再生装置 - 特許庁

Just below the immersion tube 2, an accommodating part 21 in an accommodating frame table 20 is positioned.例文帳に追加

浸漬管２の直下には、収容架台２０の収容部２１が位置している。 - 特許庁

To prevent the outer peripheral edge of an organic film from peeling from a substrate when an immersion liquid is moved from the outer peripheral stage to the exposure stage of a liquid immersion exposure apparatus.例文帳に追加

液浸液を液浸露光装置の外周ステージから露光ステージに向かって移動させる際に、有機膜の外周端縁が基板から剥離することを防止する。 - 特許庁

To provide an immersion type pump capable of simplifying the structure of its impeller and enhancing pump performance.例文帳に追加

浸漬型ポンプの羽根車の構造の簡素化とポンプ性能の向上を図る。 - 特許庁

The particularly-preferred photoresists can exhibit the reduced leaching of resist materials into an immersion fluid contacting with the resist layer during immersion lithography processing.例文帳に追加

本発明の特に好ましいフォトレジストは液浸リソグラフィー処理中のレジスト層と接触する液浸液中への、レジスト物質の滲出を低下させることができる。 - 特許庁

To provide a continuous casting method for steel where the sticking of alumina to the inner wall face of an immersion nozzle can be effectively suppressed, and the clogging of the immersion nozzle can be prevented.例文帳に追加

浸漬ノズルの内壁面にアルミナが付着するのを効果的に抑制し、浸漬ノズルの閉塞を防止することができる鋼の連続鋳造方法を提供する。 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

液浸露光用レジスト組成物、及びそれを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁

Particularly preferred photoresists can exhibits reduced leaching of resist materials into an immersion fluid contacting the resist layer during immersion lithography processing.例文帳に追加

特に好ましい本発明のフォトレジストは液浸リソグラフィー処理中にレジスト層に接触する液浸流体中にレジスト物質が漏出するのを低減することを示すことができる。 - 特許庁

To provide a liquid immersion solution just suitable for reduction in fall of resist pattern generated during liquid immersion exposure and reduction in fluctuation of resist sensitivity.例文帳に追加

液浸露光時に生じるレジストパターンの倒れおよびレジスト感度の変動を低減させるのに好適な液浸液及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A substrate is exposed to light in an immersion liquid supplied from a liquid supply system.例文帳に追加

基板は、液体供給システムから供給された浸漬液の中で露光される。 - 特許庁

And then by the immersion into a catalyst liquid, a colloidal particle-attached range 15 is formed.例文帳に追加

その後、触媒液への浸漬によりコロイド粒子付着領域１５を形成する。 - 特許庁

The magnesium alloy is supplied into a casting mold using an immersion nozzle and a lid covers the molten metal surface between the immersion nozzle and the inner wall of the casting mold.例文帳に追加

浸漬ノズルを用いて鋳型内にマグネシウム合金を供給し、蓋により浸漬ノズルと鋳型内壁との間の溶湯表面を覆うマグネシウム合金の連続鋳造方法。 - 特許庁

The immersion liquid for application to the hair is obtained by immersing a natural ore into water.例文帳に追加

水に天然鉱石を浸漬させて得られる毛髪施術用の浸漬液とした。 - 特許庁

A lithographic apparatus includes an immersion fluid system and an interferometer temperature detection system.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、液浸流体システム及び干渉計温度検出システムを備える。 - 特許庁

METHOD OF IMMERSION LITHOGRAPHY PROCESS ON SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND METHOD FOR TREATING SEMICONDUCTOR WAFER例文帳に追加

半導体基板の液浸リソグラフィ形成方法および半導体ウェハの処理方法 - 特許庁